| ■ 영문 제목 : Global Photoresist & Photoresist Ancillaries Market Growth 2025-2031 | |
 | ■ 상품코드 : LPK23JU0220 ■ 조사/발행회사 : LP Information ■ 발행일 : 2025년 3월 ■ 페이지수 : 109 ■ 작성언어 : 영어 ■ 보고서 형태 : PDF ■ 납품 방식 : E메일 ■ 조사대상 지역 : 글로벌 ■ 산업 분야 : 화학&재료 |
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| LPI (LP Information)의 최신 조사 보고서는 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품의 과거 판매실적을 살펴보고 2024년의 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 판매실적을 검토하여 2025년부터 2031년까지 예상되는 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 판매에 대한 지역 및 시장 세그먼트별 포괄적인 분석을 제공합니다. 세계의 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모는 2024년 xxx백만 달러에서 연평균 xx% 성장하여 2031년에는 xxx백만 달러에 달할 것으로 예측되고 있습니다. 본 보고서의 시장규모 데이터는 무역 전쟁 및 러시아-우크라이나 전쟁의 영향을 반영했습니다. 본 보고서는 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품의 세계시장에 관해서 조사, 분석한 자료로서, 기업별 시장 점유율, 지역별 시장규모 (미주, 미국, 캐나다, 멕시코, 브라질, 아시아, 중국, 일본, 한국, 동남아시아, 인도, 유럽, 독일, 프랑스, 영국, 이탈리아, 러시아, 중동/아프리카, 이집트, 남아프리카, 터키, 중동GCC국 등), 시장동향, 판매/유통업자/고객 리스트, 시장예측 (2026년-2031년), 주요 기업동향 (기업정보, 제품, 판매량, 매출, 가격, 매출총이익) 등의 정보를 포함하고 있습니다. 또한, 주요지역의 종류별 시장규모 (포토레지스트, 포토레지스트 부속품)와 용도별 시장규모 (반도체 및 IC, LCD, PCB, 기타) 데이터도 수록되어 있습니다. ***** 목차 구성 ***** 보고서의 범위 경영자용 요약 - 세계의 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 2020년-2031년 - 지역별 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장분석 - 종류별 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 2020년-2025년 (포토레지스트, 포토레지스트 부속품) - 용도별 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 2020년-2025년 (반도체 및 IC, LCD, PCB, 기타) 기업별 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장분석 - 기업별 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 판매량 - 기업별 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 매출액 - 기업별 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 판매가격 - 주요기업의 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 생산거점, 판매거점 - 시장 집중도 분석 지역별 분석 - 지역별 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 판매량 2020년-2025년 - 지역별 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 매출액 2020년-2025년 미주 시장 - 미주의 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 2020년-2025년 - 미주의 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 : 종류별 - 미주의 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 : 용도별 - 미국 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 - 캐나다 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 - 멕시코 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 - 브라질 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 아시아 시장 - 아시아의 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 2020년-2025년 - 아시아의 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 : 종류별 - 아시아의 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 : 용도별 - 중국 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 - 일본 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 - 한국 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 - 동남아시아 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 - 인도 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 유럽 시장 - 유럽의 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 2020년-2025년 - 유럽의 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 : 종류별 - 유럽의 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 : 용도별 - 독일 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 - 프랑스 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 - 영국 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 중동/아프리카 시장 - 중동/아프리카의 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 2020년-2025년 - 중동/아프리카의 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 : 종류별 - 중동/아프리카의 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 : 용도별 - 이집트 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 - 남아프리카 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 - 중동GCC 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 시장의 성장요인, 과제, 동향 - 시장의 성장요인, 기회 - 시장의 과제, 리스크 - 산업 동향 제조원가 구조 분석 - 원재료 및 공급업체 - 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품의 제조원가 구조 분석 - 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품의 제조 프로세스 분석 - 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품의 산업체인 구조 마케팅, 유통업체, 고객 - 판매채널 - 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품의 유통업체 - 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품의 주요 고객 지역별 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장 예측 - 지역별 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장규모 예측 2026년-2031년 - 미주 지역 예측 - 아시아 지역 예측 - 유럽 지역 예측 - 중동/아프리카 지역 예측 - 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품의 종류별 시장예측 (포토레지스트, 포토레지스트 부속품) - 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품의 용도별 시장예측 (반도체 및 IC, LCD, PCB, 기타) 주요 기업 분석 (기업정보, 제품, 판매량, 매출, 가격, 매출총이익) - Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd, JSR Corporation, DuPont, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd, Fujifilm Corporation, Sumitomo Chemical Co., Ltd., ALLRESIST, Merck Group, Micro Resist Technology, DJ MicroLaminates, Eternal Materials, Chang Chun Group 조사의 결론 |
The photoresist and photoresist ancillaries market products are mainly solvent-based solutions which include electronic-grade solvents, polymer resins, stabilizers, surfactants, photosensitive chemicals, and cross-linking agents.
