| ■ 영문 제목 : Global Liquid Photoresist Market Growth 2025-2031 | |
 | ■ 상품코드 : LPK23JU0564 ■ 조사/발행회사 : LP Information ■ 발행일 : 2025년 3월 ■ 페이지수 : 74 ■ 작성언어 : 영어 ■ 보고서 형태 : PDF ■ 납품 방식 : E메일 ■ 조사대상 지역 : 글로벌 ■ 산업 분야 : 화학&재료 |
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| LPI (LP Information)의 최신 조사 보고서는 액체 포토레지스트의 과거 판매실적을 살펴보고 2024년의 액체 포토레지스트 판매실적을 검토하여 2025년부터 2031년까지 예상되는 액체 포토레지스트 판매에 대한 지역 및 시장 세그먼트별 포괄적인 분석을 제공합니다. 세계의 액체 포토레지스트 시장규모는 2024년 xxx백만 달러에서 연평균 xx% 성장하여 2031년에는 xxx백만 달러에 달할 것으로 예측되고 있습니다. 본 보고서의 시장규모 데이터는 무역 전쟁 및 러시아-우크라이나 전쟁의 영향을 반영했습니다. 본 보고서는 액체 포토레지스트의 세계시장에 관해서 조사, 분석한 자료로서, 기업별 시장 점유율, 지역별 시장규모 (미주, 미국, 캐나다, 멕시코, 브라질, 아시아, 중국, 일본, 한국, 동남아시아, 인도, 유럽, 독일, 프랑스, 영국, 이탈리아, 러시아, 중동/아프리카, 이집트, 남아프리카, 터키, 중동GCC국 등), 시장동향, 판매/유통업자/고객 리스트, 시장예측 (2026년-2031년), 주요 기업동향 (기업정보, 제품, 판매량, 매출, 가격, 매출총이익) 등의 정보를 포함하고 있습니다. 또한, 주요지역의 종류별 시장규모 (컬러 레지스트 (RGB), 블랙 매트릭스 (BM))와 용도별 시장규모 (LCD 디스플레이, OLED 디스플레이) 데이터도 수록되어 있습니다. ***** 목차 구성 ***** 보고서의 범위 경영자용 요약 - 세계의 액체 포토레지스트 시장규모 2020년-2031년 - 지역별 액체 포토레지스트 시장분석 - 종류별 액체 포토레지스트 시장규모 2020년-2025년 (컬러 레지스트 (RGB), 블랙 매트릭스 (BM)) - 용도별 액체 포토레지스트 시장규모 2020년-2025년 (LCD 디스플레이, OLED 디스플레이) 기업별 액체 포토레지스트 시장분석 - 기업별 액체 포토레지스트 판매량 - 기업별 액체 포토레지스트 매출액 - 기업별 액체 포토레지스트 판매가격 - 주요기업의 액체 포토레지스트 생산거점, 판매거점 - 시장 집중도 분석 지역별 분석 - 지역별 액체 포토레지스트 판매량 2020년-2025년 - 지역별 액체 포토레지스트 매출액 2020년-2025년 미주 시장 - 미주의 액체 포토레지스트 시장규모 2020년-2025년 - 미주의 액체 포토레지스트 시장규모 : 종류별 - 미주의 액체 포토레지스트 시장규모 : 용도별 - 미국 액체 포토레지스트 시장규모 - 캐나다 액체 포토레지스트 시장규모 - 멕시코 액체 포토레지스트 시장규모 - 브라질 액체 포토레지스트 시장규모 아시아 시장 - 아시아의 액체 포토레지스트 시장규모 2020년-2025년 - 아시아의 액체 포토레지스트 시장규모 : 종류별 - 아시아의 액체 포토레지스트 시장규모 : 용도별 - 중국 액체 포토레지스트 시장규모 - 일본 액체 포토레지스트 시장규모 - 한국 액체 포토레지스트 시장규모 - 동남아시아 액체 포토레지스트 시장규모 - 인도 액체 포토레지스트 시장규모 유럽 시장 - 유럽의 액체 포토레지스트 시장규모 2020년-2025년 - 유럽의 액체 포토레지스트 시장규모 : 종류별 - 유럽의 액체 포토레지스트 시장규모 : 용도별 - 독일 액체 포토레지스트 시장규모 - 프랑스 액체 포토레지스트 시장규모 - 영국 액체 포토레지스트 시장규모 중동/아프리카 시장 - 중동/아프리카의 액체 포토레지스트 시장규모 2020년-2025년 - 중동/아프리카의 액체 포토레지스트 시장규모 : 종류별 - 중동/아프리카의 액체 포토레지스트 시장규모 : 용도별 - 이집트 액체 포토레지스트 시장규모 - 남아프리카 액체 포토레지스트 시장규모 - 중동GCC 액체 포토레지스트 시장규모 시장의 성장요인, 과제, 동향 - 시장의 성장요인, 기회 - 시장의 과제, 리스크 - 산업 동향 제조원가 구조 분석 - 원재료 및 공급업체 - 액체 포토레지스트의 제조원가 구조 분석 - 액체 포토레지스트의 제조 프로세스 분석 - 액체 포토레지스트의 산업체인 구조 마케팅, 유통업체, 고객 - 판매채널 - 액체 포토레지스트의 유통업체 - 액체 포토레지스트의 주요 고객 지역별 액체 포토레지스트 시장 예측 - 지역별 액체 포토레지스트 시장규모 예측 2026년-2031년 - 미주 지역 예측 - 아시아 지역 예측 - 유럽 지역 예측 - 중동/아프리카 지역 예측 - 액체 포토레지스트의 종류별 시장예측 (컬러 레지스트 (RGB), 블랙 매트릭스 (BM)) - 액체 포토레지스트의 용도별 시장예측 (LCD 디스플레이, OLED 디스플레이) 주요 기업 분석 (기업정보, 제품, 판매량, 매출, 가격, 매출총이익) - DuPont, Chang Chun Group, Great Eastern Resins Industrial, LG Chem 조사의 결론 |
The Liquid Photoresist market covers Positive Photoresist, Negative Photoresist, etc. The typical players include DuPont, Fujifilm Electronic Materials, Tokyo Ohka Kogyo, Merck Group, etc.
Liquid photoresist is a negative, water-soluble, alkali developing type and UV sensitive liquid photopolymer.
