| ■ 영문 제목 : Global Semiconductor Gases Market Growth 2025-2031 | |
 | ■ 상품코드 : LPK23JU0529 ■ 조사/발행회사 : LP Information ■ 발행일 : 2025년 3월 ■ 페이지수 : 115 ■ 작성언어 : 영어 ■ 보고서 형태 : PDF ■ 납품 방식 : E메일 ■ 조사대상 지역 : 글로벌 ■ 산업 분야 : 화학&재료 |
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| LPI (LP Information)의 최신 조사 보고서는 반도체용 가스의 과거 판매실적을 살펴보고 2024년의 반도체용 가스 판매실적을 검토하여 2025년부터 2031년까지 예상되는 반도체용 가스 판매에 대한 지역 및 시장 세그먼트별 포괄적인 분석을 제공합니다. 세계의 반도체용 가스 시장규모는 2024년 xxx백만 달러에서 연평균 xx% 성장하여 2031년에는 xxx백만 달러에 달할 것으로 예측되고 있습니다. 본 보고서의 시장규모 데이터는 무역 전쟁 및 러시아-우크라이나 전쟁의 영향을 반영했습니다. 본 보고서는 반도체용 가스의 세계시장에 관해서 조사, 분석한 자료로서, 기업별 시장 점유율, 지역별 시장규모 (미주, 미국, 캐나다, 멕시코, 브라질, 아시아, 중국, 일본, 한국, 동남아시아, 인도, 유럽, 독일, 프랑스, 영국, 이탈리아, 러시아, 중동/아프리카, 이집트, 남아프리카, 터키, 중동GCC국 등), 시장동향, 판매/유통업자/고객 리스트, 시장예측 (2026년-2031년), 주요 기업동향 (기업정보, 제품, 판매량, 매출, 가격, 매출총이익) 등의 정보를 포함하고 있습니다. 또한, 주요지역의 종류별 시장규모 (수소, 삼불화질소, 염소 가스, 실리콘 가스, 암모니아 가스, 기타)와 용도별 시장규모 (챔버 클린, 산화, 층착, 에칭, 도핑, 기타) 데이터도 수록되어 있습니다. ***** 목차 구성 ***** 보고서의 범위 경영자용 요약 - 세계의 반도체용 가스 시장규모 2020년-2031년 - 지역별 반도체용 가스 시장분석 - 종류별 반도체용 가스 시장규모 2020년-2025년 (수소, 삼불화질소, 염소 가스, 실리콘 가스, 암모니아 가스, 기타) - 용도별 반도체용 가스 시장규모 2020년-2025년 (챔버 클린, 산화, 층착, 에칭, 도핑, 기타) 기업별 반도체용 가스 시장분석 - 기업별 반도체용 가스 판매량 - 기업별 반도체용 가스 매출액 - 기업별 반도체용 가스 판매가격 - 주요기업의 반도체용 가스 생산거점, 판매거점 - 시장 집중도 분석 지역별 분석 - 지역별 반도체용 가스 판매량 2020년-2025년 - 지역별 반도체용 가스 매출액 2020년-2025년 미주 시장 - 미주의 반도체용 가스 시장규모 2020년-2025년 - 미주의 반도체용 가스 시장규모 : 종류별 - 미주의 반도체용 가스 시장규모 : 용도별 - 미국 반도체용 가스 시장규모 - 캐나다 반도체용 가스 시장규모 - 멕시코 반도체용 가스 시장규모 - 브라질 반도체용 가스 시장규모 아시아 시장 - 아시아의 반도체용 가스 시장규모 2020년-2025년 - 아시아의 반도체용 가스 시장규모 : 종류별 - 아시아의 반도체용 가스 시장규모 : 용도별 - 중국 반도체용 가스 시장규모 - 일본 반도체용 가스 시장규모 - 한국 반도체용 가스 시장규모 - 동남아시아 반도체용 가스 시장규모 - 인도 반도체용 가스 시장규모 유럽 시장 - 유럽의 반도체용 가스 시장규모 2020년-2025년 - 유럽의 반도체용 가스 시장규모 : 종류별 - 유럽의 반도체용 가스 시장규모 : 용도별 - 독일 반도체용 가스 시장규모 - 프랑스 반도체용 가스 시장규모 - 영국 반도체용 가스 시장규모 중동/아프리카 시장 - 중동/아프리카의 반도체용 가스 시장규모 2020년-2025년 - 중동/아프리카의 반도체용 가스 시장규모 : 종류별 - 중동/아프리카의 반도체용 가스 시장규모 : 용도별 - 이집트 반도체용 가스 시장규모 - 남아프리카 반도체용 가스 시장규모 - 중동GCC 반도체용 가스 시장규모 시장의 성장요인, 과제, 동향 - 시장의 성장요인, 기회 - 시장의 과제, 리스크 - 산업 동향 제조원가 구조 분석 - 원재료 및 공급업체 - 반도체용 가스의 제조원가 구조 분석 - 반도체용 가스의 제조 프로세스 분석 - 반도체용 가스의 산업체인 구조 마케팅, 유통업체, 고객 - 판매채널 - 반도체용 가스의 유통업체 - 반도체용 가스의 주요 고객 지역별 반도체용 가스 시장 예측 - 지역별 반도체용 가스 시장규모 예측 2026년-2031년 - 미주 지역 예측 - 아시아 지역 예측 - 유럽 지역 예측 - 중동/아프리카 지역 예측 - 반도체용 가스의 종류별 시장예측 (수소, 삼불화질소, 염소 가스, 실리콘 가스, 암모니아 가스, 기타) - 반도체용 가스의 용도별 시장예측 (챔버 클린, 산화, 층착, 에칭, 도핑, 기타) 주요 기업 분석 (기업정보, 제품, 판매량, 매출, 가격, 매출총이익) - SK Materials, Versum Materials, Air Liquide, Taiyo Nippon Sanso, Praxair-Linde, Kanto Denka, Showa Denko, Air Products and Chemicals, Hyosung, Sumitomo Seika Chemicals, Central Glass, The 718th Research Institute of CSSC, Adeka, REC, Mitsui Chemical, Tokuyama, Guangdong Huate Gas 조사의 결론 |
