| ■ 영문 제목 : Global DUV Lithography Systems Market 2024 by Manufacturers, Regions, Type and Application, Forecast to 2030 | |
 | ■ 상품코드 : GIR2407E16404 ■ 조사/발행회사 : Globalinforesearch ■ 발행일 : 2024년 4월 ■ 페이지수 : 약100 ■ 작성언어 : 영어 ■ 보고서 형태 : PDF ■ 납품 방식 : E메일 (주문후 2-3일 소요) ■ 조사대상 지역 : 글로벌 ■ 산업 분야 : IT/전자 |
| Single User (1명 열람용) | USD3,480 ⇒환산￦4,872,000 | 견적의뢰/주문/질문 |
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조사회사 Global Info Research의 최신 조사에 따르면, 세계의 DUV 리소그래피 시스템 시장 규모는 2023년에 XXX백만 달러로 분석되었으며, 검토 기간 동안 xx%의 CAGR로 2030년까지 XXX백만 달러의 재조정된 규모로 성장이 예측됩니다.
Global Info Research 보고서에는 DUV 리소그래피 시스템 산업 체인 동향 개요, 인공 지능, 의료, 가전 제품, 기타 응용분야 및 선진 및 개발 도상국의 주요 기업의 시장 현황, DUV 리소그래피 시스템의 최첨단 기술, 특허, 최신 용도 및 시장 동향을 분석했습니다.
지역별로는 주요 지역의 DUV 리소그래피 시스템 시장을 분석합니다. 북미와 유럽은 정부 이니셔티브와 수요자 인식 제고에 힘입어 꾸준한 성장세를 보이고 있습니다. 아시아 태평양, 특히 중국은 탄탄한 내수 수요와 지원 정책, 강력한 제조 기반을 바탕으로 글로벌 DUV 리소그래피 시스템 시장을 주도하고 있습니다.
[주요 특징]
본 보고서는 DUV 리소그래피 시스템 시장에 대한 포괄적인 이해를 제공합니다. 본 보고서는 산업에 대한 전체적인 관점과 개별 구성 요소 및 이해 관계자에 대한 자세한 통찰력을 제공합니다. 본 보고서는 DUV 리소그래피 시스템 산업 내의 시장 역학, 동향, 과제 및 기회를 분석합니다. 또한, 거시적 관점에서 시장을 분석하는 것이 포함됩니다.
시장 규모 및 세분화: 본 보고서는 판매량, 매출 및 종류별 (예 : ArF 건식 엑시머 시스템, ArF 침수 엑시머 시스템, KrF 엑시머 시스템)의 시장 점유율을 포함한 전체 시장 규모에 대한 데이터를 수집합니다.
산업 분석: 보고서는 정부 정책 및 규제, 기술 발전, 수요자 선호도, 시장 역학 등 광범위한 산업 동향을 분석합니다. 이 분석은 DUV 리소그래피 시스템 시장에 영향을 미치는 주요 동인과 과제를 이해하는데 도움이 됩니다.
지역 분석: 본 보고서에는 지역 또는 국가 단위로 DUV 리소그래피 시스템 시장을 조사하는 것이 포함됩니다. 보고서는 정부 인센티브, 인프라 개발, 경제 상황 및 수요자 행동과 같은 지역 요인을 분석하여 다양한 시장 내의 변화와 기회를 식별합니다.
시장 전망: 보고서는 수집된 데이터와 분석을 통해 DUV 리소그래피 시스템 시장에 대한 미래 전망 및 예측을 다룹니다. 여기에는 시장 성장률 추정, 시장 수요 예측, 새로운 트렌드 파악 등이 포함될 수 있습니다. 본 보고서에는 DUV 리소그래피 시스템에 대한 보다 세분화된 접근 방식도 포함됩니다.
기업 분석: 본 보고서는 DUV 리소그래피 시스템 제조업체, 공급업체 및 기타 관련 업계 플레이어를 다룹니다. 이 분석에는 재무 성과, 시장 포지셔닝, 제품 포트폴리오, 파트너십 및 전략에 대한 조사가 포함됩니다.
