| ■ 영문 제목 : Global Laser Photomask Market Growth 2025-2031 | |
 | ■ 상품코드 : LPK23JL1325 ■ 조사/발행회사 : LP Information ■ 발행일 : 2025년 3월 ■ 페이지수 : 100 ■ 작성언어 : 영어 ■ 보고서 형태 : PDF ■ 납품 방식 : E메일 ■ 조사대상 지역 : 글로벌 ■ 산업 분야 : 전자&반도체 |
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| LP인포메이션 (LPI) 의 최신 조사 자료는 레이저 포토마스크의 과거 판매실적을 살펴보고 2024년의 레이저 포토마스크 판매실적을 검토하여 2025년부터 2031년까지 예상되는 레이저 포토마스크 판매에 대한 지역 및 시장 세그먼트별 포괄적인 분석을 제공합니다. 글로벌 레이저 포토마스크 시장규모는 2024년 xxx백만 달러에서 연평균 xx% 성장하여 2031년에는 xxx백만 달러에 달할 것으로 예측되고 있습니다. 본 보고서의 시장규모 데이터는 무역 전쟁 및 러시아-우크라이나 전쟁의 영향을 반영했습니다. 본 조사 자료는 글로벌 레이저 포토마스크 시장에 관해서 조사, 분석한 보고서로서, 기업별 시장 점유율, 지역별 시장규모 (미주, 미국, 캐나다, 멕시코, 브라질, 아시아 태평양, 중국, 일본, 한국, 동남아시아, 인도, 유럽, 독일, 프랑스, 영국, 이탈리아, 러시아, 중동/아프리카, 이집트, 남아프리카, 터키, 중동GCC국 등), 시장동향, 판매/유통업자/고객 리스트, 시장예측 (2026년-2031년), 주요 기업동향 (기업정보, 제품, 판매량, 매출, 가격, 매출총이익) 등의 정보를 수록하고 있습니다. 또한, 주요지역의 종류별 (레티클, 타입 II) 시장규모와 용도별 (칩, LCD, PCB) 시장규모 데이터도 포함되어 있습니다. ***** 목차 구성 ***** 보고서의 범위 경영자용 요약 - 글로벌 레이저 포토마스크 시장규모 2020년-2031년 - 지역별 레이저 포토마스크 시장분석 - 종류별 레이저 포토마스크 시장규모 2020년-2025년 (레티클, 타입 II) - 용도별 레이저 포토마스크 시장규모 2020년-2025년 (칩, LCD, PCB) 기업별 레이저 포토마스크 시장분석 - 기업별 레이저 포토마스크 판매량 - 기업별 레이저 포토마스크 매출액 - 기업별 레이저 포토마스크 판매가격 - 주요기업의 레이저 포토마스크 생산거점, 판매거점 - 시장 집중도 분석 지역별 분석 - 지역별 레이저 포토마스크 판매량 2020년-2025년 - 지역별 레이저 포토마스크 매출액 2020년-2025년 미주 시장 - 미주의 레이저 포토마스크 시장규모 2020년-2025년 - 미주의 레이저 포토마스크 시장규모 : 종류별 - 미주의 레이저 포토마스크 시장규모 : 용도별 - 미국 레이저 포토마스크 시장규모 - 캐나다 레이저 포토마스크 시장규모 - 멕시코 레이저 포토마스크 시장규모 - 브라질 레이저 포토마스크 시장규모 아시아 태평양 시장 - 아시아 태평양의 레이저 포토마스크 시장규모 2020년-2025년 - 아시아 태평양의 레이저 포토마스크 시장규모 : 종류별 - 아시아 태평양의 레이저 포토마스크 시장규모 : 용도별 - 중국 레이저 포토마스크 시장규모 - 일본 레이저 포토마스크 시장규모 - 한국 레이저 포토마스크 시장규모 - 동남아시아 레이저 포토마스크 시장규모 - 인도 레이저 포토마스크 시장규모 유럽 시장 - 유럽의 레이저 포토마스크 시장규모 2020년-2025년 - 유럽의 레이저 포토마스크 시장규모 : 종류별 - 유럽의 레이저 포토마스크 시장규모 : 용도별 - 독일 레이저 포토마스크 시장규모 - 프랑스 레이저 포토마스크 시장규모 - 영국 레이저 포토마스크 시장규모 중동/아프리카 시장 - 중동/아프리카의 레이저 포토마스크 시장규모 2020년-2025년 - 중동/아프리카의 레이저 포토마스크 시장규모 : 종류별 - 중동/아프리카의 레이저 포토마스크 시장규모 : 용도별 - 이집트 레이저 포토마스크 시장규모 - 남아프리카 레이저 포토마스크 시장규모 - 중동GCC 레이저 포토마스크 시장규모 시장의 성장요인, 과제, 동향 - 시장의 성장요인, 기회 - 시장의 과제, 리스크 - 산업 동향 제조원가 구조 분석 - 원재료 및 공급업체 - 레이저 포토마스크의 제조원가 구조 분석 - 레이저 포토마스크의 제조 프로세스 분석 - 레이저 포토마스크의 산업체인 구조 마케팅, 유통업체, 고객 - 판매채널 - 레이저 포토마스크의 유통업체 - 레이저 포토마스크의 주요 고객 지역별 레이저 포토마스크 시장 예측 - 지역별 레이저 포토마스크 시장규모 예측 2026년-2031년 - 미주 시장 예측 - 아시아 태평양 시장 예측 - 유럽 시장 예측 - 중동/아프리카 시장 예측 - 레이저 포토마스크의 종류별 시장예측 (레티클, 타입 II) - 레이저 포토마스크의 용도별 시장예측 (칩, LCD, PCB) 주요 기업 분석 (기업정보, 제품, 판매량, 매출, 가격, 매출총이익) - Applied Materials, KLA-Tencor Corporation, Photronics, Lasertec Corporation, Nippon Filcon, Hoya Corporation, LG Innotek, Toppan Printing, SK-Electronics, Taiwan Mask Corporation 조사의 결과/결론 |
A photomask is an opaque plate with holes or transparencies that allow light to shine through in a defined pattern. They are commonly used in photolithography.