The semiconductor industry is one of the most dynamic, sophisticated, and competitive markets worldwide. As it continues to grow, so too does the demand for ultra-pure gases and chemicals. A reliable supply of high purity gases is critical to advanced semiconductor manufacturing. Producing an integrated circuit requires over 30 different process gases for etching, deposition, oxidation, doping, and inerting applications. The range of gases used is broader than in virtually any other industry. Trace impurities at the parts-per-million, parts-per- billion, and even parts-per-trillion levels must be measured and eliminated.
LPI (LP Information)’ newest research report, the “Semiconductor Gases Industry Forecast” looks at past sales and reviews total world Semiconductor Gases sales in 2024, providing a comprehensive analysis by region and market sector of projected Semiconductor Gases sales for 2025 through 2031. With Semiconductor Gases sales broken down by region, market sector and sub-sector, this report provides a detailed analysis in US$ millions of the world Semiconductor Gases industry.
This Insight Report provides a comprehensive analysis of the global Semiconductor Gases landscape and highlights key trends related to product segmentation, company formation, revenue, and market share, latest development, and M&A activity. This report also analyzes the strategies of leading global companies with a focus on Semiconductor Gases portfolios and capabilities, market entry strategies, market positions, and geographic footprints, to better understand these firms’ unique position in an accelerating global Semiconductor Gases market.
This Insight Report evaluates the key market trends, drivers, and affecting factors shaping the global outlook for Semiconductor Gases and breaks down the forecast by type, by application, geography, and market size to highlight emerging pockets of opportunity. With a transparent methodology based on hundreds of bottom-up qualitative and quantitative market inputs, this study forecast offers a highly nuanced view of the current state and future trajectory in the global Semiconductor Gases.
The global Semiconductor Gases market size is projected to grow from US$ 3536.9 million in 2024 to US$ 6056.7 million in 2031; it is expected to grow at a CAGR of 6056.7 from 2025 to 2031.
The global sales of Semiconductor Gases increased from 63932 tons in 2015 to 98816 tons in 2019, at a CAGR of 11.50%. The global Semiconductor Gases market size is expected to gain market growth in the forecast period of 2019 to 2026, with a CAGR of 7.66% in the forecast period of 2019 to 2026. In the future, the market in developed countries will have some growth and the market in developing countries will have a faster growth rate.