LPI (LP Information)’ newest research report, the “Photoresist & Photoresist Ancillaries Industry Forecast” looks at past sales and reviews total world Photoresist & Photoresist Ancillaries sales in 2024, providing a comprehensive analysis by region and market sector of projected Photoresist & Photoresist Ancillaries sales for 2025 through 2031. With Photoresist & Photoresist Ancillaries sales broken down by region, market sector and sub-sector, this report provides a detailed analysis in US$ millions of the world Photoresist & Photoresist Ancillaries industry.
This Insight Report provides a comprehensive analysis of the global Photoresist & Photoresist Ancillaries landscape and highlights key trends related to product segmentation, company formation, revenue, and market share, latest development, and M&A activity. This report also analyzes the strategies of leading global companies with a focus on Photoresist & Photoresist Ancillaries portfolios and capabilities, market entry strategies, market positions, and geographic footprints, to better understand these firms’ unique position in an accelerating global Photoresist & Photoresist Ancillaries market.
This Insight Report evaluates the key market trends, drivers, and affecting factors shaping the global outlook for Photoresist & Photoresist Ancillaries and breaks down the forecast by type, by application, geography, and market size to highlight emerging pockets of opportunity. With a transparent methodology based on hundreds of bottom-up qualitative and quantitative market inputs, this study forecast offers a highly nuanced view of the current state and future trajectory in the global Photoresist & Photoresist Ancillaries.
The global Photoresist & Photoresist Ancillaries market size is projected to grow from US$ million in 2024 to US$ million in 2031; it is expected to grow at a CAGR of % from 2025 to 2031.
United States market for Photoresist & Photoresist Ancillaries is estimated to increase from US$ million in 2024 to US$ million by 2031, at a CAGR of % from 2025 through 2031.
China market for Photoresist & Photoresist Ancillaries is estimated to increase from US$ million in 2024 to US$ million by 2031, at a CAGR of % from 2025 through 2031.
Europe market for Photoresist & Photoresist Ancillaries is estimated to increase from US$ million in 2024 to US$ million by 2031, at a CAGR of % from 2025 through 2031.
Global key Photoresist & Photoresist Ancillaries players cover Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd, JSR Corporation, DuPont, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd, Fujifilm Corporation, Sumitomo Chemical Co., Ltd., ALLRESIST, Merck Group and Micro Resist Technology, etc. In terms of revenue, the global two largest companies occupied for a share nearly % in 2024.
This report presents a comprehensive overview, market shares, and growth opportunities of Photoresist & Photoresist Ancillaries market by product type, application, key manufacturers and key regions and countries.
[Market Segmentation]
Segmentation by type
Photoresist
Photoresist Ancillaries
Segmentation by application
Semiconductors & ICs
LCDs
Printed Circuit Boards
Others
This report also splits the market by region:
Americas
United States
Canada
Mexico
Brazil
APAC
China
Japan
Korea
Southeast Asia
India
Australia
Europe
Germany
France
UK
Italy
Russia
Middle East & Africa
Egypt
South Africa
Israel
Turkey
GCC Countries
The below companies that are profiled have been selected based on inputs gathered from primary experts and analyzing the company’s coverage, product portfolio, its market penetration.
Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd
JSR Corporation
DuPont
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd
Fujifilm Corporation
Sumitomo Chemical Co., Ltd.
ALLRESIST
Merck Group
Micro Resist Technology
DJ MicroLaminates
Eternal Materials
Chang Chun Group
[Key Questions Addressed in this Report]
What is the 10-year outlook for the global Photoresist & Photoresist Ancillaries market?
What factors are driving Photoresist & Photoresist Ancillaries market growth, globally and by region?
Which technologies are poised for the fastest growth by market and region?
How do Photoresist & Photoresist Ancillaries market opportunities vary by end market size?
How does Photoresist & Photoresist Ancillaries break out type, application?
What are the influences of trade war and Russia-Ukraine war?
