| ■ 영문 제목 : Global Post CMP Residue Removal Market 2024 by Manufacturers, Regions, Type and Application, Forecast to 2030 | |
 | ■ 상품코드 : GIR2407E41864 ■ 조사/발행회사 : Globalinforesearch ■ 발행일 : 2024년 4월 ■ 페이지수 : 약100 ■ 작성언어 : 영어 ■ 보고서 형태 : PDF ■ 납품 방식 : E메일 (주문후 2-3일 소요) ■ 조사대상 지역 : 글로벌 ■ 산업 분야 : 부품/재료 |
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조사회사 Global Info Research의 최신 조사에 따르면, 세계의 포스트 CMP 잔류물 제거제 시장 규모는 2023년에 XXX백만 달러로 분석되었으며, 검토 기간 동안 xx%의 CAGR로 2030년까지 XXX백만 달러의 재조정된 규모로 성장이 예측됩니다.
Global Info Research 보고서에는 포스트 CMP 잔류물 제거제 산업 체인 동향 개요, 금속 불순물, 유기 잔류물 응용분야 및 선진 및 개발 도상국의 주요 기업의 시장 현황, 포스트 CMP 잔류물 제거제의 최첨단 기술, 특허, 최신 용도 및 시장 동향을 분석했습니다.
지역별로는 주요 지역의 포스트 CMP 잔류물 제거제 시장을 분석합니다. 북미와 유럽은 정부 이니셔티브와 수요자 인식 제고에 힘입어 꾸준한 성장세를 보이고 있습니다. 아시아 태평양, 특히 중국은 탄탄한 내수 수요와 지원 정책, 강력한 제조 기반을 바탕으로 글로벌 포스트 CMP 잔류물 제거제 시장을 주도하고 있습니다.
[주요 특징]
본 보고서는 포스트 CMP 잔류물 제거제 시장에 대한 포괄적인 이해를 제공합니다. 본 보고서는 산업에 대한 전체적인 관점과 개별 구성 요소 및 이해 관계자에 대한 자세한 통찰력을 제공합니다. 본 보고서는 포스트 CMP 잔류물 제거제 산업 내의 시장 역학, 동향, 과제 및 기회를 분석합니다. 또한, 거시적 관점에서 시장을 분석하는 것이 포함됩니다.
시장 규모 및 세분화: 본 보고서는 판매량, 매출 및 종류별 (예 : 산성 물질, 알칼리성 물질)의 시장 점유율을 포함한 전체 시장 규모에 대한 데이터를 수집합니다.
산업 분석: 보고서는 정부 정책 및 규제, 기술 발전, 수요자 선호도, 시장 역학 등 광범위한 산업 동향을 분석합니다. 이 분석은 포스트 CMP 잔류물 제거제 시장에 영향을 미치는 주요 동인과 과제를 이해하는데 도움이 됩니다.
지역 분석: 본 보고서에는 지역 또는 국가 단위로 포스트 CMP 잔류물 제거제 시장을 조사하는 것이 포함됩니다. 보고서는 정부 인센티브, 인프라 개발, 경제 상황 및 수요자 행동과 같은 지역 요인을 분석하여 다양한 시장 내의 변화와 기회를 식별합니다.
시장 전망: 보고서는 수집된 데이터와 분석을 통해 포스트 CMP 잔류물 제거제 시장에 대한 미래 전망 및 예측을 다룹니다. 여기에는 시장 성장률 추정, 시장 수요 예측, 새로운 트렌드 파악 등이 포함될 수 있습니다. 본 보고서에는 포스트 CMP 잔류물 제거제에 대한 보다 세분화된 접근 방식도 포함됩니다.
기업 분석: 본 보고서는 포스트 CMP 잔류물 제거제 제조업체, 공급업체 및 기타 관련 업계 플레이어를 다룹니다. 이 분석에는 재무 성과, 시장 포지셔닝, 제품 포트폴리오, 파트너십 및 전략에 대한 조사가 포함됩니다.
수요자 분석: 보고서는 포스트 CMP 잔류물 제거제에 대한 수요자 행동, 선호도 및 태도에 대한 데이터를 다룹니다. 여기에는 설문 조사, 인터뷰 및 응용 분야별 (금속 불순물, 유기 잔류물)의 다양한 수요자 리뷰 및 피드백 분석이 포함될 수 있습니다.
