| ■ 영문 제목 : Global Semiconductor Grade Reagents Market Growth 2025-2031 | |
 | ■ 상품코드 : LPK23JU0754 ■ 조사/발행회사 : LP Information ■ 발행일 : 2025년 3월 ■ 페이지수 : 127 ■ 작성언어 : 영어 ■ 보고서 형태 : PDF ■ 납품 방식 : E메일 ■ 조사대상 지역 : 글로벌 ■ 산업 분야 : 화학&재료 |
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| LPI (LP Information)의 최신 조사 보고서는 반도체용 시약의 과거 판매실적을 살펴보고 2024년의 반도체용 시약 판매실적을 검토하여 2025년부터 2031년까지 예상되는 반도체용 시약 판매에 대한 지역 및 시장 세그먼트별 포괄적인 분석을 제공합니다. 세계의 반도체용 시약 시장규모는 2024년 xxx백만 달러에서 연평균 xx% 성장하여 2031년에는 xxx백만 달러에 달할 것으로 예측되고 있습니다. 본 보고서의 시장규모 데이터는 무역 전쟁 및 러시아-우크라이나 전쟁의 영향을 반영했습니다. 본 보고서는 반도체용 시약의 세계시장에 관해서 조사, 분석한 자료로서, 기업별 시장 점유율, 지역별 시장규모 (미주, 미국, 캐나다, 멕시코, 브라질, 아시아, 중국, 일본, 한국, 동남아시아, 인도, 유럽, 독일, 프랑스, 영국, 이탈리아, 러시아, 중동/아프리카, 이집트, 남아프리카, 터키, 중동GCC국 등), 시장동향, 판매/유통업자/고객 리스트, 시장예측 (2026년-2031년), 주요 기업동향 (기업정보, 제품, 판매량, 매출, 가격, 매출총이익) 등의 정보를 포함하고 있습니다. 또한, 주요지역의 종류별 시장규모 (염산, 질산, 인산, 황산, 기타)와 용도별 시장규모 (에칭제, 세제, 기타) 데이터도 수록되어 있습니다. ***** 목차 구성 ***** 보고서의 범위 경영자용 요약 - 세계의 반도체용 시약 시장규모 2020년-2031년 - 지역별 반도체용 시약 시장분석 - 종류별 반도체용 시약 시장규모 2020년-2025년 (염산, 질산, 인산, 황산, 기타) - 용도별 반도체용 시약 시장규모 2020년-2025년 (에칭제, 세제, 기타) 기업별 반도체용 시약 시장분석 - 기업별 반도체용 시약 판매량 - 기업별 반도체용 시약 매출액 - 기업별 반도체용 시약 판매가격 - 주요기업의 반도체용 시약 생산거점, 판매거점 - 시장 집중도 분석 지역별 분석 - 지역별 반도체용 시약 판매량 2020년-2025년 - 지역별 반도체용 시약 매출액 2020년-2025년 미주 시장 - 미주의 반도체용 시약 시장규모 2020년-2025년 - 미주의 반도체용 시약 시장규모 : 종류별 - 미주의 반도체용 시약 시장규모 : 용도별 - 미국 반도체용 시약 시장규모 - 캐나다 반도체용 시약 시장규모 - 멕시코 반도체용 시약 시장규모 - 브라질 반도체용 시약 시장규모 아시아 시장 - 아시아의 반도체용 시약 시장규모 2020년-2025년 - 아시아의 반도체용 시약 시장규모 : 종류별 - 아시아의 반도체용 시약 시장규모 : 용도별 - 중국 반도체용 시약 시장규모 - 일본 반도체용 시약 시장규모 - 한국 반도체용 시약 시장규모 - 동남아시아 반도체용 시약 시장규모 - 인도 반도체용 시약 시장규모 유럽 시장 - 유럽의 반도체용 시약 시장규모 2020년-2025년 - 유럽의 반도체용 시약 시장규모 : 종류별 - 유럽의 반도체용 시약 시장규모 : 용도별 - 독일 반도체용 시약 시장규모 - 프랑스 반도체용 시약 시장규모 - 영국 반도체용 시약 시장규모 중동/아프리카 시장 - 중동/아프리카의 반도체용 시약 시장규모 2020년-2025년 - 중동/아프리카의 반도체용 시약 시장규모 : 종류별 - 중동/아프리카의 반도체용 시약 시장규모 : 용도별 - 이집트 반도체용 시약 시장규모 - 남아프리카 반도체용 시약 시장규모 - 중동GCC 반도체용 시약 시장규모 시장의 성장요인, 과제, 동향 - 시장의 성장요인, 기회 - 시장의 과제, 리스크 - 산업 동향 제조원가 구조 분석 - 원재료 및 공급업체 - 반도체용 시약의 제조원가 구조 분석 - 반도체용 시약의 제조 프로세스 분석 - 반도체용 시약의 산업체인 구조 마케팅, 유통업체, 고객 - 판매채널 - 반도체용 시약의 유통업체 - 반도체용 시약의 주요 고객 지역별 반도체용 시약 시장 예측 - 지역별 반도체용 시약 시장규모 예측 2026년-2031년 - 미주 지역 예측 - 아시아 지역 예측 - 유럽 지역 예측 - 중동/아프리카 지역 예측 - 반도체용 시약의 종류별 시장예측 (염산, 질산, 인산, 황산, 기타) - 반도체용 시약의 용도별 시장예측 (에칭제, 세제, 기타) 주요 기업 분석 (기업정보, 제품, 판매량, 매출, 가격, 매출총이익) - BASF, Arkema, Ashland, Do-Fluoride Chemicals, Eastman Chemical Company, FUJIFILM Corporation, Greenda Chemical, Honeywell, Israel Chemicals, Jiangyin Jianghua Microelectronics Materials, Kanto Chemical, LG Chem, Merck, Mitsubishi Chemical, Sanmei, Fujian Shaowu Yongfei Chemical, Shaowu Huaxin Chemical Industry, Solvay, Sumitomo Chemical, Suzhou Crystal Clear Chemical, TOKYO OHKA KOGYO, Wako Pure Chemical, Yingpeng Group, Zhejiang Kaiheng Electronic Materials 조사의 결론 |