1 Scope of the Report |
| ※참고 정보 ## 포토레지스트 및 포토레지스트 부속품에 대한 개요 포토레지스트(Photoresist)는 반도체 제조 공정에서 미세 패턴을 형성하는 데 필수적인 물질입니다. 빛에 반응하여 용해도가 변하는 특성을 이용하여 회로 패턴을 웨이퍼 위에 전사하는 핵심적인 역할을 수행합니다. 이러한 포토레지스트와 그 기능을 보조하는 다양한 부속품들은 최첨단 반도체 기술 발전에 기여하는 중요한 요소들입니다. 포토레지스트의 기본 개념은 특정 파장의 빛(주로 자외선, EUV 등)에 노출되면 화학적 변화를 일으키는 감광성 고분자 화합물이라는 점입니다. 이러한 화학적 변화는 포토레지스트를 현상액에 녹이는 정도를 변화시키는데, 이 차이를 이용해 빛이 조사된 영역과 조사되지 않은 영역을 구분하여 원하는 패턴을 형성합니다. 포토레지스트는 크게 양성 레지스트(Positive Resist)와 음성 레지스트(Negative Resist)로 나뉩니다. 양성 레지스트는 빛에 노출된 부분이 현상액에 더 잘 녹는 특성을 가집니다. 즉, 마스크에 그려진 패턴대로 포토레지스트가 제거되어 패턴이 그대로 웨이퍼에 전사됩니다. 반대로 음성 레지스트는 빛에 노출된 부분이 현상액에 덜 녹거나 오히려 경화되어 남는 특성을 가집니다. 따라서 마스크의 패턴과는 반전된 형태의 패턴이 웨이퍼에 전사됩니다. 각 레지스트 종류는 회로 설계의 복잡성, 요구되는 해상도 등에 따라 선택되어 사용됩니다. 포토레지스트의 성능을 좌우하는 주요 특징으로는 해상도(Resolution), 감도(Sensitivity), 내식각성(Etch Resistance), 접착성(Adhesion), 내플라즈마성(Plasma Resistance), 균일성(Uniformity) 등이 있습니다. 해상도는 얼마나 미세한 패턴을 재현할 수 있는지를 나타내며, 이는 반도체 집적도를 결정하는 중요한 요소입니다. 감도는 적은 양의 빛으로도 충분한 화학 반응을 일으킬 수 있는 능력을 의미하며, 이는 공정 속도와 효율성에 영향을 미칩니다. 내식각성은 이후 공정에서 사용되는 식각액이나 플라즈마에 포토레지스트가 얼마나 잘 견딜 수 있는지를 나타냅니다. 좋은 접착성은 웨이퍼 표면에 포토레지스트가 벗겨지지 않고 잘 부착되는 것을 의미하며, 이는 패턴의 정확성을 높여줍니다. 포토레지스트는 그 종류가 매우 다양하며, 시대의 요구에 따라 끊임없이 발전해왔습니다. 초기에는 i-선(365nm)이나 KrF 엑시머 레이저(248nm)를 이용하는 레지스트가 주로 사용되었습니다. 이후 더욱 미세한 패턴을 구현하기 위해 ArF 엑시머 레이저(193nm)를 사용하는 레지스트가 개발되었고, 현재는 극자외선(EUV, 13.5nm)을 사용하는 초미세 공정용 레지스트가 핵심적인 기술로 자리 잡고 있습니다. EUV 레지스트는 매우 짧은 파장의 빛을 사용하기 때문에 기존의 고분자 재료로는 원하는 반응성을 얻기 어렵고, 새로운 화학적 메커니즘을 가진 재료 개발이 필수적입니다. 또한, 액체 상태로 웨이퍼에 도포되는 포토레지스트는 스핀 코팅(Spin Coating)이라는 과정을 통해 균일하게 도포되어야 하며, 이는 특정 점도와 용매 특성을 요구합니다. 포토레지스트 자체 외에도 이러한 레지스트의 성능을 극대화하고 공정 효율성을 높이기 위한 다양한 부속품들이 사용됩니다. 이러한 부속품들은 포토레지스트의 안정성을 유지하고, 원하는 패턴을 정확하게 전사하며, 이후 공정 단계에서 발생하는 문제를 최소화하는 역할을 합니다. 주요 포토레지스트 부속품으로는 **박리액(Stripper)**, **현상액(Developer)**, **프리베이크(Prebake) 및 포스트베이크(Postbake) 공정 관련 첨가제**, **하부반사방지막(Bottom Anti-Reflective Coating, BARC)**, **상부반사방지막(Top Anti-Reflective Coating, TARC)**, **기판 개질제(Adhesion Promoter)** 등이 있습니다. **현상액**은 포토레지스트의 빛에 노출된 부분 또는 노출되지 않은 부분을 선택적으로 제거하는 역할을 합니다. 