LPI (LP Information)’ newest research report, the “Liquid Photoresist Industry Forecast” looks at past sales and reviews total world Liquid Photoresist sales in 2024, providing a comprehensive analysis by region and market sector of projected Liquid Photoresist sales for 2025 through 2031. With Liquid Photoresist sales broken down by region, market sector and sub-sector, this report provides a detailed analysis in US$ millions of the world Liquid Photoresist industry.
This Insight Report provides a comprehensive analysis of the global Liquid Photoresist landscape and highlights key trends related to product segmentation, company formation, revenue, and market share, latest development, and M&A activity. This report also analyzes the strategies of leading global companies with a focus on Liquid Photoresist portfolios and capabilities, market entry strategies, market positions, and geographic footprints, to better understand these firms’ unique position in an accelerating global Liquid Photoresist market.
This Insight Report evaluates the key market trends, drivers, and affecting factors shaping the global outlook for Liquid Photoresist and breaks down the forecast by type, by application, geography, and market size to highlight emerging pockets of opportunity. With a transparent methodology based on hundreds of bottom-up qualitative and quantitative market inputs, this study forecast offers a highly nuanced view of the current state and future trajectory in the global Liquid Photoresist.
The global Liquid Photoresist market size is projected to grow from US$ 2465.2 million in 2024 to US$ 3076.6 million in 2031; it is expected to grow at a CAGR of 3076.6 from 2025 to 2031.
The global Liquid Photoresist consumption market is led by Asia-Pacific. The region held over 85% consumption share.
Global major companies profiled in the Liquid Photoresist market include Chang Chun Group, Dongjin Semichem, Merck Group, etc. Global top three companies account for over 25% of market share.
Liquid Photoresist has been widely used in the PCB industry, semiconductor industry and LCD industry. Demand from the semiconductor industry accounts for the largest market share, occupies about 36%, demand from semiconductor and LCD keeps fast growth.
liquid Photoresist can be mainly divided into various types according to different principles. In the semiconductor field, i and g type is widely used, but manufacturers are also dedicated to developing ArF and KrF types. And in the LCD industry, liquid photoresist can be divided into the black type and color type.
This report presents a comprehensive overview, market shares, and growth opportunities of Liquid Photoresist market by product type, application, key manufacturers and key regions and countries.
[Market Segmentation]
Segmentation by type
Color Resists(RGB)
Black Matrix(BM)
Segmentation by application
LCD Display
OLED Display
This report also splits the market by region:
Americas
United States
Canada
Mexico
Brazil
APAC
China
Japan
Korea
Southeast Asia
India
Australia
Europe
Germany
France
UK
Italy
Russia
Middle East & Africa
Egypt
South Africa
Israel
Turkey
GCC Countries
The below companies that are profiled have been selected based on inputs gathered from primary experts and analyzing the company’s coverage, product portfolio, its market penetration.