LPI (LP Information)’ newest research report, the “Semiconductor Grade Reagents Industry Forecast” looks at past sales and reviews total world Semiconductor Grade Reagents sales in 2024, providing a comprehensive analysis by region and market sector of projected Semiconductor Grade Reagents sales for 2025 through 2031. With Semiconductor Grade Reagents sales broken down by region, market sector and sub-sector, this report provides a detailed analysis in US$ millions of the world Semiconductor Grade Reagents industry.
This Insight Report provides a comprehensive analysis of the global Semiconductor Grade Reagents landscape and highlights key trends related to product segmentation, company formation, revenue, and market share, latest development, and M&A activity. This report also analyzes the strategies of leading global companies with a focus on Semiconductor Grade Reagents portfolios and capabilities, market entry strategies, market positions, and geographic footprints, to better understand these firms’ unique position in an accelerating global Semiconductor Grade Reagents market.
This Insight Report evaluates the key market trends, drivers, and affecting factors shaping the global outlook for Semiconductor Grade Reagents and breaks down the forecast by type, by application, geography, and market size to highlight emerging pockets of opportunity. With a transparent methodology based on hundreds of bottom-up qualitative and quantitative market inputs, this study forecast offers a highly nuanced view of the current state and future trajectory in the global Semiconductor Grade Reagents.
The global Semiconductor Grade Reagents market size is projected to grow from US$ million in 2024 to US$ million in 2031; it is expected to grow at a CAGR of % from 2025 to 2031.
United States market for Semiconductor Grade Reagents is estimated to increase from US$ million in 2024 to US$ million by 2031, at a CAGR of % from 2025 through 2031.
China market for Semiconductor Grade Reagents is estimated to increase from US$ million in 2024 to US$ million by 2031, at a CAGR of % from 2025 through 2031.
Europe market for Semiconductor Grade Reagents is estimated to increase from US$ million in 2024 to US$ million by 2031, at a CAGR of % from 2025 through 2031.
Global key Semiconductor Grade Reagents players cover BASF, Arkema, Ashland, Do-Fluoride Chemicals, Eastman Chemical Company, FUJIFILM Corporation, Greenda Chemical, Honeywell and Israel Chemicals, etc. In terms of revenue, the global two largest companies occupied for a share nearly % in 2024.