수요자 분석: 보고서는 DUV 리소그래피 시스템에 대한 수요자 행동, 선호도 및 태도에 대한 데이터를 다룹니다. 여기에는 설문 조사, 인터뷰 및 응용 분야별 (인공 지능, 의료, 가전 제품, 기타)의 다양한 수요자 리뷰 및 피드백 분석이 포함될 수 있습니다.
기술 분석: DUV 리소그래피 시스템과 관련된 특정 기술을 다루는 보고서입니다. DUV 리소그래피 시스템 분야의 현재 상황 및 잠재적 미래 발전 가능성을 평가합니다.
경쟁 환경: 본 보고서는 개별 기업, 공급업체 및 수요업체를 분석하여 DUV 리소그래피 시스템 시장의 경쟁 환경에 대한 통찰력을 제공합니다. 이 분석은 시장 점유율, 경쟁 우위 및 업계 플레이어 간의 차별화 가능성을 이해하는 데 도움이 됩니다.
시장 검증: 본 보고서에는 설문 조사, 인터뷰 및 포커스 그룹과 같은 주요 조사를 통해 결과 및 예측을 검증하는 작업이 포함됩니다.
[시장 세분화]
DUV 리소그래피 시스템 시장은 종류 및 용도별로 나뉩니다. 2019-2030년 기간 동안 세그먼트 간의 시장규모에 대한 정확한 계산 및 예측을 볼륨 및 금액 측면에서 제공합니다.
종류별 시장 세그먼트
– ArF 건식 엑시머 시스템, ArF 침수 엑시머 시스템, KrF 엑시머 시스템
용도별 시장 세그먼트
– 인공 지능, 의료, 가전 제품, 기타
주요 대상 기업
– Canon Inc., Nikon Corporation, ASML Holdings
지역 분석은 다음을 포함합니다.
– 북미 (미국, 캐나다, 멕시코)
– 유럽 (독일, 프랑스, 영국, 러시아, 이탈리아)
– 아시아 태평양 (중국, 일본, 한국, 인도, 동남아시아, 호주)
– 남미 (브라질, 아르헨티나, 콜롬비아)
– 중동 및 아프리카 (사우디아라비아, 아랍에미리트, 이집트, 남아프리카공화국)
본 조사 보고서는 아래 항목으로 구성되어 있습니다.
– DUV 리소그래피 시스템 제품 범위, 시장 개요, 시장 추정, 주의 사항 및 기준 연도를 설명합니다.
– 2019년부터 2024년까지 DUV 리소그래피 시스템의 가격, 판매량, 매출 및 세계 시장 점유율과 함께 DUV 리소그래피 시스템의 주요 제조업체를 프로파일링합니다.
– DUV 리소그래피 시스템 경쟁 상황, 판매량, 매출 및 주요 제조업체의 글로벌 시장 점유율이 상세하게 분석 됩니다.
– DUV 리소그래피 시스템 상세 데이터는 2019년부터 2030년까지 지역별 판매량, 소비금액 및 성장성을 보여주기 위해 지역 레벨로 표시됩니다.
– 2019년부터 2030년까지 판매량 시장 점유율 및 성장률을 종류별, 용도별로 분류합니다.
– 2017년부터 2023년까지 세계 주요 국가의 판매량, 소비금액 및 시장 점유율과 함께 국가 레벨로 판매 데이터를 분류하고, 2025년부터 2030년까지 판매량 및 매출과 함께 지역, 종류 및 용도별로 DUV 리소그래피 시스템 시장 예측을 수행합니다.
– 시장 역학, 성장요인, 저해요인, 동향 및 포터의 다섯 가지 힘 분석.
– 주요 원자재 및 주요 공급 업체, DUV 리소그래피 시스템의 산업 체인.
– DUV 리소그래피 시스템 판매 채널, 유통 업체, 고객(수요기업), 조사 결과 및 결론을 설명합니다.