This report presents a comprehensive overview, market shares, and growth opportunities of Semiconductor Gases market by product type, application, key manufacturers and key regions and countries.
[Market Segmentation]
Segmentation by type
Hydrogen
Nitrogen Trifluoride
Chlorine Gas
Silicon Gases
Ammonia Gas
Others
Segmentation by application
Chamber Clean
Oxidation
Deposition
Etching
Doping
Others
This report also splits the market by region:
Americas
United States
Canada
Mexico
Brazil
APAC
China
Japan
Korea
Southeast Asia
India
Australia
Europe
Germany
France
UK
Italy
Russia
Middle East & Africa
Egypt
South Africa
Israel
Turkey
GCC Countries
The below companies that are profiled have been selected based on inputs gathered from primary experts and analyzing the company’s coverage, product portfolio, its market penetration.
SK Materials
Versum Materials
Air Liquide
Taiyo Nippon Sanso
Praxair-Linde
Kanto Denka
Showa Denko
Air Products and Chemicals
Hyosung
Sumitomo Seika Chemicals
Central Glass
The 718th Research Institute of CSSC
Adeka
REC
Mitsui Chemical
Tokuyama
Guangdong Huate Gas
[Key Questions Addressed in this Report]
What is the 10-year outlook for the global Semiconductor Gases market?
What factors are driving Semiconductor Gases market growth, globally and by region?
Which technologies are poised for the fastest growth by market and region?
How do Semiconductor Gases market opportunities vary by end market size?
How does Semiconductor Gases break out type, application?
What are the influences of trade war and Russia-Ukraine war?
1 Scope of the Report |
| ※참고 정보 ## 반도체 제조 공정의 핵심, 반도체용 가스의 모든 것 반도체 산업은 현대 문명의 근간을 이루는 기술 집약적인 산업이며, 그 제조 과정은 극도로 정밀하고 복잡합니다. 이러한 복잡한 공정 속에서 반도체용 가스는 마치 우리 몸에 필수적인 산소와 같이 없어서는 안 될 중요한 역할을 수행합니다. 반도체용 가스는 웨이퍼 위에 회로를 형성하고, 불순물을 제거하며, 다양한 물질을 증착시키는 등 반도체 칩의 성능과 수율을 결정짓는 핵심적인 소재입니다. 본 글에서는 반도체용 가스의 개념과 특징, 주요 종류 및 용도에 대해 심도 있게 다루어보고자 합니다. 반도체용 가스는 기본적으로 반도체 제조 공정에서 특정 목적을 달성하기 위해 사용되는 기체 상태의 물질을 총칭합니다. 