DuPont
Chang Chun Group
Great Eastern Resins Industrial
LG Chem
[Key Questions Addressed in this Report]
What is the 10-year outlook for the global Liquid Photoresist market?
What factors are driving Liquid Photoresist market growth, globally and by region?
Which technologies are poised for the fastest growth by market and region?
How do Liquid Photoresist market opportunities vary by end market size?
How does Liquid Photoresist break out type, application?
What are the influences of trade war and Russia-Ukraine war?
1 Scope of the Report |
| ※참고 정보 액체 포토레지스트는 반도체 및 디스플레이 산업에서 미세 패턴을 형성하기 위해 필수적으로 사용되는 감광성 액체 재료입니다. 빛에 노출되면 화학적 변화를 일으켜 특정 영역이 용해되거나 불용성이 되는 특성을 이용하여 원하는 회로나 구조를 기판 위에 정밀하게 새겨 넣는 역할을 합니다. 액체 포토레지스트의 핵심적인 개념은 빛에 대한 반응성입니다. 일반적으로 포토레지스트는 고분자 수지, 감광제, 용매, 첨가제 등으로 구성됩니다. 고분자 수지는 패턴의 물리적 형태를 결정하는 골격 역할을 하며, 감광제는 빛 에너지를 흡수하여 화학 반응을 개시하는 물질입니다. 용매는 포토레지스트를 액체 상태로 유지하여 도포 및 현상이 용이하게 하며, 첨가제는 점도 조절, 접착력 향상, 저장 안정성 부여 등 다양한 기능을 수행합니다. 액체 포토레지스트는 빛에 노출된 부분의 용해도 변화에 따라 크게 두 가지 종류로 나뉩니다. 첫 번째는 **양성 포토레지스트(Positive Photoresist)**입니다. 양성 포토레지스트는 빛에 노출된 부분이 현상액에 녹아 제거되는 특성을 가집니다. 이는 마스크 패턴과 동일한 형태의 패턴이 기판에 형성됨을 의미합니다. 주로 반도체 회로 패턴 형성 등 고해상도가 요구되는 공정에 널리 사용됩니다. 빛에 노출된 감광제의 화학 구조 변화로 인해 현상액에 대한 용해도가 증가하는 원리를 이용합니다. 두 번째는 **음성 포토레지스트(Negative Photoresist)**입니다. 음성 포토레지스트는 빛에 노출된 부분이 가교 결합을 통해 불용성이 되어 남고, 노출되지 않은 부분이 현상액에 녹아 제거되는 특성을 가집니다. 따라서 마스크 패턴과는 반전된 형태의 패턴이 기판에 형성됩니다. 음성 포토레지스트는 일반적으로 양성 포토레지스트보다 내화학성이 우수하고, 높은 접착력을 가지는 경우가 많아 반도체 공정의 일부나 디스플레이 패널 제조 등에서 활용됩니다. 빛에 노출된 감광제가 가교 결합 반응을 일으켜 고분자 사슬이 서로 연결되면서 용해되지 않는 상태가 되는 것입니다. 액체 포토레지스트의 중요한 특징 중 하나는 **감도(Sensitivity)**입니다. 감도는 포토레지스트가 원하는 화학적 변화를 일으키기 위해 필요한 빛 에너지의 양을 나타냅니다. 감도가 높은 포토레지스트는 적은 양의 빛 에너지로도 패턴 형성이 가능하므로, 생산 속도를 높이거나 더 낮은 출력의 광원을 사용할 수 있다는 장점이 있습니다. 반대로 감도가 낮은 포토레지스트는 더 많은 빛 에너지를 필요로 하지만, 때로는 더 높은 해상도나 우수한 패턴 프로파일을 얻는 데 유리할 수 있습니다. 또 다른 중요한 특징은 **해상도(Resolution)**입니다. 해상도는 포토레지스트가 얼마나 미세한 패턴을 정확하게 재현할 수 있는지를 나타내는 척도입니다. 반도체 산업이 발전함에 따라 더욱 미세하고 복잡한 회로 패턴 형성이 요구되므로, 높은 해상도를 가진 포토레지스트 개발은 매우 중요합니다. 