※납품 보고서의 구성항목 및 내용은 본 페이지에 기재된 내용과 다를 수 있습니다. 보고서 주문 전에 당사에 보고서 샘플을 요청해서 구성항목 및 기재 내용을 반드시 확인하시길 바랍니다. 보고서 샘플에 없는 내용은 납품 드리는 보고서에도 포함되지 않습니다.
■ 보고서 목차■ 시장 개요 ■ 제조업체 프로필 Canon Inc. Nikon Corporation ASML Holdings ■ 제조업체간 경쟁 환경 ■ 지역별 소비 분석 ■ 종류별 시장 세분화 ■ 용도별 시장 세분화 ■ 북미 ■ 유럽 ■ 아시아 태평양 ■ 남미 ■ 중동 및 아프리카 ■ 시장 역학 ■ 원자재 및 산업 체인 ■ 유통 채널별 출하량 ■ 조사 결과 [그림 목록]- DUV 리소그래피 시스템 이미지 - 종류별 세계의 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 (2019 & 2023 & 2030) - 2023년 종류별 세계의 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 시장 점유율 - 용도별 세계의 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 (2019 & 2023 & 2030) - 2023년 용도별 세계의 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 시장 점유율 - 세계의 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 (2019 & 2023 & 2030) - 세계의 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 및 예측 (2019-2030) - 세계의 DUV 리소그래피 시스템 판매량 (2019-2030) - 세계의 DUV 리소그래피 시스템 평균 가격 (2019-2030) - 2023년 제조업체별 세계의 DUV 리소그래피 시스템 판매량 시장 점유율 - 2023년 제조업체별 세계의 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 시장 점유율 - 2023년 상위 3개 DUV 리소그래피 시스템 제조업체(소비 금액) 시장 점유율 - 2023년 상위 6개 DUV 리소그래피 시스템 제조업체(소비 금액) 시장 점유율 - 지역별 DUV 리소그래피 시스템 판매량 시장 점유율 - 지역별 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 시장 점유율 - 북미 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 - 유럽 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 - 아시아 태평양 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 - 남미 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 - 중동 및 아프리카 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 - 세계의 종류별 DUV 리소그래피 시스템 판매량 시장 점유율 - 세계의 종류별 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 시장 점유율 - 세계의 종류별 DUV 리소그래피 시스템 평균 가격 - 세계의 용도별 DUV 리소그래피 시스템 판매량 시장 점유율 - 세계의 용도별 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 시장 점유율 - 세계의 용도별 DUV 리소그래피 시스템 평균 가격 - 북미 DUV 리소그래피 시스템 종류별 판매량 시장 점유율 - 북미 DUV 리소그래피 시스템 용도별 판매 수량 시장 점유율 - 북미 DUV 리소그래피 시스템 국가별 판매 수량 시장 점유율 - 북미 DUV 리소그래피 시스템 국가별 소비 금액 시장 점유율 - 미국 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 및 성장률 - 캐나다 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 및 성장률 - 멕시코 