| ■ 영문 제목 : Global Epitaxial Equipment Market Growth 2025-2031 | |
 | ■ 상품코드 : LPK23JL1430 ■ 조사/발행회사 : LP Information ■ 발행일 : 2025년 3월 ■ 페이지수 : 116 ■ 작성언어 : 영어 ■ 보고서 형태 : PDF ■ 납품 방식 : E메일 ■ 조사대상 지역 : 글로벌 ■ 산업 분야 : 전자&반도체 |
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| LP인포메이션 (LPI) 의 최신 조사 자료는 에피택시 장치의 과거 판매실적을 살펴보고 2024년의 에피택시 장치 판매실적을 검토하여 2025년부터 2031년까지 예상되는 에피택시 장치 판매에 대한 지역 및 시장 세그먼트별 포괄적인 분석을 제공합니다. 글로벌 에피택시 장치 시장규모는 2024년 xxx백만 달러에서 연평균 xx% 성장하여 2031년에는 xxx백만 달러에 달할 것으로 예측되고 있습니다. 본 보고서의 시장규모 데이터는 무역 전쟁 및 러시아-우크라이나 전쟁의 영향을 반영했습니다. 본 조사 자료는 글로벌 에피택시 장치 시장에 관해서 조사, 분석한 보고서로서, 기업별 시장 점유율, 지역별 시장규모 (미주, 미국, 캐나다, 멕시코, 브라질, 아시아 태평양, 중국, 일본, 한국, 동남아시아, 인도, 유럽, 독일, 프랑스, 영국, 이탈리아, 러시아, 중동/아프리카, 이집트, 남아프리카, 터키, 중동GCC국 등), 시장동향, 판매/유통업자/고객 리스트, 시장예측 (2026년-2031년), 주요 기업동향 (기업정보, 제품, 판매량, 매출, 가격, 매출총이익) 등의 정보를 수록하고 있습니다. 또한, 주요지역의 종류별 (MOCVD 장치, 분자선 에피택시 장치, 기타 CVD 장치) 시장규모와 용도별 (LED 산업, 가전 기기, 기타) 시장규모 데이터도 포함되어 있습니다. ***** 목차 구성 ***** 보고서의 범위 경영자용 요약 - 글로벌 에피택시 장치 시장규모 2020년-2031년 - 지역별 에피택시 장치 시장분석 - 종류별 에피택시 장치 시장규모 2020년-2025년 (MOCVD 장치, 분자선 에피택시 장치, 기타 CVD 장치) - 용도별 에피택시 장치 시장규모 2020년-2025년 (LED 산업, 가전 기기, 기타) 기업별 에피택시 장치 시장분석 - 기업별 에피택시 장치 판매량 - 기업별 에피택시 장치 매출액 - 기업별 에피택시 장치 판매가격 - 주요기업의 에피택시 장치 생산거점, 판매거점 - 시장 집중도 분석 지역별 분석 - 지역별 에피택시 장치 판매량 2020년-2025년 - 지역별 에피택시 장치 매출액 2020년-2025년 미주 시장 - 미주의 에피택시 장치 시장규모 2020년-2025년 - 미주의 에피택시 장치 시장규모 : 종류별 - 미주의 에피택시 장치 시장규모 : 용도별 - 미국 에피택시 장치 시장규모 - 캐나다 에피택시 장치 시장규모 - 멕시코 에피택시 장치 시장규모 - 브라질 에피택시 장치 시장규모 아시아 태평양 시장 - 아시아 태평양의 에피택시 장치 시장규모 2020년-2025년 - 아시아 태평양의 에피택시 장치 시장규모 : 종류별 - 아시아 태평양의 에피택시 장치 시장규모 : 용도별 - 중국 에피택시 장치 시장규모 - 일본 에피택시 장치 시장규모 - 한국 에피택시 장치 시장규모 - 동남아시아 에피택시 장치 시장규모 - 인도 에피택시 장치 시장규모 유럽 시장 - 유럽의 에피택시 장치 시장규모 2020년-2025년 - 유럽의 에피택시 장치 시장규모 : 종류별 - 유럽의 에피택시 장치 시장규모 : 용도별 - 독일 에피택시 장치 시장규모 - 프랑스 에피택시 장치 시장규모 - 영국 에피택시 장치 시장규모 중동/아프리카 시장 - 중동/아프리카의 에피택시 장치 시장규모 2020년-2025년 - 중동/아프리카의 에피택시 장치 시장규모 : 종류별 - 중동/아프리카의 에피택시 장치 시장규모 : 용도별 - 이집트 에피택시 장치 시장규모 - 남아프리카 에피택시 장치 시장규모 - 중동GCC 에피택시 장치 시장규모 시장의 성장요인, 과제, 동향 - 시장의 성장요인, 기회 - 시장의 과제, 리스크 - 산업 동향 제조원가 구조 분석 - 원재료 및 공급업체 - 에피택시 장치의 제조원가 구조 분석 - 에피택시 장치의 제조 프로세스 분석 - 에피택시 장치의 산업체인 구조 마케팅, 유통업체, 고객 - 판매채널 - 에피택시 장치의 유통업체 - 에피택시 장치의 주요 고객 지역별 에피택시 장치 시장 예측 - 지역별 에피택시 장치 시장규모 예측 2026년-2031년 - 미주 시장 예측 - 아시아 태평양 시장 예측 - 유럽 시장 예측 - 중동/아프리카 시장 예측 - 에피택시 장치의 종류별 시장예측 (MOCVD 장치, 분자선 에피택시 장치, 기타 CVD 장치) - 에피택시 장치의 용도별 시장예측 (LED 산업, 가전 기기, 기타) 주요 기업 분석 (기업정보, 제품, 판매량, 매출, 가격, 매출총이익) - AIXTRON, Advanced Micro-Fabrication Equipment Inc, Veeco, LPE (Italy), TAIYO NIPPON SANSO, ASMI, Applied Material, NuFlare, Tokyo Electron, CETC, NAURA, Riber, DCA, Scienta Omicron, Pascal, Dr. Eberl MBE-Komponenten GmbH 조사의 결과/결론 |
LPI (LP Information)’ newest research report, the “Epitaxial Equipment Industry Forecast” looks at past sales and reviews total world Epitaxial Equipment sales in 2024, providing a comprehensive analysis by region and market sector of projected Epitaxial Equipment sales for 2025 through 2031. With Epitaxial Equipment sales broken down by region, market sector and sub-sector, this report provides a detailed analysis in US$ millions of the world Epitaxial Equipment industry.