기술 분석: 포스트 CMP 잔류물 제거제과 관련된 특정 기술을 다루는 보고서입니다. 포스트 CMP 잔류물 제거제 분야의 현재 상황 및 잠재적 미래 발전 가능성을 평가합니다.
경쟁 환경: 본 보고서는 개별 기업, 공급업체 및 수요업체를 분석하여 포스트 CMP 잔류물 제거제 시장의 경쟁 환경에 대한 통찰력을 제공합니다. 이 분석은 시장 점유율, 경쟁 우위 및 업계 플레이어 간의 차별화 가능성을 이해하는 데 도움이 됩니다.
시장 검증: 본 보고서에는 설문 조사, 인터뷰 및 포커스 그룹과 같은 주요 조사를 통해 결과 및 예측을 검증하는 작업이 포함됩니다.
[시장 세분화]
포스트 CMP 잔류물 제거제 시장은 종류 및 용도별로 나뉩니다. 2019-2030년 기간 동안 세그먼트 간의 시장규모에 대한 정확한 계산 및 예측을 볼륨 및 금액 측면에서 제공합니다.
종류별 시장 세그먼트
– 산성 물질, 알칼리성 물질
용도별 시장 세그먼트
– 금속 불순물, 유기 잔류물
주요 대상 기업
– Entegris, Versum Materials (Merck KGaA), Mitsubishi Chemical Corporation, Fujifilm, DuPont, Kanto Chemical Company, Inc., BASF SE, Solexir, Technic, Anji Microelectronics
지역 분석은 다음을 포함합니다.
– 북미 (미국, 캐나다, 멕시코)
– 유럽 (독일, 프랑스, 영국, 러시아, 이탈리아)
– 아시아 태평양 (중국, 일본, 한국, 인도, 동남아시아, 호주)
– 남미 (브라질, 아르헨티나, 콜롬비아)
– 중동 및 아프리카 (사우디아라비아, 아랍에미리트, 이집트, 남아프리카공화국)
본 조사 보고서는 아래 항목으로 구성되어 있습니다.
– 포스트 CMP 잔류물 제거제 제품 범위, 시장 개요, 시장 추정, 주의 사항 및 기준 연도를 설명합니다.
– 2019년부터 2024년까지 포스트 CMP 잔류물 제거제의 가격, 판매량, 매출 및 세계 시장 점유율과 함께 포스트 CMP 잔류물 제거제의 주요 제조업체를 프로파일링합니다.
– 포스트 CMP 잔류물 제거제 경쟁 상황, 판매량, 매출 및 주요 제조업체의 글로벌 시장 점유율이 상세하게 분석 됩니다.
– 포스트 CMP 잔류물 제거제 상세 데이터는 2019년부터 2030년까지 지역별 판매량, 소비금액 및 성장성을 보여주기 위해 지역 레벨로 표시됩니다.
– 2019년부터 2030년까지 판매량 시장 점유율 및 성장률을 종류별, 용도별로 분류합니다.
– 2017년부터 2023년까지 세계 주요 국가의 판매량, 소비금액 및 시장 점유율과 함께 국가 레벨로 판매 데이터를 분류하고, 2025년부터 2030년까지 판매량 및 매출과 함께 지역, 종류 및 용도별로 포스트 CMP 잔류물 제거제 시장 예측을 수행합니다.
– 시장 역학, 성장요인, 저해요인, 동향 및 포터의 다섯 가지 힘 분석.
– 주요 원자재 및 주요 공급 업체, 포스트 CMP 잔류물 제거제의 산업 체인.
– 포스트 CMP 잔류물 제거제 판매 채널, 유통 업체, 고객(수요기업), 조사 결과 및 결론을 설명합니다.