이러한 가스들은 일반적인 산업용 가스와는 비교할 수 없는 수준의 고순도를 요구하며, 미량의 불순물도 반도체 소자의 전기적 특성에 치명적인 영향을 미칠 수 있기 때문에 엄격한 품질 관리가 이루어집니다. 반도체용 가스의 특징은 다음과 같이 요약될 수 있습니다. 첫째, **초고순도(Ultra-high Purity)**가 가장 두드러진 특징입니다. 반도체 공정에서는 나노미터(nm) 단위의 미세한 구조물을 만들기 때문에, 가스 내 불순물은 마치 거대한 바위와 같은 역할을 하여 공정의 실패를 유발할 수 있습니다. 일반적으로 반도체용 가스는 99.999% 이상의 순도를 가지며, 이를 "파이브 나인(five nine)"이라고 부르기도 합니다. 이러한 초고순도를 달성하기 위해 제조 과정에서부터 이중, 삼중의 정제 과정을 거치며, 특수 용기 및 배관 시스템을 사용하여 오염을 최소화합니다. 둘째, **안정성 및 취급 용이성** 또한 중요한 고려 사항입니다. 많은 반도체용 가스들은 반응성이 높거나 독성을 가질 수 있으므로, 안전하게 저장, 운송 및 공급하기 위한 특수 기술과 설비가 요구됩니다. 예를 들어, 일부 가스는 극저온 상태에서 액화하여 운송되거나, 특정 압력 하에서 가압되어 실린더에 저장됩니다. 이러한 가스들의 특성을 이해하고 안전하게 취급하는 것은 작업자의 안전과 공정의 안정성을 확보하는 데 필수적입니다. 셋째, **다양한 화학적 특성**을 지닌다는 점입니다. 반도체 공정은 크게 산화, 증착, 식각, 세정 등 다양한 단계로 나뉘는데, 각 단계마다 요구되는 화학적 반응을 일으키는 데 적합한 가스가 사용됩니다. 어떤 가스는 금속 박막을 증착하는 데 사용되고, 어떤 가스는 웨이퍼 표면의 불필요한 물질을 제거하는 데 사용되며, 또 다른 가스는 절연막을 형성하는 데 사용됩니다. 이러한 다양한 화학적 특성은 반도체 제조의 폭넓은 공정 요구를 충족시키는 원동력이 됩니다. 이제 반도체용 가스의 주요 종류와 그 용도에 대해 살펴보겠습니다. 반도체용 가스는 크게 **불활성 가스, 반응성 가스, 도핑 가스** 등으로 분류할 수 있으며, 각 그룹 내에서도 다양한 종류의 가스가 존재합니다. **불활성 가스(Inert Gases)**는 화학적으로 반응하지 않는 안정된 가스들로, 주로 공정 중 불순물이나 산소의 유입을 방지하기 위한 보호 분위기 형성, 잔류 가스 제거, 퍼지(purging) 등의 목적으로 사용됩니다. 가장 대표적인 불활성 가스로는 **질소(N2)**와 **아르곤(Ar)**이 있습니다. 질소는 공기 중에 가장 풍부하게 존재하며 비교적 저렴하여 가장 광범위하게 사용되는 가스입니다. 웨이퍼 이송, 장비 내부 분위기 제어, 불활성 분위기 조성 등에 활용됩니다. 아르곤은 질소보다 비활성도가 높아 더욱 엄격한 불활성 분위기 유지가 필요할 때 사용되며, 플라즈마 공정이나 증착 공정에서 전자의 공급원 또는 충돌 물질로도 활용됩니다. 또한, **헬륨(He)**은 원자량이 가장 작고 열전도율이 높아 냉각 시스템이나 진공 펌프의 작동 유체로도 사용됩니다. **반응성 가스(Reactive Gases)**는 반도체 제조 공정에서 화학 반응을 직접적으로 일으키는 역할을 하는 가스들입니다. 이는 반도체 소자의 성능과 직접적으로 관련된 중요한 가스들입니다. * **산소(O2)**: 실리콘 산화막(SiO2)을 형성하는 산화 공정에 필수적으로 사용됩니다. 고온에서 실리콘과 반응하여 절연성을 가진 이산화규소층을 형성하며, 이는 반도체 소자의 절연 및 보호 역할을 합니다. 또한, 일부 식각 공정에서도 산화제로 사용되기도 합니다. * **수소(H2)**: 다양한 역할을 수행하는 중요한 반응성 가스입니다. 웨이퍼 표면의 산화막을 제거하는 환원제로 사용되거나, 증착 공정에서 특정 화합물을 형성하기 위한 반응 물질로 사용됩니다. 또한, 특정 금속 증착 공정에서 불순물과의 반응을 억제하는 역할도 합니다. * **암모니아(NH3)**: 질화막(Si3N4)을 형성하는 데 사용되는 가스입니다. 질화막은 우수한 절연성과 화학적 안정성을 가지고 있어, 트랜지스터의 게이트 절연막이나 기타 절연층 형성에 활용됩니다. * **염소(Cl2)** 및 **불소(F2) 계열 가스**: 이들은 주로 식각(Etching) 공정에 사용됩니다. 