| ■ 영문 제목 : Global High Purity Copper for Sputtering Target Material Market Growth 2025-2031 | |
 | ■ 상품코드 : LPK23JL0714 ■ 조사/발행회사 : LP Information ■ 발행일 : 2025년 3월 ■ 페이지수 : 90 ■ 작성언어 : 영어 ■ 보고서 형태 : PDF ■ 납품 방식 : E메일 ■ 조사대상 지역 : 글로벌 ■ 산업 분야 : 화학&재료 |
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| LP인포메이션 (LPI) 의 최신 조사 자료는 스퍼터링 타겟 재료용 고순도 구리의 과거 판매실적을 살펴보고 2024년의 스퍼터링 타겟 재료용 고순도 구리 판매실적을 검토하여 2025년부터 2031년까지 예상되는 스퍼터링 타겟 재료용 고순도 구리 판매에 대한 지역 및 시장 세그먼트별 포괄적인 분석을 제공합니다. 글로벌 스퍼터링 타겟 재료용 고순도 구리 시장규모는 2024년 xxx백만 달러에서 연평균 xx% 성장하여 2031년에는 xxx백만 달러에 달할 것으로 예측되고 있습니다. 본 보고서의 시장규모 데이터는 무역 전쟁 및 러시아-우크라이나 전쟁의 영향을 반영했습니다. 본 조사 자료는 글로벌 스퍼터링 타겟 재료용 고순도 구리 시장에 관해서 조사, 분석한 보고서로서, 기업별 시장 점유율, 지역별 시장규모 (미주, 미국, 캐나다, 멕시코, 브라질, 아시아 태평양, 중국, 일본, 한국, 동남아시아, 인도, 유럽, 독일, 프랑스, 영국, 이탈리아, 러시아, 중동/아프리카, 이집트, 남아프리카, 터키, 중동GCC국 등), 시장동향, 판매/유통업자/고객 리스트, 시장예측 (2026년-2031년), 주요 기업동향 (기업정보, 제품, 판매량, 매출, 가격, 매출총이익) 등의 정보를 수록하고 있습니다. 또한, 주요지역의 종류별 (5N, 6N, 7N, 기타) 시장규모와 용도별 (반도체, 평판 디스플레이, 박막 태양 전지, 기타) 시장규모 데이터도 포함되어 있습니다. ***** 목차 구성 ***** 보고서의 범위 경영자용 요약 - 글로벌 스퍼터링 타겟 재료용 고순도 구리 시장규모 2020년-2031년 - 지역별 스퍼터링 타겟 재료용 고순도 구리 시장분석 - 종류별 스퍼터링 타겟 재료용 고순도 구리 시장규모 2020년-2025년 (5N, 6N, 7N, 기타) - 용도별 스퍼터링 타겟 재료용 고순도 구리 시장규모 2020년-2025년 (반도체, 평판 디스플레이, 박막 태양 전지, 기타) 기업별 스퍼터링 타겟 재료용 고순도 구리 시장분석 - 기업별 스퍼터링 타겟 재료용 고순도 구리 판매량 - 기업별 스퍼터링 타겟 재료용 고순도 구리 매출액 - 기업별 스퍼터링 타겟 재료용 고순도 구리 판매가격 - 주요기업의 스퍼터링 타겟 재료용 고순도 구리 생산거점, 판매거점 - 시장 집중도 분석 지역별 분석 - 지역별 스퍼터링 타겟 재료용 고순도 구리 판매량 2020년-2025년 - 지역별 스퍼터링 타겟 재료용 고순도 구리 매출액 2020년-2025년 미주 시장 - 미주의 스퍼터링 타겟 재료용 고순도 구리 시장규모 2020년-2025년 - 미주의 스퍼터링 타겟 재료용 고순도 구리 시장규모 : 종류별 - 미주의 스퍼터링 타겟 재료용 고순도 구리 시장규모 : 용도별 - 미국 스퍼터링 타겟 재료용 고순도 구리 시장규모 - 캐나다 스퍼터링 타겟 재료용 고순도 구리 시장규모 - 멕시코 스퍼터링 타겟 재료용 고순도 구리 시장규모 - 브라질 스퍼터링 타겟 재료용 고순도 구리 시장규모 아시아 태평양 시장 - 아시아 태평양의 스퍼터링 타겟 재료용 고순도 구리 시장규모 2020년-2025년 - 아시아 태평양의 스퍼터링 타겟 재료용 고순도 구리 시장규모 : 종류별 - 아시아 태평양의 스퍼터링 타겟 재료용 고순도 구리 시장규모 : 용도별 - 중국 스퍼터링 타겟 재료용 고순도 구리 시장규모 - 일본 스퍼터링 타겟 재료용 고순도 구리 시장규모 - 한국 스퍼터링 타겟 재료용 고순도 구리 시장규모 - 동남아시아 스퍼터링 타겟 재료용 고순도 구리 시장규모 - 인도 스퍼터링 타겟 재료용 고순도 구리 시장규모 유럽 시장 - 유럽의 스퍼터링 타겟 재료용 고순도 구리 시장규모 2020년-2025년 - 유럽의 스퍼터링 타겟 재료용 고순도 구리 시장규모 : 종류별 - 유럽의 스퍼터링 타겟 재료용 고순도 구리 시장규모 : 용도별 - 독일 스퍼터링 타겟 재료용 고순도 구리 시장규모 - 프랑스 스퍼터링 타겟 재료용 고순도 구리 시장규모 - 영국 스퍼터링 타겟 재료용 고순도 구리 시장규모 중동/아프리카 시장 - 중동/아프리카의 스퍼터링 타겟 재료용 고순도 구리 시장규모 2020년-2025년 - 중동/아프리카의 스퍼터링 타겟 재료용 고순도 구리 시장규모 : 종류별 - 중동/아프리카의 스퍼터링 타겟 재료용 고순도 구리 시장규모 : 용도별 - 이집트 스퍼터링 타겟 재료용 고순도 구리 시장규모 - 남아프리카 스퍼터링 타겟 재료용 고순도 구리 시장규모 - 중동GCC 스퍼터링 타겟 재료용 고순도 구리 시장규모 시장의 성장요인, 과제, 동향 - 시장의 성장요인, 기회 - 시장의 과제, 리스크 - 산업 동향 제조원가 구조 분석 - 원재료 및 공급업체 - 스퍼터링 타겟 재료용 고순도 구리의 제조원가 구조 분석 - 스퍼터링 타겟 재료용 고순도 구리의 제조 프로세스 분석 - 스퍼터링 타겟 재료용 고순도 구리의 산업체인 구조 마케팅, 유통업체, 고객 - 판매채널 - 스퍼터링 타겟 재료용 고순도 구리의 유통업체 - 스퍼터링 타겟 재료용 고순도 구리의 주요 고객 지역별 스퍼터링 타겟 재료용 고순도 구리 시장 예측 - 지역별 스퍼터링 타겟 재료용 고순도 구리 시장규모 예측 2026년-2031년 - 미주 시장 예측 - 아시아 태평양 시장 예측 - 유럽 시장 예측 - 중동/아프리카 시장 예측 - 스퍼터링 타겟 재료용 고순도 구리의 종류별 시장예측 (5N, 6N, 7N, 기타) - 스퍼터링 타겟 재료용 고순도 구리의 용도별 시장예측 (반도체, 평판 디스플레이, 박막 태양 전지, 기타) 주요 기업 분석 (기업정보, 제품, 판매량, 매출, 가격, 매출총이익) - JX Nippon Mining & Metals, Mitsubishi Materials, Hitachi Metals, Honeywell, Guoxi Ultra Pure, Jinchaun Group Co,. Ltd., GRIKIN Advanced Material Co., Ltd., Ningbo Weitai 조사의 결과/결론 |
LPI (LP Information)’ newest research report, the “High Purity Copper for Sputtering Target Material Industry Forecast” looks at past sales and reviews total world High Purity Copper for Sputtering Target Material sales in 2024, providing a comprehensive analysis by region and market sector of projected High Purity Copper for Sputtering Target Material sales for 2025 through 2031. With High Purity Copper for Sputtering Target Material sales broken down by region, market sector and sub-sector, this report provides a detailed analysis in US$ millions of the world High Purity Copper for Sputtering Target Material industry.
This Insight Report provides a comprehensive analysis of the global High Purity Copper for Sputtering Target Material landscape and highlights key trends related to product segmentation, company formation, revenue, and market share, latest development, and M&A activity. This report also analyzes the strategies of leading global companies with a focus on High Purity Copper for Sputtering Target Material portfolios and capabilities, market entry strategies, market positions, and geographic footprints, to better understand these firms’ unique position in an accelerating global High Purity Copper for Sputtering Target Material market.
This Insight Report evaluates the key market trends, drivers, and affecting factors shaping the global outlook for High Purity Copper for Sputtering Target Material and breaks down the forecast by type, by application, geography, and market size to highlight emerging pockets of opportunity. With a transparent methodology based on hundreds of bottom-up qualitative and quantitative market inputs, this study forecast offers a highly nuanced view of the current state and future trajectory in the global High Purity Copper for Sputtering Target Material.
The global High Purity Copper for Sputtering Target Material market size is projected to grow from US$ million in 2024 to US$ million in 2031; it is expected to grow at a CAGR of % from 2025 to 2031.
United States market for High Purity Copper for Sputtering Target Material is estimated to increase from US$ million in 2024 to US$ million by 2031, at a CAGR of % from 2025 through 2031.