This Insight Report provides a comprehensive analysis of the global Epitaxial Equipment landscape and highlights key trends related to product segmentation, company formation, revenue, and market share, latest development, and M&A activity. This report also analyzes the strategies of leading global companies with a focus on Epitaxial Equipment portfolios and capabilities, market entry strategies, market positions, and geographic footprints, to better understand these firms’ unique position in an accelerating global Epitaxial Equipment market.
This Insight Report evaluates the key market trends, drivers, and affecting factors shaping the global outlook for Epitaxial Equipment and breaks down the forecast by type, by application, geography, and market size to highlight emerging pockets of opportunity. With a transparent methodology based on hundreds of bottom-up qualitative and quantitative market inputs, this study forecast offers a highly nuanced view of the current state and future trajectory in the global Epitaxial Equipment.
The global Epitaxial Equipment market size is projected to grow from US$ 1279.7 million in 2024 to US$ 1737 million in 2031; it is expected to grow at a CAGR of 1737 from 2025 to 2031.
Global Epitaxial Equipment includes AIXTRON, Advanced Micro, ASMI, NuFlare, etc. Global top four companies hold a share over 56%. North America is the largest market, with a share about 25%, followed by China and Japan with the share about 24% and 12%.
This report presents a comprehensive overview, market shares, and growth opportunities of Epitaxial Equipment market by product type, application, key manufacturers and key regions and countries.
[Market Segmentation]
Segmentation by type
MOCVD Equipment
Molecular Beam Epitaxy Equipment
Other CVD Devices
Segmentation by application
LED Industry
Consumer Electrons
Others
This report also splits the market by region:
Americas
United States
Canada
Mexico
Brazil
APAC
China
Japan
Korea
Southeast Asia
India
Australia
Europe
Germany
France
UK
Italy
Russia
Middle East & Africa
Egypt
South Africa
Israel
Turkey
GCC Countries
The below companies that are profiled have been selected based on inputs gathered from primary experts and analyzing the company’s coverage, product portfolio, its market penetration.
AIXTRON
Advanced Micro-Fabrication Equipment Inc
Veeco
LPE (Italy)
TAIYO NIPPON SANSO
ASMI
Applied Material
NuFlare
Tokyo Electron
CETC
NAURA
Riber
DCA
Scienta Omicron
Pascal
Dr. Eberl MBE-Komponenten GmbH
[Key Questions Addressed in this Report]
What is the 10-year outlook for the global Epitaxial Equipment market?
What factors are driving Epitaxial Equipment market growth, globally and by region?
Which technologies are poised for the fastest growth by market and region?
How do Epitaxial Equipment market opportunities vary by end market size?