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■ 보고서 목차■ 시장 개요 ■ 제조업체 프로필 Entegris Versum Materials (Merck KGaA) Mitsubishi Chemical Corporation ■ 제조업체간 경쟁 환경 ■ 지역별 소비 분석 ■ 종류별 시장 세분화 ■ 용도별 시장 세분화 ■ 북미 ■ 유럽 ■ 아시아 태평양 ■ 남미 ■ 중동 및 아프리카 ■ 시장 역학 ■ 원자재 및 산업 체인 ■ 유통 채널별 출하량 ■ 조사 결과 [그림 목록]- 포스트 CMP 잔류물 제거제 이미지 - 종류별 세계의 포스트 CMP 잔류물 제거제 소비 금액 (2019 & 2023 & 2030) - 2023년 종류별 세계의 포스트 CMP 잔류물 제거제 소비 금액 시장 점유율 - 용도별 세계의 포스트 CMP 잔류물 제거제 소비 금액 (2019 & 2023 & 2030) - 2023년 용도별 세계의 포스트 CMP 잔류물 제거제 소비 금액 시장 점유율 - 세계의 포스트 CMP 잔류물 제거제 소비 금액 (2019 & 2023 & 2030) - 세계의 포스트 CMP 잔류물 제거제 소비 금액 및 예측 (2019-2030) - 세계의 포스트 CMP 잔류물 제거제 판매량 (2019-2030) - 세계의 포스트 CMP 잔류물 제거제 평균 가격 (2019-2030) - 2023년 제조업체별 세계의 포스트 CMP 잔류물 제거제 판매량 시장 점유율 - 2023년 제조업체별 세계의 포스트 CMP 잔류물 제거제 소비 금액 시장 점유율 - 2023년 상위 3개 포스트 CMP 잔류물 제거제 제조업체(소비 금액) 시장 점유율 - 2023년 상위 6개 포스트 CMP 잔류물 제거제 제조업체(소비 금액) 시장 점유율 - 지역별 포스트 CMP 잔류물 제거제 판매량 시장 점유율 - 지역별 포스트 CMP 잔류물 제거제 소비 금액 시장 점유율 - 북미 포스트 CMP 잔류물 제거제 소비 금액 - 유럽 포스트 CMP 잔류물 제거제 소비 금액 - 아시아 태평양 포스트 CMP 잔류물 제거제 소비 금액 - 남미 포스트 CMP 잔류물 제거제 소비 금액 - 중동 및 아프리카 포스트 CMP 잔류물 제거제 소비 금액 - 세계의 종류별 포스트 CMP 잔류물 제거제 판매량 시장 점유율 - 세계의 종류별 포스트 CMP 잔류물 제거제 소비 금액 시장 점유율 - 세계의 종류별 포스트 CMP 잔류물 제거제 평균 가격 - 세계의 용도별 포스트 CMP 잔류물 제거제 판매량 시장 점유율 - 세계의 용도별 포스트 CMP 잔류물 제거제 소비 금액 시장 점유율 - 세계의 용도별 포스트 CMP 잔류물 제거제 평균 가격 - 북미 포스트 CMP 잔류물 제거제 종류별 판매량 시장 점유율 - 북미 포스트 CMP 잔류물 제거제 용도별 판매 수량 시장 점유율 - 북미 포스트 CMP 잔류물 제거제 국가별 판매 수량 시장 점유율 - 북미 포스트 CMP 잔류물 제거제 국가별 소비 금액 시장 점유율 - 미국 포스트 CMP 잔류물 제거제 소비 금액 및 성장률 - 캐나다 포스트 CMP 잔류물 제거제 소비 금액 및 성장률 - 멕시코 포스트 CMP 잔류물 제거제 소비 금액 및 성장률 - 유럽 포스트 CMP 잔류물 제거제 종류별 판매량 시장 점유율 - 유럽 포스트 CMP 잔류물 제거제 용도별 판매량 시장 점유율 - 유럽 포스트 CMP 잔류물 제거제 국가별 판매량 시장 점유율 - 유럽 포스트 CMP 잔류물 제거제 국가별 소비 금액 시장 점유율 - 독일 포스트 CMP 잔류물 제거제 소비 금액 및 성장률 - 프랑스 포스트 CMP 잔류물 제거제 소비 금액 및 성장률 - 영국 포스트 CMP 잔류물 제거제 소비 금액 및 성장률 - 