This report presents a comprehensive overview, market shares, and growth opportunities of Semiconductor Grade Reagents market by product type, application, key manufacturers and key regions and countries.
[Market Segmentation]
Segmentation by type
by Acids
Hydrochloric Acid
Nitric Acid
Phosphoric Acid
Sulfuric Acid
Other
by Solvents
Acetone
Methanol
2-Propanol
Other
Segmentation by application
Etchant
Detergent
Other
This report also splits the market by region:
Americas
United States
Canada
Mexico
Brazil
APAC
China
Japan
Korea
Southeast Asia
India
Australia
Europe
Germany
France
UK
Italy
Russia
Middle East & Africa
Egypt
South Africa
Israel
Turkey
GCC Countries
The below companies that are profiled have been selected based on inputs gathered from primary experts and analyzing the company’s coverage, product portfolio, its market penetration.
BASF
Arkema
Ashland
Do-Fluoride Chemicals
Eastman Chemical Company
FUJIFILM Corporation
Greenda Chemical
Honeywell
Israel Chemicals
Jiangyin Jianghua Microelectronics Materials
Kanto Chemical
LG Chem
Merck
Mitsubishi Chemical
Sanmei
Fujian Shaowu Yongfei Chemical
Shaowu Huaxin Chemical Industry
Solvay
Sumitomo Chemical
Suzhou Crystal Clear Chemical
TOKYO OHKA KOGYO
Wako Pure Chemical
Yingpeng Group
Zhejiang Kaiheng Electronic Materials
[Key Questions Addressed in this Report]
What is the 10-year outlook for the global Semiconductor Grade Reagents market?
What factors are driving Semiconductor Grade Reagents market growth, globally and by region?
Which technologies are poised for the fastest growth by market and region?
How do Semiconductor Grade Reagents market opportunities vary by end market size?
How does Semiconductor Grade Reagents break out type, application?
What are the influences of trade war and Russia-Ukraine war?
1 Scope of the Report |