해상도는 포토레지스트 자체의 특성뿐만 아니라 사용되는 노광 장비, 마스크 제작 기술, 현상 조건 등 다양한 요인에 의해 영향을 받습니다. **점도(Viscosity)** 역시 액체 포토레지스트의 중요한 물성 중 하나입니다. 점도는 포토레지스트 용액이 얼마나 끈끈한지를 나타내며, 이는 기판 위에 균일하고 얇은 막을 형성하는 데 결정적인 영향을 미칩니다. 스핀 코팅(Spin Coating)과 같은 도포 방식에서는 적절한 점도가 필수적입니다. 점도가 너무 낮으면 막이 너무 얇게 형성되어 패턴이 제대로 형성되지 않을 수 있고, 너무 높으면 막이 두껍게 형성되어 해상도가 저하될 수 있습니다. 따라서 공정 조건에 맞는 최적의 점도를 가진 포토레지스트를 선택하거나 조정하는 것이 중요합니다. 액체 포토레지스트는 주로 **스핀 코팅(Spin Coating)** 방식을 통해 기판에 도포됩니다. 스핀 코팅은 기판을 회전시키면서 포토레지스트 용액을 떨어뜨려 원심력에 의해 얇고 균일한 막을 형성하는 방법입니다. 이 외에도 딥 코팅(Dip Coating), 스프레이 코팅(Spray Coating), 롤 코팅(Roll Coating) 등 다양한 도포 방식이 적용될 수 있으며, 각 공정의 특성 및 요구 사항에 따라 적합한 방식이 선택됩니다. 포토레지스트의 성능을 결정하는 핵심 기술로는 **리소그래피(Lithography)** 공정을 빼놓을 수 없습니다. 리소그래피는 빛을 이용하여 기판에 미세 패턴을 전사하는 과정으로, 포토레지스트가 이 과정의 감광 재료로 사용됩니다. 리소그래피 기술은 크게 광원의 파장(Wavelength), 노광 방식(Exposure Method), 광학계(Optics) 등으로 구분됩니다. 최근에는 더욱 미세한 패턴을 구현하기 위해 짧은 파장의 EUV(Extreme Ultraviolet) 리소그래피 기술이 핵심적으로 연구 개발되고 있으며, 이러한 기술 발전에 따라 포토레지스트 역시 고해상도와 고감도를 동시에 만족시키는 방향으로 진화하고 있습니다. 포토레지스트의 적용 분야는 매우 다양합니다. 가장 대표적인 분야는 **반도체 제조**입니다. 반도체 집적회로(IC)의 복잡한 회로 패턴을 기판 위에 새기기 위해 포토레지스트가 핵심적인 역할을 합니다. CPU, 메모리 등 모든 종류의 반도체 칩 제조 공정에는 포토레지스트가 필수적으로 사용됩니다. **디스플레이 산업**에서도 액체 포토레지스트의 중요성은 매우 큽니다. LCD 및 OLED와 같은 평판 디스플레이 패널을 제조할 때, 픽셀을 구동하는 트랜지스터나 컬러 필터 패턴 등을 형성하는 데 포토레지스트가 사용됩니다. 특히 디스플레이의 해상도가 높아짐에 따라 더욱 정밀한 패턴 형성을 위한 고성능 포토레지스트에 대한 요구가 증가하고 있습니다. 그 외에도 인쇄 회로 기판(PCB) 제조, 마이크로 전자 기계 시스템(MEMS) 제작, 반도체 패키징, 광학 부품 제조 등 다양한 첨단 산업 분야에서 액체 포토레지스트가 폭넓게 활용되고 있습니다. 액체 포토레지스트는 시대의 흐름에 따라 계속해서 발전하고 있습니다. 최근에는 더욱 미세한 패턴 형성을 위한 초고해상도 포토레지스트, 높은 온도에서도 안정적인 패턴을 유지할 수 있는 내열성 포토레지스트, 특정 파장의 빛에만 반응하는 선택적 감광 포토레지스트 등 다양한 기능성 포토레지스트 개발 연구가 활발히 진행되고 있습니다. 또한, 환경 규제 강화 및 지속 가능한 기술 개발의 요구에 따라 친환경적인 용매를 사용하거나, 폐기물 발생량을 줄일 수 있는 공정 기술과 연계된 포토레지스트 개발도 중요하게 다루어지고 있습니다. 결론적으로 액체 포토레지스트는 현대 전자 산업의 근간을 이루는 핵심 소재로서, 끊임없이 발전하는 기술 트렌드에 발맞춰 그 성능과 응용 분야를 확장해나가고 있습니다. |
| ※본 조사보고서 [세계의 액체 포토레지스트 시장예측 2025년-2031년] (코드 : LPK23JU0564) 판매에 관한 면책사항을 반드시 확인하세요. |
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