웨이퍼 표면에 형성된 패턴에 따라 불필요한 물질을 선택적으로 제거하는 역할을 하는데, 특정 화학 결합을 끊는 강한 반응성을 가집니다. * **염소(Cl2), 사염화탄소(CCl4), 삼염화인(PCl3)** 등 염소계 가스는 실리콘, 실리콘 산화막 등을 식각하는 데 주로 사용됩니다. * **불화수소(HF), 사불화탄소(CF4), 삼불화질소(NF3)** 등 불소계 가스는 실리콘 산화막, 질화막 등 다양한 물질을 식각하는 데 효과적입니다. 특히 불소계 가스는 플라즈마 상태에서 라디칼을 형성하여 미세하고 정밀한 식각을 가능하게 합니다. 이러한 가스들은 매우 반응성이 높고 부식성이 강하기 때문에, 취급 및 관리에 각별한 주의가 요구됩니다. **도핑 가스(Doping Gases)**는 반도체의 전기적 특성을 변화시키기 위해 불순물 원자를 주입하는 도핑 공정에 사용되는 가스입니다. 실리콘과 같은 반도체는 순수한 상태에서는 전기가 잘 통하지 않지만, 소량의 불순물을 첨가함으로써 전도성을 조절할 수 있습니다. * **인(P) 도핑 가스**: 포스핀(PH3)이 대표적입니다. 포스핀은 n형 반도체를 형성하는 데 사용되며, 실리콘 격자 내에 인 원자가 치환되면서 잉여 전자를 제공하여 전도성을 높입니다. * **붕소(B) 도핑 가스**: 보란(BH3)이나 삼염화붕소(BCl3) 등이 사용됩니다. 보란은 p형 반도체를 형성하는 데 사용되며, 붕소 원자가 실리콘 격자 내에 치환되면서 전자 궤도에 빈 공간을 만들어 정공(hole)을 생성하고 전도성을 높입니다. 이 외에도 반도체 공정의 특정 단계나 신소재 증착을 위해 다양한 특수 가스들이 사용됩니다. 예를 들어, 메탈 배선 형성을 위한 금속 유기 증착(MOCVD) 공정에서는 **텅스텐 헥사플루오라이드(WF6)**, **티타늄 테트라클로라이드(TiCl4)** 와 같은 금속 할로겐화물 가스가 사용됩니다. 또한, 유기 발광 다이오드(OLED)나 차세대 메모리 소자 등 첨단 기술 개발과 함께 새로운 특성을 가진 가스들의 사용도 증가하고 있습니다. 반도체용 가스는 단순히 물질의 공급을 넘어, 해당 가스를 효율적이고 안전하게 공급 및 제어하는 **가스 공급 시스템(Gas Supply System)**과도 밀접하게 관련되어 있습니다. 초고순도 가스를 오염 없이 웨이퍼가 처리되는 공정 챔버까지 안정적으로 전달하기 위해서는 특수 재질의 배관, 밸브, 필터, 유량 제어 장치 등이 필수적입니다. 또한, 사용 후 발생하는 부산물이나 폐가스를 안전하게 처리하는 **가스 스크러버(Gas Scrubber)** 시스템도 중요한 역할을 합니다. 더 나아가, 반도체 기술이 발전함에 따라 더욱 미세한 회로 패턴 구현과 새로운 공정 개발이 요구되고 있습니다. 이는 기존 가스의 성능 향상뿐만 아니라, 새로운 반응성이나 특성을 가진 가스의 개발을 필요로 합니다. 예를 들어, 나노미터 스케일의 미세 패턴을 정밀하게 식각하기 위해서는 더욱 선택적인 반응성을 가진 가스나, 플라즈마 밀도를 높여 효율을 개선할 수 있는 가스들이 연구되고 있습니다. 결론적으로, 반도체용 가스는 반도체 산업의 발전에 있어 빼놓을 수 없는 핵심 요소입니다. 초고순도, 안정성, 그리고 다양한 화학적 특성을 바탕으로 반도체 웨이퍼 위에 복잡하고 정밀한 회로를 구현하는 데 결정적인 역할을 수행하고 있습니다. 질소, 아르곤과 같은 불활성 가스부터 산소, 수소, 염소, 불소 계열의 반응성 가스, 그리고 도핑 가스에 이르기까지, 각기 다른 특성을 가진 가스들이 최적의 조합으로 사용되어 오늘날 우리가 사용하는 스마트 기기, 컴퓨터, 통신 장비 등 첨단 기술 제품의 근간을 형성하고 있습니다. 앞으로도 반도체 기술의 지속적인 발전에 따라 더욱 혁신적인 반도체용 가스와 관련 기술의 개발이 가속화될 것으로 기대됩니다. |
| ※본 조사보고서 [세계의 반도체용 가스 시장예측 2025년-2031년] (코드 : LPK23JU0529) 판매에 관한 면책사항을 반드시 확인하세요. |
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