How does Epitaxial Equipment break out type, application?
What are the influences of trade war and Russia-Ukraine war?
1 Scope of the Report |
| ※참고 정보 에피택시 장치(Epitaxial Equipment)는 반도체 산업에서 매우 중요한 역할을 수행하는 설비입니다. 에피택시(Epitaxy)는 결정질 박막을 기존의 결정질 기판 위에 성장시키는 기술을 의미하며, 이러한 에피택시 공정을 수행하기 위해 사용되는 장비가 바로 에피택시 장치입니다. 이 장치는 기판 위에 원하는 조성과 결정 구조를 가진 얇은 결정층을 정밀하게 성장시켜, 최종적으로 고성능의 반도체 소자를 구현하는 데 필수적입니다. 에피택시 장치의 근본적인 개념은 마치 씨앗을 심어 식물을 키우듯, 이미 형성된 결정질 기판의 격자 구조를 본떠 그 위에 똑같은 결정 구조를 가진 새로운 결정층을 성장시키는 것입니다. 이때 성장되는 박막은 기판과 동일한 결정 방향과 우수한 결정성을 가지는 것이 중요합니다. 이를 통해 전기적, 광학적 특성이 뛰어난 고품질의 박막을 얻을 수 있으며, 이는 곧 고성능 반도체 소자 구현으로 이어집니다. 에피택시 장치의 주요 특징은 다음과 같습니다. 첫째, **정밀한 온도 및 압력 제어**입니다. 에피택시 공정은 매우 민감한 온도와 압력 조건에서 진행되며, 이러한 조건을 정밀하게 제어하는 것이 박막의 품질을 결정짓는 핵심 요소입니다. 온도 변화는 반응 가스의 확산 속도, 증착 속도, 박막의 결정성 및 조성 등에 직접적인 영향을 미치므로, 매우 좁은 범위 내에서 일정하게 유지되어야 합니다. 둘째, **고순도 반응 가스 공급 시스템**입니다. 에피택시 공정에는 실리콘(Si), 게르마늄(Ge), 갈륨비소(GaAs), 질화갈륨(GaN) 등 다양한 화합물 반도체의 원료가 되는 가스들이 사용됩니다. 이러한 가스들은 매우 높은 순도를 요구하며, 미량의 불순물도 박막의 성능을 크게 저하시킬 수 있으므로, 고순도 유지가 필수적입니다. 셋째, **균일한 증착 능력**입니다. 웨이퍼 전체에 걸쳐 균일한 두께와 조성을 가진 박막을 성장시키는 것은 집적회로의 성능 균일성을 확보하는 데 중요합니다. 이를 위해 장비는 가스 공급, 반응 구역 설계, 온도 분포 등을 최적화하여 높은 균일성을 달성합니다. 넷째, **다양한 박막 증착 기술 지원**입니다. 에피택시 장치는 CVD(화학 기상 증착), MBE(분자빔 에피택시) 등 다양한 성장 방식을 지원하며, 이를 통해 다양한 종류의 박막을 성장시킬 수 있습니다. 에피택시 장치의 종류는 크게 두 가지로 나눌 수 있습니다. 첫 번째는 **화학 기상 증착(Chemical Vapor Deposition, CVD) 방식의 에피택시 장치**입니다. 이는 반응 가스가 고온의 웨이퍼 표면에서 화학 반응을 일으켜 박막을 형성하는 방식입니다. CVD 방식은 대량 생산에 적합하고 비교적 저렴하게 장비를 구축할 수 있다는 장점이 있습니다. CVD 방식 중에서도 특히 **유기금속 화학 기상 증착(Metal-Organic Chemical Vapor Deposition, MOCVD)**은 III-V족 화합물 반도체(예: GaAs, GaN) 박막 증착에 널리 사용됩니다. MOCVD는 유기금속 화합물 전구체를 사용하여 복잡한 조성을 가진 화합물 반도체 박막을 고품질로 성장시킬 수 있다는 특징이 있습니다. 또한, **플라즈마 강화 화학 기상 증착(Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition, PECVD)**은 저온에서도 증착이 가능하여 열에 민감한 기판이나 공정에 활용될 수 있습니다. 두 번째는 **분자빔 에피택시(Molecular Beam Epitaxy, MBE) 방식의 에피택시 장치**입니다. MBE는 진공 상태에서 기판을 가열하고, 원자나 분자의 형태로 된 소스 물질을 증기 상태로 직접 방출하여 기판 표면에 닿게 함으로써 박막을 성장시키는 방식입니다. MBE는 매우 낮은 증착 속도로 원자층 단위의 정밀한 두께 제어가 가능하며, 매우 우수한 결정성과 초고진공 환경을 제공한다는 장점이 있습니다. 