China market for High Purity Copper for Sputtering Target Material is estimated to increase from US$ million in 2024 to US$ million by 2031, at a CAGR of % from 2025 through 2031.
Europe market for High Purity Copper for Sputtering Target Material is estimated to increase from US$ million in 2024 to US$ million by 2031, at a CAGR of % from 2025 through 2031.
Global key High Purity Copper for Sputtering Target Material players cover JX Nippon Mining & Metals, Mitsubishi Materials, Hitachi Metals, Honeywell, Guoxi Ultra Pure, Jinchaun Group Co,. Ltd., GRIKIN Advanced Material Co., Ltd. and Ningbo Weitai, etc. In terms of revenue, the global two largest companies occupied for a share nearly % in 2024.
This report presents a comprehensive overview, market shares, and growth opportunities of High Purity Copper for Sputtering Target Material market by product type, application, key manufacturers and key regions and countries.
[Market Segmentation]
Segmentation by type
5N
6N
7N
Others
Segmentation by application
Semiconductor
Flat Panel Display
Thin Film Solar Cell
Others
This report also splits the market by region:
Americas
United States
Canada
Mexico
Brazil
APAC
China
Japan
Korea
Southeast Asia
India
Australia
Europe
Germany
France
UK
Italy
Russia
Middle East & Africa
Egypt
South Africa
Israel
Turkey
GCC Countries
The below companies that are profiled have been selected based on inputs gathered from primary experts and analyzing the company’s coverage, product portfolio, its market penetration.
JX Nippon Mining & Metals
Mitsubishi Materials
Hitachi Metals
Honeywell
Guoxi Ultra Pure
Jinchaun Group Co,. Ltd.
GRIKIN Advanced Material Co., Ltd.
Ningbo Weitai
[Key Questions Addressed in this Report]
What is the 10-year outlook for the global High Purity Copper for Sputtering Target Material market?
What factors are driving High Purity Copper for Sputtering Target Material market growth, globally and by region?
Which technologies are poised for the fastest growth by market and region?
How do High Purity Copper for Sputtering Target Material market opportunities vary by end market size?
How does High Purity Copper for Sputtering Target Material break out type, application?
What are the influences of trade war and Russia-Ukraine war?
1 Scope of the Report |