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 및 성장률 - 유럽 DUV 리소그래피 시스템 종류별 판매량 시장 점유율 - 유럽 DUV 리소그래피 시스템 용도별 판매량 시장 점유율 - 유럽 DUV 리소그래피 시스템 국가별 판매량 시장 점유율 - 유럽 DUV 리소그래피 시스템 국가별 소비 금액 시장 점유율 - 독일 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 및 성장률 - 프랑스 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 및 성장률 - 영국 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 및 성장률 - 러시아 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 및 성장률 - 이탈리아 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 및 성장률 - 아시아 태평양 DUV 리소그래피 시스템 종류별 판매량 시장 점유율 - 아시아 태평양 DUV 리소그래피 시스템 용도별 판매량 시장 점유율 - 아시아 태평양 DUV 리소그래피 시스템 지역별 판매 수량 시장 점유율 - 아시아 태평양 DUV 리소그래피 시스템 지역별 소비 금액 시장 점유율 - 중국 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 및 성장률 - 일본 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 및 성장률 - 한국 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 및 성장률 - 인도 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 및 성장률 - 동남아시아 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 및 성장률 - 호주 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 및 성장률 - 남미 DUV 리소그래피 시스템 종류별 판매량 시장 점유율 - 남미 DUV 리소그래피 시스템 용도별 판매량 시장 점유율 - 남미 DUV 리소그래피 시스템 국가별 판매 수량 시장 점유율 - 남미 DUV 리소그래피 시스템 국가별 소비 금액 시장 점유율 - 브라질 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 및 성장률 - 아르헨티나 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 및 성장률 - 중동 및 아프리카 DUV 리소그래피 시스템 종류별 판매량 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 DUV 리소그래피 시스템 용도별 판매량 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 DUV 리소그래피 시스템 지역별 판매량 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 DUV 리소그래피 시스템 지역별 소비 금액 시장 점유율 - 터키 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 및 성장률 - 이집트 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 및 성장률 - 사우디 아라비아 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 및 성장률 - 남아프리카 공화국 DUV 리소그래피 시스템 소비 금액 및 성장률 - DUV 리소그래피 시스템 시장 성장 요인 - DUV 리소그래피 시스템 시장 제약 요인 - DUV 리소그래피 시스템 시장 동향 - 포터의 다섯 가지 힘 분석 - 2023년 DUV 리소그래피 시스템의 제조 비용 구조 분석 - DUV 리소그래피 시스템의 제조 공정 분석 - DUV 리소그래피 시스템 산업 체인 - 직접 채널 장단점 - 간접 채널 장단점 - 방법론 - 조사 프로세스 및 데이터 소스 ※납품 보고서의 구성항목 및 내용은 본 페이지에 기재된 내용과 다를 수 있습니다. 보고서 주문 전에 당사에 보고서 샘플을 요청해서 구성항목 및 기재 내용을 반드시 확인하시길 바랍니다. 보고서 샘플에 없는 내용은 납품 드리는 보고서에도 포함되지 않습니다. |