| ※참고 정보 ## 반도체용 시약: 고순도 화학 물질의 세계 반도체 산업은 현대 문명의 근간을 이루는 핵심 산업으로, 그 발전은 끊임없는 기술 혁신에 힘입고 있습니다. 이러한 기술 혁신의 밑바탕에는 극도로 높은 순도와 정밀한 제어가 요구되는 다양한 화학 물질, 즉 '반도체용 시약'이 존재합니다. 반도체용 시약은 우리가 일상적으로 접하는 화학 물질과는 근본적으로 다른 차원의 품질과 특성을 요구받으며, 이는 반도체 제조 공정의 복잡성과 미세화 수준을 반영하는 것이기도 합니다. **반도체용 시약의 개념 및 정의** 반도체용 시약은 반도체 웨이퍼 표면에 박막을 형성하거나, 불순물을 제거하거나, 특정 부분을 식각하는 등 반도체 제조 공정의 다양한 단계에서 사용되는 고순도의 화학 물질을 총칭합니다. 일반적인 화학 시약과 비교했을 때, 반도체용 시약은 극미량의 불순물조차도 반도체 소자의 성능 저하나 불량을 야기할 수 있기 때문에 상상하기 어려운 수준의 높은 순도를 요구받습니다. 이러한 순도 기준은 'ppb(parts per billion, 십억 분의 일)' 또는 'ppt(parts per trillion, 조 분의 일)' 단위로 관리되며, 특정 금속 이온이나 유기 불순물 등은 아예 검출되지 않아야 하는 경우도 많습니다. **반도체용 시약의 주요 특징** 반도체용 시약의 가장 두드러진 특징은 단연 **극도의 순도**입니다. 반도체 소자는 나노미터(nm) 단위의 미세한 구조로 이루어져 있으며, 이 미세한 구조 위에 존재하는 아주 작은 불순물 입자 하나가 전체 소자의 전기적 특성을 심각하게 왜곡시킬 수 있습니다. 예를 들어, 금속 불순물은 전류 경로를 단락시키거나 누설 전류를 발생시킬 수 있으며, 유기 불순물은 박막의 균일성을 해치거나 증착 과정에 문제를 일으킬 수 있습니다. 따라서 반도체용 시약은 원료 단계부터 제조, 보관, 운송, 사용에 이르기까지 모든 과정에서 오염을 철저히 차단하는 엄격한 관리 시스템 하에 생산됩니다. 두 번째 특징은 **안정성 및 일관성**입니다. 반도체 제조 공정은 수백 단계에 걸쳐 진행되며, 각 공정은 매우 정밀하게 제어되어야 합니다. 특정 시약의 농도, 온도, 압력 등이 미세하게 변동하더라도 전체 공정의 결과물에 큰 영향을 미칠 수 있습니다. 따라서 반도체용 시약은 제조 배치(batch)마다 균일한 품질과 성능을 유지해야 하며, 사용 환경에서의 안정성 또한 중요하게 고려됩니다. 이는 곧 공급업체에게는 매우 까다로운 품질 관리 능력을 요구하는 요소입니다. 세 번째로는 **특정 기능성**입니다. 반도체 공정은 다양한 목적을 가지고 있으며, 각 목적에 맞는 특성을 가진 시약이 사용됩니다. 예를 들어, 식각 공정에 사용되는 시약은 특정 물질만을 선택적으로 제거하는 특성을 가져야 하며, 증착 공정에 사용되는 시약은 균일하고 치밀한 박막을 형성할 수 있어야 합니다. 이러한 특성은 시약의 화학적 조성뿐만 아니라 물리적 상태(액체, 기체, 고체) 및 입자 크기 등 다양한 요인에 의해 결정됩니다. 마지막으로 **안전성 및 환경 규제 준수** 역시 중요한 특징입니다. 반도체 공정에는 인체에 유해하거나 환경에 악영향을 줄 수 있는 다양한 화학 물질이 사용됩니다. 따라서 반도체용 시약은 관련 법규 및 규제를 준수하여 안전하게 취급 및 폐기되어야 하며, 친환경적인 대체 시약 개발 노력도 지속적으로 이루어지고 있습니다. **반도체용 시약의 주요 종류 및 용도** 반도체 제조 공정은 크게 산화, 포토 리소그래피, 식각, 박막 증착, 이온 주입, 금속 배선 형성, 연마 등 여러 단계로 나뉘며, 각 단계마다 특화된 시약이 사용됩니다. 주요 시약의 종류와 용도는 다음과 같습니다. * **에칭(Etching)용 시약**: 웨이퍼 표면의 특정 부분을 선택적으로 제거하여 회로 패턴을 형성하는 데 사용됩니다. * **습식 식각(Wet Etching)용 시약**: 산화막, 금속막, 질화막 등을 제거하는 데 사용되는 액체 화학물질입니다. 예를 들어, 불산(HF)은 산화막 제거에, 질산(HNO₃)과 불산의 혼합액은 금속 배선 제거에 사용됩니다. 인산(H₃PO₄)은 질화막 제거에 주로 활용됩니다. * **건식 식각(Dry Etching)용 시약**: 플라즈마 상태의 반응성 가스를 이용하여 특정 물질을 증발시켜 제거하는 데 사용됩니다. 염소(Cl₂), 브롬(Br₂), 불소(F₂) 계열의 가스나 CF₄, SF₆ 등 불소화합물 가스 등이 대표적입니다. 이들은 고순도의 기체 형태로 공급되며, 특정 물질에 대한 높은 선택성과 낮은 손상도를 가지도록 정밀하게 제어됩니다. * **박막 증착(Deposition)용 시약**: 반도체 소자의 절연막, 전도성 막 등을 형성하기 위해 사용됩니다. * **화학 기상 증착(Chemical Vapor Deposition, CVD)용 시약**: 가스 상태의 반응물을 웨이퍼 표면으로 공급하여 화학 반응을 통해 박막을 형성합니다. 