이를 통해 초격자(superlattice) 구조와 같이 복잡하고 정밀한 구조의 박막을 성장시키는 데 매우 효과적입니다. MBE는 주로 연구 개발이나 고부가가치 반도체 소자 제작에 활용됩니다. 에피택시 장치의 주요 용도는 반도체 소자의 핵심적인 부분에 고품질의 박막을 형성하는 것입니다. 예를 들어, **트랜지스터의 활성층(active layer)**이나 **고이동도 채널(high mobility channel)**을 성장시키는 데 사용됩니다. 특히, 최신 반도체 기술에서는 서로 다른 두께와 조성을 가진 여러 층의 박막을 순차적으로 성장시켜 독특한 전기적, 광학적 특성을 구현하는 데 에피택시 공정이 필수적입니다. 이러한 기술은 **MOSFET(Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor)**의 성능 향상, **FinFET(Fin Field-Effect Transistor)**이나 **GAAFET(Gate-All-Around Field-Effect Transistor)**과 같은 3차원 구조 트랜지스터의 게이트 전극 및 채널 부분 제작에 활용됩니다. 또한, **조명 및 디스플레이에 사용되는 LED(Light Emitting Diode) 및 LD(Laser Diode)** 제조에도 에피택시 기술이 광범위하게 사용됩니다. 특히, 질화갈륨(GaN) 기반의 고휘도 LED나 청색 레이저 다이오드는 MOCVD 장비를 이용하여 사파이어나 탄화규소(SiC) 기판 위에 에피층을 성장시켜 만듭니다. 그 외에도 에피택시 장치는 **고속 통신에 사용되는 고주파 디바이스**나 **고성능 센서** 등을 제작하는 데 필수적입니다. 실리콘 게르마늄(SiGe) 이종 접합 트랜지스터(HBT)와 같이 서로 다른 물질을 계면에서 정밀하게 접합시켜 전자의 이동 속도를 높이는 기술도 에피택시 공정을 통해 구현됩니다. 또한, **광통신 분야에서 사용되는 광소자**나 **태양전지**의 효율을 높이기 위한 박막 증착에도 에피택시 기술이 적용될 수 있습니다. 에피택시 장치와 관련된 주요 기술로는 **기판 준비 기술**이 있습니다. 에피택시 공정의 성공 여부는 기판의 표면 상태에 크게 좌우되므로, 기판 표면의 오염을 제거하고 원자적으로 매끄러운 표면을 만드는 것이 매우 중요합니다. 이를 위해 다양한 세정 및 표면 처리 기술이 사용됩니다. 또한, **소스 가스 및 전구체 기술**은 에피택시 박막의 조성, 결정성 및 도핑 농도를 결정하는 데 중요한 역할을 합니다. 고품질의 박막을 얻기 위해서는 순도가 높고 반응성이 좋은 소스 물질을 개발하고 사용하는 것이 필수적입니다. **실시간 공정 모니터링 및 제어 기술** 또한 에피택시 장치의 성능을 좌우하는 중요한 요소입니다. 광학 현미경, 분광학적 분석 장비, 전자빔 산란 회절(LEED) 등 다양한 분석 장비를 이용하여 박막 성장 과정을 실시간으로 모니터링하고, 이를 바탕으로 온도, 압력, 가스 유량 등의 공정 변수를 능동적으로 제어하여 최적의 박막 품질을 유지합니다. 최근에는 **인공지능(AI) 및 머신러닝(ML) 기술**을 활용하여 공정 데이터를 분석하고, 예측 모델을 구축하여 공정 최적화 및 불량 감소에 활용하려는 연구도 활발히 진행되고 있습니다. 결론적으로, 에피택시 장치는 현대 반도체 산업에서 필수 불가결한 장비로서, 고품질의 결정질 박막을 정밀하게 성장시키는 핵심적인 역할을 수행합니다. 이를 통해 트랜지스터, LED, 레이저 다이오드 등 다양한 첨단 반도체 소자의 성능과 기능을 결정짓는 중요한 공정 기술을 가능하게 합니다. 끊임없이 발전하는 반도체 기술의 요구에 부응하기 위해 에피택시 장치 역시 더욱 정밀하고 효율적인 공정을 지원하기 위한 기술 개발이 지속적으로 이루어지고 있습니다. |
| ※본 조사보고서 [글로벌 에피택시 장치 시장 2025-2031] (코드 : LPK23JL1430) 판매에 관한 면책사항을 반드시 확인하세요. |
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