LPI (LP Information)’ newest research report, the “Laser Photomask Industry Forecast” looks at past sales and reviews total world Laser Photomask sales in 2024, providing a comprehensive analysis by region and market sector of projected Laser Photomask sales for 2025 through 2031. With Laser Photomask sales broken down by region, market sector and sub-sector, this report provides a detailed analysis in US$ millions of the world Laser Photomask industry.
This Insight Report provides a comprehensive analysis of the global Laser Photomask landscape and highlights key trends related to product segmentation, company formation, revenue, and market share, latest development, and M&A activity. This report also analyzes the strategies of leading global companies with a focus on Laser Photomask portfolios and capabilities, market entry strategies, market positions, and geographic footprints, to better understand these firms’ unique position in an accelerating global Laser Photomask market.
This Insight Report evaluates the key market trends, drivers, and affecting factors shaping the global outlook for Laser Photomask and breaks down the forecast by type, by application, geography, and market size to highlight emerging pockets of opportunity. With a transparent methodology based on hundreds of bottom-up qualitative and quantitative market inputs, this study forecast offers a highly nuanced view of the current state and future trajectory in the global Laser Photomask.
The global Laser Photomask market size is projected to grow from US$ million in 2024 to US$ million in 2031; it is expected to grow at a CAGR of % from 2025 to 2031.
Based on photomask type, the market studied has been segmented into reticles and masters.
This report presents a comprehensive overview, market shares, and growth opportunities of Laser Photomask market by product type, application, key manufacturers and key regions and countries.
[Market Segmentation]
Segmentation by type
Reticles
Type II
Segmentation by application
Chip
LCD
PCB
This report also splits the market by region:
Americas
United States
Canada
Mexico
Brazil
APAC
China
Japan
Korea
Southeast Asia
India
Australia
Europe
Germany
France
UK
Italy
Russia
Middle East & Africa
Egypt
South Africa
Israel
Turkey
GCC Countries
The below companies that are profiled have been selected based on inputs gathered from primary experts and analyzing the company’s coverage, product portfolio, its market penetration.
Applied Materials
KLA-Tencor Corporation
Photronics
Lasertec Corporation
Nippon Filcon
Hoya Corporation
LG Innotek
Toppan Printing
SK-Electronics
Taiwan Mask Corporation
[Key Questions Addressed in this Report]
What is the 10-year outlook for the global Laser Photomask market?
What factors are driving Laser Photomask market growth, globally and by region?
Which technologies are poised for the fastest growth by market and region?
How do Laser Photomask market opportunities vary by end market size?
How does Laser Photomask break out type, application?
What are the influences of trade war and Russia-Ukraine war?