| ※참고 정보 **DUV 리소그래피 시스템에 대한 이해** 리소그래피는 반도체 제조 공정에서 웨이퍼 위에 미세한 회로 패턴을 형성하는 핵심 기술입니다. 특히 자외선(Ultraviolet, UV)을 이용하여 광학적으로 패턴을 전사하는 광학 리소그래피는 현대 반도체 산업의 근간을 이루고 있습니다. 그중에서도 심자외선(Deep Ultraviolet, DUV)을 광원으로 사용하는 DUV 리소그래피 시스템은 고해상도 패턴 형성에 필수적인 역할을 수행하고 있습니다. DUV 리소그래피 시스템은 차세대 반도체 집적도 향상과 성능 개선에 있어 매우 중요한 기술로 자리매김하고 있습니다. **개념 및 정의** DUV 리소그래피 시스템은 심자외선 영역의 빛, 즉 파장 248nm(크립톤 플루오라이드, KrF) 또는 193nm(아르곤 플루오라이드, ArF)의 레이저 광원을 사용하여 감광액(Photoresist)이 코팅된 웨이퍼에 마스크에 담긴 회로 패턴을 전사하는 장비입니다. 이 과정을 통해 웨이퍼 표면에 매우 정밀하고 미세한 회로 패턴을 새길 수 있습니다. 리소그래피 공정은 크게 네 가지 단계로 이루어집니다. 첫째, 광원으로부터 방출된 자외선이 렌즈 시스템을 통과하면서 패턴이 축소됩니다. 둘째, 축소된 빛이 마스크에 담긴 회로 패턴을 통과합니다. 셋째, 패턴이 형성된 빛이 웨이퍼 위에 올려진 감광액에 조사됩니다. 마지막으로, 현상액을 사용하여 감광액의 노광된 부분 또는 노광되지 않은 부분을 제거하여 웨이퍼에 회로 패턴을 형성합니다. DUV 리소그래피 시스템은 이 모든 과정을 정밀하게 제어하며, 목표로 하는 회로 패턴을 웨이퍼 상에 구현해내는 역할을 합니다. **핵심 특징** DUV 리소그래피 시스템의 가장 두드러진 특징은 사용되는 광원의 파장이 매우 짧다는 점입니다. 짧은 파장의 빛은 회절 현상으로 인한 해상도 제한을 극복하는 데 유리합니다. 광학적 회절 한계에 따르면, 구현 가능한 최소 패턴 크기는 빛의 파장과 수치개구수(Numerical Aperture, NA)에 의해 결정됩니다. 즉, 파장이 짧을수록 더 미세한 패턴을 형성할 수 있습니다. DUV 리소그래피는 기존의 i-line (365nm)이나 g-line (436nm) 리소그래피에 비해 훨씬 짧은 파장을 사용함으로써 단위 면적당 더 많은 트랜지스터를 집적할 수 있게 하였으며, 이는 반도체 성능 향상으로 직결됩니다. 또한, DUV 리소그래피 시스템은 고성능 렌즈 시스템과 정밀한 광학 부품을 사용하여 높은 해상도와 정확도를 보장합니다. 이를 위해 다층 코팅된 고품질 석영 또는 불화칼슘(CaF2) 소재의 렌즈를 사용하며, 이러한 렌즈는 자외선을 효율적으로 투과시키면서도 광학적 수차(Aberration)를 최소화하도록 설계됩니다. 웨이퍼 스테이지의 정밀한 위치 제어 또한 DUV 리소그래피의 중요한 특징 중 하나입니다. 나노미터 수준의 오차도 허용되지 않기 때문에, 고정밀 모터와 센서를 이용한 스테이지 제어 기술이 필수적입니다. **종류 및 발전** DUV 리소그래피 시스템은 주로 사용되는 광원의 종류에 따라 KrF(248nm) 리소그래피 시스템과 ArF(193nm) 리소그래피 시스템으로 구분됩니다. * **KrF 리소그래피 시스템:** 248nm 파장의 KrF 엑시머 레이저를 광원으로 사용합니다. 1990년대 중반부터 널리 사용되었으며, 0.35 마이크로미터 이하의 미세 패턴 형성이 가능했습니다. 당시 첨단 공정 기술로서 다양한 집적회로(IC) 생산에 기여했습니다. * **ArF 리소그래피 시스템:** 193nm 파장의 ArF 엑시머 레이저를 광원으로 사용합니다. KrF 리소그래피보다 더 짧은 파장을 사용하여 해상도를 크게 향상시켰습니다. 