러시아 포스트 CMP 잔류물 제거제 소비 금액 및 성장률 - 이탈리아 포스트 CMP 잔류물 제거제 소비 금액 및 성장률 - 아시아 태평양 포스트 CMP 잔류물 제거제 종류별 판매량 시장 점유율 - 아시아 태평양 포스트 CMP 잔류물 제거제 용도별 판매량 시장 점유율 - 아시아 태평양 포스트 CMP 잔류물 제거제 지역별 판매 수량 시장 점유율 - 아시아 태평양 포스트 CMP 잔류물 제거제 지역별 소비 금액 시장 점유율 - 중국 포스트 CMP 잔류물 제거제 소비 금액 및 성장률 - 일본 포스트 CMP 잔류물 제거제 소비 금액 및 성장률 - 한국 포스트 CMP 잔류물 제거제 소비 금액 및 성장률 - 인도 포스트 CMP 잔류물 제거제 소비 금액 및 성장률 - 동남아시아 포스트 CMP 잔류물 제거제 소비 금액 및 성장률 - 호주 포스트 CMP 잔류물 제거제 소비 금액 및 성장률 - 남미 포스트 CMP 잔류물 제거제 종류별 판매량 시장 점유율 - 남미 포스트 CMP 잔류물 제거제 용도별 판매량 시장 점유율 - 남미 포스트 CMP 잔류물 제거제 국가별 판매 수량 시장 점유율 - 남미 포스트 CMP 잔류물 제거제 국가별 소비 금액 시장 점유율 - 브라질 포스트 CMP 잔류물 제거제 소비 금액 및 성장률 - 아르헨티나 포스트 CMP 잔류물 제거제 소비 금액 및 성장률 - 중동 및 아프리카 포스트 CMP 잔류물 제거제 종류별 판매량 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 포스트 CMP 잔류물 제거제 용도별 판매량 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 포스트 CMP 잔류물 제거제 지역별 판매량 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 포스트 CMP 잔류물 제거제 지역별 소비 금액 시장 점유율 - 터키 포스트 CMP 잔류물 제거제 소비 금액 및 성장률 - 이집트 포스트 CMP 잔류물 제거제 소비 금액 및 성장률 - 사우디 아라비아 포스트 CMP 잔류물 제거제 소비 금액 및 성장률 - 남아프리카 공화국 포스트 CMP 잔류물 제거제 소비 금액 및 성장률 - 포스트 CMP 잔류물 제거제 시장 성장 요인 - 포스트 CMP 잔류물 제거제 시장 제약 요인 - 포스트 CMP 잔류물 제거제 시장 동향 - 포터의 다섯 가지 힘 분석 - 2023년 포스트 CMP 잔류물 제거제의 제조 비용 구조 분석 - 포스트 CMP 잔류물 제거제의 제조 공정 분석 - 포스트 CMP 잔류물 제거제 산업 체인 - 직접 채널 장단점 - 간접 채널 장단점 - 방법론 - 조사 프로세스 및 데이터 소스 ※납품 보고서의 구성항목 및 내용은 본 페이지에 기재된 내용과 다를 수 있습니다. 보고서 주문 전에 당사에 보고서 샘플을 요청해서 구성항목 및 기재 내용을 반드시 확인하시길 바랍니다. 보고서 샘플에 없는 내용은 납품 드리는 보고서에도 포함되지 않습니다. |
| ※참고 정보 포스트 CMP 잔류물 제거제는 반도체 제조 공정 중 화학기계적 연마(Chemical Mechanical Planarization, CMP) 과정 이후 웨이퍼 표면에 남아있는 잔류물을 효과적으로 제거하기 위해 사용되는 화학 용액입니다. CMP 공정은 웨이퍼 표면의 평탄도를 향상시켜 후속 공정에서 발생하는 미세 패턴의 정확도를 높이는 데 필수적인 기술입니다. 하지만 CMP 공정 후에는 연마 슬러리 입자, 연마 과정에서 발생하는 유기 및 무기 오염물, 그리고 CMP 공정 중에 사용된 화학 물질의 잔류물 등 다양한 종류의 이물질이 웨이퍼 표면에 남게 됩니다. 