1 Scope of the Report |
| ※참고 정보 레이저 포토마스크는 반도체 제조 공정에서 매우 중요한 역할을 수행하는 핵심 부품입니다. 정교하고 복잡한 회로 패턴을 웨이퍼에 전사하기 위한 틀 역할을 하며, 레이저를 이용하여 이 패턴을 마스크 기판 위에 새겨 넣는다는 점에서 '레이저 포토마스크'라는 이름이 붙여졌습니다. 즉, 고성능의 이미징 기술을 활용하여 미세한 회로 패턴을 담아내는 고정밀 패턴 전사 도구라고 이해할 수 있습니다. 레이저 포토마스크의 가장 큰 특징은 그 극도의 정밀성과 복잡성에 있습니다. 나노미터 단위의 선폭과 간격을 구현해야 하는 현대 반도체 산업의 요구사항을 충족시키기 위해, 포토마스크 제작에는 최첨단 기술이 집약됩니다. 레이저를 이용한 패턴 생성 방식은 기존의 전자빔(e-beam) 방식에 비해 생산성이 높다는 장점을 가집니다. 또한, 레이저의 파장과 집속 정도를 조절함으로써 더욱 미세하고 복잡한 패턴을 효율적으로 새길 수 있습니다. 이러한 정밀성은 반도체 칩의 성능을 결정짓는 중요한 요소이며, 더 작고 빠른, 그리고 더 많은 기능을 담은 칩을 만들기 위한 필수 조건입니다. 포토마스크의 종류는 크게 회로 패턴을 형성하는 방식과 사용되는 재료에 따라 구분될 수 있습니다. 회로 패턴을 형성하는 방식으로는 앞서 언급한 레이저 직각 방식과 전자빔 직각 방식이 대표적입니다. 레이저 직각 방식은 레이저 빔을 직접 스캔하여 패턴을 형성하는 방식이며, 전자빔 직각 방식은 전자빔을 이용하여 패턴을 형성합니다. 최근에는 초미세 패턴 구현을 위해 전자빔 방식이 더 많이 사용되기도 하지만, 생산성과 특정 공정 적용에 있어서는 레이저 방식의 장점도 분명히 존재합니다. 포토마스크는 기본적으로 투명한 기판 위에 불투명한 패턴을 형성하는 구조를 가집니다. 이러한 기판으로는 석영 유리(quartz)가 주로 사용됩니다. 석영 유리는 높은 투과율, 낮은 열팽창 계수, 우수한 화학적 안정성을 가지고 있어 고온 및 다양한 화학 공정 환경에서도 변형 없이 안정적인 패턴 전사를 가능하게 합니다. 불투명한 패턴 부분으로는 크롬(Cr)이 가장 흔하게 사용됩니다. 크롬은 빛을 효과적으로 차단하는 특성을 가지고 있으며, 얇은 막으로 증착되어 정교한 패턴을 형성하는 데 용이합니다. 경우에 따라서는 다양한 금속이나 물질이 패턴 형성 또는 코팅 용도로 사용되기도 합니다. 레이저 포토마스크의 용도는 반도체 제조 공정 전반에 걸쳐 매우 광범위하게 적용됩니다. 최첨단 스마트폰, 고성능 컴퓨터, AI 반도체 등 우리가 일상생활에서 접하는 거의 모든 전자기기의 핵심 부품인 반도체 칩을 생산하는 데 필수적인 역할을 합니다. 특정 레이어의 회로 패턴을 웨이퍼 위에 전사하기 위해 포토마스크를 사용하며, 이러한 과정을 수십 번 반복하여 복잡한 반도체 칩을 완성하게 됩니다. 따라서 반도체 기술의 발전 속도와 궤를 같이하여 포토마스크 기술 역시 끊임없이 진화하고 있습니다. 포토마스크 제작과 관련된 핵심 기술로는 고정밀 레이저 시스템, 패턴 설계 소프트웨어, 마스크 검사 및 수정 기술 등이 있습니다. 고정밀 레이저 시스템은 나노미터 수준의 미세한 패턴을 정확하게 구현할 수 있는 레이저 소스와 이를 제어하는 광학계를 포함합니다. 패턴 설계 소프트웨어는 반도체 회로 설계 데이터를 바탕으로 포토마스크에 새겨질 패턴을 생성하고 최적화하는 역할을 합니다. 마스크 검사 기술은 제작된 포토마스크의 패턴이 설계대로 정확하게 구현되었는지, 결함은 없는지를 고해상도 현미경 및 자동화 검사 장비를 통해 확인하는 과정입니다. 만약 미세한 결함이라도 발견될 경우, 레이저나 전자빔을 이용하여 해당 부분을 수정하는 기술도 중요하게 활용됩니다. 더 나아가, 최근에는 EUV(극자외선) 리소그래피와 같이 더욱 짧은 파장의 빛을 이용하는 기술이 도입되면서 포토마스크 기술도 새로운 도전에 직면하고 있습니다. EUV 포토마스크는 기존의 투과형 마스크와 달리 반사형 마스크 구조를 가지며, 이를 위한 특수 코팅 기술과 제작 공정이 요구됩니다. 이러한 기술 발전은 더욱 집적도가 높고 성능이 우수한 차세대 반도체를 구현하기 위한 필수적인 요소로 작용하고 있습니다. 또한, 포토마스크의 수명 연장 및 생산 효율성 증대를 위한 연구 개발도 활발히 진행되고 있습니다. 결론적으로, 레이저 포토마스크는 반도체 회로를 웨이퍼에 전사하는 데 사용되는 고정밀 패턴 틀로서, 레이저 기술을 기반으로 제작됩니다. 높은 정밀도와 복잡한 패턴 구현 능력을 바탕으로 최첨단 반도체 칩 생산에 필수적인 역할을 수행하며, 관련 기술의 발전은 곧 반도체 산업의 혁신으로 이어지고 있습니다. |
| ※본 조사보고서 [글로벌 레이저 포토마스크 시장 2025-2031] (코드 : LPK23JL1325) 판매에 관한 면책사항을 반드시 확인하세요. |
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