| ※참고 정보 스퍼터링 타겟 재료로 사용되는 고순도 구리는 물리적 증착(PVD) 방법 중 하나인 스퍼터링 공정을 통해 박막을 형성하는 데 사용되는 구리 소재를 의미합니다. 스퍼터링은 진공 환경에서 아르곤(Ar)과 같은 불활성 기체 이온을 타겟 재료에 충돌시켜 타겟 표면의 원자를 떼어내어 기판 위에 증착시키는 기술입니다. 이 과정에서 타겟 재료의 순도는 증착되는 박막의 특성에 직접적인 영향을 미치기 때문에, 높은 순도를 갖는 구리 타겟이 요구됩니다. 고순도 구리 타겟은 일반 구리보다 불순물 함량이 매우 낮은, 일반적으로 99.99% (4N) 이상의 순도를 가진 구리를 말합니다. 더 높은 순도인 5N (99.999%), 6N (99.9999%) 등도 존재하며, 요구되는 박막의 특성에 따라 적절한 순도의 구리 타겟이 선택됩니다. 불순물은 스퍼터링 공정 효율을 저하시키고, 증착된 박막의 전기적, 자기적, 광학적 특성을 열화시키는 요인이 됩니다. 따라서 반도체, 디스플레이, 전자 부품 등 고성능을 요구하는 산업 분야에서는 고순도 구리 타겟 사용이 필수적입니다. 고순도 구리 타겟은 다음과 같은 주요 특징을 가집니다. 첫째, **뛰어난 전기 전도성**입니다. 구리는 은 다음으로 높은 전기 전도성을 가지며, 불순물이 제거됨으로써 이러한 특성이 더욱 극대화됩니다. 이는 전자 소자의 배선 재료로 사용될 때 신호 손실을 최소화하고 고속 동작을 가능하게 합니다. 둘째, **우수한 열 전도성**입니다. 고성능 전자 부품에서 발생하는 열을 효과적으로 방출하는 데 기여하며, 소자의 안정성과 수명을 향상시키는 데 중요한 역할을 합니다. 셋째, **높은 가공성과 낮은 증착 온도**입니다. 구리는 비교적 연성이 뛰어나 다양한 형태로 가공이 용이하며, 스퍼터링 시 증착 온도가 낮아 기판에 미치는 열적 손상을 최소화할 수 있습니다. 이는 열에 민감한 유연 기판이나 복잡한 구조의 기판에도 적용 가능하게 합니다. 넷째, **뛰어난 밀착력과 낮은 저항**입니다. 증착된 구리 박막은 기판과의 밀착력이 우수하고, 박막 자체의 전기 저항이 낮아 고성능 전자 회로 구현에 유리합니다. 다섯째, **안정적인 스퍼터링 성능**입니다. 높은 순도는 스퍼터링 공정 중 타겟 표면의 불균일한 마모나 아크 방전을 줄여 안정적인 박막 증착을 가능하게 합니다. 스퍼터링 타겟 재료로 사용되는 고순도 구리에는 주로 **산소 비함유 구리(Oxygen-Free Copper, OFC)**와 **무산소 구리(Electrolytic Tough Pitch, ETP)** 등이 있습니다. 하지만 일반적으로 "고순도 구리"라고 할 때는 불순물 함량이 극도로 낮은 **고순도 전해 구리(High Purity Electrolytic Copper)**를 지칭하며, 이는 추가적인 정제 과정을 거쳐 순도를 높인 것입니다. 순도 표기 시에는 99.99%, 99.999% 등과 같이 숫자로 불순물 함량의 자릿수를 나타냅니다. 예를 들어, 4N 구리는 99.99% 순도를 의미하며, 이는 불순물 함량이 0.01% 이하임을 뜻합니다. 고순도 구리 타겟의 주요 용도는 다음과 같습니다. 가장 대표적인 것은 **반도체 제조 공정**입니다. 집적 회로(IC)의 내부 배선 재료로 구리가 알루미늄을 대체하면서 고속화 및 집적도 향상에 크게 기여하고 있습니다. 특히 미세 공정에서는 구리의 낮은 전기 저항이 필수적입니다. 또한, **디스플레이 제조 공정**에서도 다양한 용도로 활용됩니다. LCD 및 OLED 패널의 투명 전극, 배선, 게이트 전극 등에 사용되어 화질 향상과 소비 전력 감소에 기여합니다. **PCB(Printed Circuit Board) 산업**에서도 고밀도, 고다층 PCB의 배선 재료로 사용되어 전기적 신뢰성을 높입니다. 이 외에도 **태양전지(Solar Cell) 제조**에서 전극 재료로, **자기 저장 장치(Magnetic Storage Devices)**의 전극으로, **표면 처리 및 코팅** 분야에서 장식용 또는 기능성 코팅으로도 활용됩니다. 고순도 구리 타겟 생산과 관련된 주요 기술로는 **고순도 정련 기술**이 있습니다. 전기분해 정련, 용융 정련, 잔류 기체 제거 기술 등 다양한 방법을 통해 불순물을 효과적으로 제거하여 원하는 순도를 얻습니다. 또한, **타겟 성형 및 가공 기술**도 중요합니다. 스퍼터링 공정에 적합한 균일한 밀도와 표면 상태를 갖는 타겟을 제조하기 위해 압연, 단조, 기계 가공 등 정밀한 가공 기술이 적용됩니다. 최근에는 **타겟의 내부 구조 제어 기술**도 중요해지고 있는데, 결정립 크기나 배열을 조절하여 스퍼터링 효율 및 박막 특성을 최적화하려는 연구가 진행되고 있습니다. 또한, 스퍼터링 공정 자체의 기술 발전도 고순도 구리 타겟의 활용도를 높이는 데 기여합니다. 예를 들어, **반응성 스퍼터링**을 통해 구리 산화물 박막을 형성하거나, **마그네트론 스퍼터링(Magnetron Sputtering)**과 같은 고효율 스퍼터링 방식을 통해 박막 증착 속도를 높이고 공정 효율을 개선할 수 있습니다. **이온화된 금속 증착(Ionized Physical Vapor Deposition, IPVD)** 기술은 이온화된 구리 원자를 이용해 플라즈마 밀도를 높여 박막의 치밀도와 밀착력을 향상시키며, 이는 고순도 구리 타겟의 장점을 더욱 극대화하는 데 도움을 줍니다. 결론적으로, 스퍼터링 타겟 재료용 고순도 구리는 현대 첨단 산업에서 핵심적인 역할을 수행하는 소재이며, 그 순도와 품질은 최종 제품의 성능을 결정짓는 중요한 요소입니다. 지속적인 소재 정련 기술 및 가공 기술의 발전과 더불어, 더욱 정밀하고 복잡한 전자 부품의 요구 사항을 만족시키기 위한 고순도 구리 타겟의 중요성은 앞으로도 더욱 커질 것으로 예상됩니다. |
| ※본 조사보고서 [글로벌 스퍼터링 타겟 재료용 고순도 구리 시장 2025-2031] (코드 : LPK23JL0714) 판매에 관한 면책사항을 반드시 확인하세요. |
| ※본 조사보고서 [글로벌 스퍼터링 타겟 재료용 고순도 구리 시장 2025-2031] 에 대해서 E메일 문의는 여기를 클릭하세요. |