이러한 잔류물은 후속 식각, 증착, 포토 리소그래피 등 다양한 공정의 수율과 성능에 치명적인 영향을 미칠 수 있기 때문에, 이를 깨끗하게 제거하는 것이 매우 중요합니다. 바로 이때 포스트 CMP 잔류물 제거제가 핵심적인 역할을 수행하게 됩니다. 포스트 CMP 잔류물 제거제의 주요 특징으로는 첫째, 높은 세정 능력을 들 수 있습니다. 다양한 종류의 잔류물을 효과적으로 제거할 수 있도록 특수한 화학 성분들이 배합되어 있습니다. 둘째, 웨이퍼 표면이나 미세 패턴에 대한 손상을 최소화하는 것이 중요합니다. CMP 공정을 통해 얻어진 미세한 구조나 박막을 손상시키지 않으면서도 잔류물만 선택적으로 제거할 수 있는 능력이 요구됩니다. 셋째, 환경 친화적인 측면도 고려됩니다. 유해 화학 물질 사용을 줄이고, 폐수 처리 부담을 낮추는 방향으로 개발되고 있습니다. 넷째, 보관 안정성과 취급 용이성 또한 중요한 요소입니다. 장기간 보관 시에도 성능 저하가 없어야 하며, 공정 라인에서 안전하게 사용할 수 있어야 합니다. 포스트 CMP 잔류물 제거제는 제거 대상 잔류물의 종류와 특성, 그리고 CMP 공정에 사용된 슬러리의 종류에 따라 다양하게 분류될 수 있습니다. 크게 산성계, 알칼리계, 불산계, 산화막 제거용 등으로 나눌 수 있습니다. **산성계 잔류물 제거제**는 주로 금속 CMP 후 발생하는 금속 산화물이나 이온성 오염물을 제거하는 데 효과적입니다. 묽은 산이나 유기산을 기반으로 하며, 금속 표면에 대한 부식성이 낮도록 조절된 경우가 많습니다. 예를 들어, 황산(H₂SO₄), 질산(HNO₃), 과산화수소(H₂O₂)와 같은 산화제와 함께 사용하여 유기 잔류물도 함께 제거하는 경우도 있습니다. **알칼리계 잔류물 제거제**는 실리콘 산화막(SiO₂)이나 질화막(SiN) CMP 후 발생하는 유기물 잔류물 및 산성 슬러리 잔류물을 제거하는 데 주로 사용됩니다. 수산화암모늄(NH₄OH), 과산화수소(H₂O₂)와 같은 성분들을 조합하여 사용하며, 특히 과산화수소는 강력한 산화제로 작용하여 유기 오염물을 분해하는 데 도움을 줍니다. 이러한 알칼리계 제거제는 종종 계면활성제를 포함하여 잔류물과 웨이퍼 표면 사이의 결합력을 약화시키고 제거를 용이하게 합니다. **불산계 잔류물 제거제**는 극히 제한적인 경우에 사용되며, 주로 CMP 공정 후 미세하게 남은 실리콘 산화막이나 기타 실리콘 화합물 잔류물을 제거해야 할 때 고려될 수 있습니다. 하지만 불산은 웨이퍼 표면 자체를 부식시키는 성질이 매우 강하기 때문에, 사용 시 매우 정밀한 농도 조절과 짧은 접촉 시간이 요구되며, 후속 세정 공정도 매우 중요합니다. 최근에는 환경 및 안전 문제로 인해 불산 사용을 최소화하거나 대체하려는 노력이 이루어지고 있습니다. **산화막 제거용 잔류물 제거제**는 CMP 공정 중 의도치 않게 형성된 얇은 산화막이나 실리콘 표면의 산화층을 제거하는 데 사용될 수 있습니다. 이 역시 불산이나 황산과 같은 화학 물질을 포함할 수 있으며, 특히 후속 공정이 실리콘 표면과의 직접적인 화학 반응을 요구하는 경우에 중요합니다. 포스트 CMP 잔류물 제거제의 용도는 매우 광범위합니다. 반도체 제조의 핵심 공정인 CMP 이후 모든 단계에서 필수적으로 사용됩니다. * **메모리 소자 제조:** D램(DRAM)이나 낸드 플래시(NAND Flash)와 같이 고집적, 고단화를 이루는 메모리 소자 제조 공정에서는 CMP 후 미세 구조물 간의 오염물 제거가 매우 중요합니다. 특히 셀 구조의 평탄도와 균일성을 확보하기 위해 필수적으로 사용됩니다. * **로직 소자 제조:** CPU나 GPU와 같은 로직 소자 제조에서는 미세 패턴의 정확성과 전기적 성능이 매우 중요합니다. CMP 후 잔류물은 패턴의 왜곡을 유발하거나 누설 전류의 원인이 될 수 있으므로, 이를 효과적으로 제거하는 것이 필수적입니다. 