실리콘 산화막(SiO₂) 형성을 위한 테트라에톡시실란(TEOS)이나 실란(SiH₄), 실리콘 질화막(Si₃N₄) 형성을 위한 암모니아(NH₃)와 실란(SiH₄), 금속 박막 형성을 위한 금속 유기 화합물(예: TDMAT, TMCTS 등) 등이 사용됩니다. * **원자층 증착(Atomic Layer Deposition, ALD)용 시약**: 반응물을 순차적으로 주입하여 원자 단위로 박막을 정밀하게 성장시키는 기술에 사용됩니다. 실리콘 산화막, 질화막, 금속 산화막 등 다양한 박막 증착에 활용되며, 고순도의 유기 금속 화합물이나 무기 화합물 가스가 사용됩니다. * **세정(Cleaning)용 시약**: 웨이퍼 표면의 불순물이나 잔류물을 제거하여 다음 공정을 위한 깨끗한 환경을 조성합니다. * **황산(H₂SO₄), 과산화수소(H₂O₂), 불산(HF)** 등을 혼합한 RCA 세정 용액은 유기물, 금속 불순물, 산화막 등을 효과적으로 제거하는 데 널리 사용됩니다. 또한, 다양한 유기 용제나 초순수(UPW, Ultra-Pure Water)도 세정 공정에 필수적으로 사용됩니다. * **이온 주입(Ion Implantation)용 가스**: 특정 불순물 원자(도펀트)를 웨이퍼 내부로 주입하여 반도체 특성을 조절하는 데 사용됩니다. 인(P), 비소(As), 붕소(B) 등의 원소를 포함하는 고순도의 가스(예: 포스핀(PH₃), 아르신(AsH₃), 디보란(B₂H₆))가 사용됩니다. * **감광액(Photoresist, PR) 및 관련 용제**: 포토 리소그래피 공정에서 회로 패턴을 웨이퍼에 전사하는 데 사용되는 핵심 재료입니다. 감광액 자체는 물론, 현상액, 박리액 등과 함께 사용되는 다양한 유기 용제들이 고순도로 관리됩니다. * **연마(Polishing)용 슬러리**: 화학 기계적 연마(Chemical Mechanical Polishing, CMP) 공정에서 웨이퍼 표면을 평탄화하는 데 사용됩니다. 연마 입자(연마제)와 연마를 돕는 화학 물질(산화제, 부식제 등)이 포함된 액체 슬러리로 공급됩니다. **관련 기술 및 발전 동향** 반도체용 시약 산업은 반도체 기술의 발전과 궤를 같이하며 끊임없이 진화하고 있습니다. 특히 미세화 공정의 가속화는 더욱 엄격한 순도 관리와 새로운 기능성을 가진 시약 개발의 필요성을 증대시키고 있습니다. * **극미량 불순물 제어 기술**: ppb, ppt 수준을 넘어 더 낮은 수준의 불순물까지 완벽하게 제어하기 위한 분석 기술 및 정제 기술이 고도화되고 있습니다. 고감도 질량 분석기(ICP-MS 등)를 이용한 불순물 분석 및 초순수 제조 기술, 이온 교환 수지, 활성탄 흡착, 증류 등 다양한 정제 기술이 적용됩니다. * **친환경 시약 개발**: 유해성이 높은 기존 시약을 대체할 수 있는 친환경적인 물질 개발이 중요한 이슈로 떠오르고 있습니다. 특히 습식 식각이나 세정 공정에서 사용되는 암모니아, 불산 등의 대체재 연구가 활발히 진행 중입니다. * **새로운 소재 및 공정을 위한 시약 개발**: EUV(Extreme Ultraviolet) 리소그래피와 같은 차세대 공정이나 새로운 박막 재료 개발에 맞춰, 해당 공정에 적합한 새로운 조성과 특성을 가진 시약 개발의 중요성이 커지고 있습니다. * **안전한 취급 및 공급 시스템**: 고순도 시약은 매우 민감하고 일부는 위험성이 있기 때문에, 오염 방지 및 안전한 취급을 위한 특수 용기, 배관 시스템, 공급망 관리 기술 등이 중요하게 다루어지고 있습니다. 반도체용 시약은 보이지 않는 곳에서 반도체 산업의 혁신을 견인하는 숨은 주역이라고 할 수 있습니다. 앞으로도 기술 발전의 요구에 부응하여 더욱 까다로운 품질과 새로운 기능을 갖춘 고부가가치 시약들이 개발될 것이며, 이는 미래 반도체 산업의 발전에 중요한 동력이 될 것입니다. |
| ※본 조사보고서 [세계의 반도체용 시약 시장예측 2025년-2031년] (코드 : LPK23JU0754) 판매에 관한 면책사항을 반드시 확인하세요. |
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