양성 레지스트의 경우 빛에 노출된 부분이 녹는 현상액이 사용되며, 음성 레지스트의 경우 빛에 노출되어 경화된 부분을 제외하고 나머지 부분을 녹이는 현상액이 사용됩니다. 현상액의 종류와 농도, 현상 시간 등은 패턴의 선명도와 수율에 직접적인 영향을 미칩니다. 일반적으로 수용성 염기성 용액이 많이 사용됩니다. **박리액**은 노광 및 현상 공정이 완료된 후 웨이퍼 표면에 남아있는 포토레지스트를 제거하는 데 사용됩니다. 이전에는 강력한 유기 용매를 사용했으나, 환경 규제 및 공정 안전성 측면에서 점점 더 친환경적이고 특정 잔여물만 제거하는 방향으로 발전하고 있습니다. 건식 박리(Dry Stripping) 공정도 함께 사용되며, 이는 플라즈마를 이용하여 포토레지스트를 분해하는 방식입니다. **하부반사방지막(BARC)**은 웨이퍼 표면과 포토레지스트 사이에서 발생하는 빛의 반사를 억제하는 역할을 합니다. 특히 ArF 또는 EUV와 같이 파장이 짧은 빛을 사용할 경우, 웨이퍼 표면이나 하부 박막층으로부터 반사된 빛이 포토레지스트 내부에서 간섭을 일으켜 패턴의 측벽 모양이 왜곡되는 현상(Standing Wave Effect)을 유발할 수 있습니다. BARC는 이러한 반사를 흡수하거나 확산시켜 패턴의 해상도와 선명도를 향상시키는 데 결정적인 역할을 합니다. BARC는 포토레지스트와 유사하게 액상으로 도포되며, 빛의 파장에 따라 적절한 흡광 계수를 가지는 재료가 사용됩니다. **상부반사방지막(TARC)**은 포토레지스트 표면과 포토레지스트 상부의 공기 또는 마스크와의 경계면에서 발생하는 반사를 억제하는 역할을 합니다. BARC와 유사하게 패턴의 해상도를 높이는 데 기여하지만, 주로 포토레지스트 표면에서의 반사 제어에 초점을 맞춥니다. 특히 3D 구조나 복잡한 패턴을 구현할 때 빛의 균일한 조사와 패턴의 무결성을 확보하는 데 중요합니다. **기판 개질제(Adhesion Promoter)**는 포토레지스트와 웨이퍼 기판(실리콘, 산화막, 질화막 등) 사이의 접착력을 강화하는 물질입니다. 포토레지스트는 공정 중에 사용되는 다양한 화학 물질 및 물리적 스트레스에 의해 웨이퍼 표면에서 떨어져 나갈 수 있는데, 이는 패턴 결함으로 이어집니다. 기판 개질제는 웨이퍼 표면에 얇은 막을 형성하여 포토레지스트와의 화학적 또는 물리적 결합을 강화함으로써 이러한 문제를 방지합니다. 대표적으로 헥사메틸디실라잔(HMDS)과 같은 실란 커플링제가 사용됩니다. 포토레지스트와 관련된 기술은 끊임없이 진화하고 있으며, 이는 반도체 기술의 발전을 견인하는 핵심 동력 중 하나입니다. 더욱 미세한 패턴을 구현하기 위한 **고해상도 레지스트 개발**은 당연한 과제이며, 이를 위해 새로운 분자 구조를 가진 고감도, 고해상도 레지스트 소재 연구가 활발히 진행되고 있습니다. 또한, **EUV 공정의 안정화 및 효율성 증대**는 현재 가장 중요한 기술적 도전 과제 중 하나입니다. EUV 빛은 기존의 UV 빛보다 훨씬 짧은 파장을 가지고 있어, 이에 반응하는 새로운 화학적 메커니즘을 가진 레지스트 개발 및 공정 조건 최적화가 필요합니다. **다층막 레지스트 시스템(Multilayer Resist System)** 또한 고해상도 패턴 구현을 위한 중요한 기술입니다. 이는 기판 위에 여러 층의 포토레지스트를 쌓아 올리는 방식으로, 각 층의 역할을 분담하여 패턴 형성의 정밀도를 높입니다. 예를 들어, 하부층은 기판과의 접착 및 식각 방어 역할을 하고, 상부층은 고해상도 패턴 형성에 집중하는 방식입니다. 반도체 미세화가 가속화됨에 따라 포토레지스트와 관련된 기술은 더욱 정교하고 복잡해지고 있습니다. 단순히 패턴을 전사하는 기능을 넘어, 공정 전반에 걸쳐 안정성과 효율성을 높이고 최종적으로 생산되는 반도체의 성능을 결정짓는 중요한 요소로서 포토레지스트와 그 부속품들의 역할은 더욱 강조될 것입니다. 끊임없는 연구 개발을 통해 차세대 반도체 기술 구현에 기여할 것으로 기대됩니다. |
| ※본 조사보고서 [세계의 포토레지스트 & 포토레지스트 부속품 시장예측 2025년-2031년] (코드 : LPK23JU0220) 판매에 관한 면책사항을 반드시 확인하세요. |
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