특히 구리(Cu) 배선 CMP 후 발생하는 구리 잔류물 제거는 매우 까다로운 기술입니다. * **첨단 패키징 공정:** 실리콘 관통 전극(Through-Silicon Via, TSV)이나 범프(Bump) 형성 공정 등 첨단 패키징 기술에서도 CMP 공정이 사용되며, 이때 발생하는 잔류물 제거는 패키징의 신뢰성과 성능에 직접적인 영향을 미칩니다. 포스트 CMP 잔류물 제거제와 관련된 기술은 끊임없이 발전하고 있으며, 주로 다음과 같은 방향으로 연구가 진행되고 있습니다. **친환경 및 저독성 화학 조성 개발:** 기존의 독성이 강한 화학 물질을 대체하거나 사용량을 줄이는 연구가 활발합니다. 예를 들어, 질산과 과산화수소의 조합은 질산의 부식성을 완화하면서도 강력한 산화력을 발휘할 수 있어 많이 사용됩니다. 또한, 생분해성이 높은 유기 화합물이나 이온성 액체 등을 활용한 연구도 진행 중입니다. **나노 입자 및 고분자 잔류물 제거 기술:** CMP 슬러리에서 사용되는 나노 입자(예: 실리카, 세리아)나 공정 중에 발생하는 유기 고분자 잔류물은 제거하기가 매우 어렵습니다. 이러한 잔류물을 효과적으로 분산시키거나 화학적으로 분해하여 제거하는 기술이 중요합니다. 이를 위해 특정 잔류물에 대한 선택성이 높은 표면 활성제나 킬레이트제를 개발하는 연구가 진행됩니다. **습식 세정 기술 최적화:** 잔류물 제거제의 효과를 극대화하기 위한 습식 세정 공정 기술 또한 중요합니다. 초음파 세정, 초고순도수(UPW)를 이용한 헹굼, 질소 건조 등 다양한 세정 기술이 조합되어 최적의 잔류물 제거 성능을 확보합니다. 또한, 세정액의 온도, 시간, 교반 속도 등의 공정 변수를 최적화하는 것도 중요한 기술입니다. **표면 분석 및 평가 기술:** CMP 후 웨이퍼 표면에 남아있는 잔류물의 종류와 양을 정확하게 분석하고 평가하는 기술 또한 중요합니다. AFM(원자간 힘 현미경), SEM(주사 전자 현미경), XPS(X-선 광전자 분광법), TOF-SIMS(시간 비행 이차 이온 질량 분석법) 등 다양한 분석 장비를 활용하여 잔류물의 종류, 분포, 양 등을 측정하고 세정 효과를 검증합니다. **고순도 원료 및 제조 공정 관리:** 포스트 CMP 잔류물 제거제에 사용되는 화학 원료의 순도는 최종 제품의 성능에 큰 영향을 미칩니다. 미량의 불순물도 웨이퍼에 심각한 오염을 유발할 수 있기 때문에, 고순도 원료를 사용하고 엄격한 제조 공정 관리를 통해 불순물 혼입을 최소화하는 것이 필수적입니다. **고성능 계면활성제 및 첨가제 개발:** 잔류물과 웨이퍼 표면 사이의 접착력을 약화시키고, 잔류물을 효과적으로 분산시켜 세정액에 의해 쉽게 제거될 수 있도록 하는 계면활성제 및 기타 첨가제 개발 또한 중요한 연구 분야입니다. 이러한 첨가제는 잔류물의 종류와 웨이퍼 표면의 특성을 고려하여 선택됩니다. 결론적으로, 포스트 CMP 잔류물 제거제는 반도체 제조 공정의 수율과 성능을 결정짓는 매우 중요한 역할을 수행하는 핵심 화학 소재입니다. 끊임없이 발전하는 반도체 기술의 요구사항을 충족시키기 위해, 보다 효과적이고 친환경적인 잔류물 제거제 개발과 이를 뒷받침하는 세정 공정 기술 및 분석 기술의 발전은 앞으로도 지속될 것입니다. |
| ※본 조사보고서 [세계의 포스트 CMP 잔류물 제거제 시장 2024 : 기업, 종류, 용도, 시장예측] (코드 : GIR2407E41864) 판매에 관한 면책사항을 반드시 확인하세요. |
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