2000년대 초반부터 상용화되어 수십 나노미터 공정 기술의 구현을 가능하게 했습니다. ArF 리소그래피 시스템은 단일 광원(Single Pathe)으로도 미세 패턴 형성이 가능하지만, 더욱 미세한 패턴 구현을 위해 다양한 기법들이 추가적으로 적용되고 있습니다. **관련 기술 및 기법** DUV 리소그래피 시스템의 해상도를 더욱 향상시키기 위해 여러 가지 첨단 기술들이 개발 및 적용되고 있습니다. * **심자외선(DUV) 광원 기술:** DUV 리소그래피의 핵심은 안정적이고 고출력의 DUV 레이저 광원을 확보하는 것입니다. KrF 및 ArF 엑시머 레이저 기술은 이러한 요구사항을 충족시키며, 레이저의 안정성, 빔 품질, 그리고 반복률(Repetition Rate) 향상을 위한 지속적인 연구가 이루어지고 있습니다. * **고수치개구수(High-NA) 렌즈 기술:** 리소그래피 해상도는 광원의 파장뿐만 아니라 렌즈의 수치개구수(NA)에도 비례합니다. NA가 높을수록 더 많은 빛을 집광하여 해상도를 높일 수 있습니다. 초기 ArF 시스템의 NA는 0.75 수준이었으나, 현재는 0.93 이상의 High-NA ArF 시스템이 개발 및 상용화되어 30nm 이하의 미세 패턴 구현을 가능하게 하고 있습니다. High-NA 렌즈는 기존보다 더 복잡하고 정밀한 설계 및 제작 기술을 요구하며, 특히 193nm 파장의 빛을 효율적으로 투과시키기 위해 불화칼슘(CaF2) 소재의 중요성이 더욱 부각되고 있습니다. * **확장 리소그래피(Resolution Enhancement Techniques, RETs):** DUV 리소그래피 시스템은 단독으로도 우수한 성능을 발휘하지만, 특정 패턴 형성을 위해 다양한 확장 기술들이 함께 사용됩니다. * **광학 근접 효과 보정(Optical Proximity Correction, OPC):** 마스크 패턴과 실제 웨이퍼에 형성되는 패턴 간의 차이를 줄이기 위해 마스크 패턴을 미리 변형하는 기법입니다. 회절 및 간섭 효과로 인해 발생하는 패턴 왜곡을 보상하여 정확한 패턴을 구현합니다. * **홀로그래픽 리소그래피(Holographic Lithography) 또는 다중 패터닝(Multi-Patterning):** 단일 리소그래피 공정만으로는 구현하기 어려운 매우 미세한 패턴을 여러 번의 리소그래피 공정을 통해 분할하여 형성하는 기술입니다. 예를 들어, 2개의 패턴을 형성해야 할 경우 두 번의 리소그래피 공정을 거쳐 각각의 패턴을 형성한 뒤 합쳐서 최종 패턴을 완성하는 방식입니다. 이는 공정 복잡성을 증가시키지만, DUV 리소그래피의 한계를 극복하고 미세 패턴을 구현하는 데 필수적인 기술로 활용됩니다. * **액침 리소그래피(Immersion Lithography):** ArF 리소그래피의 해상도를 더욱 향상시키기 위해 개발된 기술입니다. 기존의 공기(Air) 대신 물이나 기타 액체(예: 초순수)를 렌즈와 웨이퍼 사이의 공간에 채움으로써 유효 NA 값을 증가시키는 원리입니다. 물의 굴절률이 공기보다 높기 때문에 동일한 NA 렌즈 시스템을 사용하더라도 더 높은 유효 NA를 얻을 수 있으며, 이는 결과적으로 더 높은 해상도를 가능하게 합니다. 2004년 ASML이 최초로 상용화한 이 기술은 현재 대부분의 첨단 반도체 공정에서 필수적으로 사용되고 있습니다. **용도** DUV 리소그래피 시스템은 현대 반도체 산업에서 가장 광범위하게 사용되는 리소그래피 기술 중 하나입니다. 컴퓨터의 중앙 처리 장치(CPU), 그래픽 처리 장치(GPU), 메모리 반도체(DRAM, NAND Flash) 등 고성능 반도체 칩의 제조에 필수적입니다. 특히, 수십 나노미터에서 수 나노미터 공정 노드에 이르는 미세 패턴 형성에 핵심적인 역할을 수행하며, 최첨단 스마트폰, 서버, 데이터 센터 등에 사용되는 고성능 프로세서 및 메모리 생산에 기여하고 있습니다. 반도체 칩의 성능과 집적도는 지속적으로 향상되고 있으며, DUV 리소그래피 시스템은 이러한 기술 발전의 핵심 동력 중 하나입니다. ArF 광원 및 High-NA ArF 시스템은 물론, 미래에는 더 짧은 파장의 EUV(Extreme Ultraviolet) 리소그래피 기술이 더욱 발전하겠지만, 여전히 DUV 리소그래피 시스템은 특정한 공정 단계나 비용 효율적인 솔루션으로서 중요한 위치를 차지하고 있습니다. DUV 기술은 지속적인 발전을 통해 앞으로도 오랫동안 반도체 제조 산업의 중추적인 역할을 수행할 것으로 전망됩니다. |
| ※본 조사보고서 [세계의 DUV 리소그래피 시스템 시장 2024 : 기업, 종류, 용도, 시장예측] (코드 : GIR2407E16404) 판매에 관한 면책사항을 반드시 확인하세요. |
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