| ■ 영문 제목 : Global EUV Lithography System Machine Market Growth 2024-2030 | |
 | ■ 상품코드 : LPI2410G6546 ■ 조사/발행회사 : LP Information ■ 발행일 : 2024년 10월 ■ 페이지수 : 약100 ■ 작성언어 : 영어 ■ 보고서 형태 : PDF ■ 납품 방식 : E메일 (주문후 2-3일 소요) ■ 조사대상 지역 : 글로벌 ■ 산업 분야 : 전자&반도체 |
| Single User (1명 열람용) | USD3,660 ⇒환산￦4,941,000 | 견적의뢰/주문/질문 |
| Multi User (5명 열람용) | USD5,490 ⇒환산￦7,411,500 | 견적의뢰/주문/질문 |
| Corporate User (동일기업내 공유가능) | USD7,320 ⇒환산￦9,882,000 | 견적의뢰/구입/질문 |
|
※가격옵션 설명 - 납기는 즉일~2일소요됩니다. 3일이상 소요되는 경우는 별도표기 또는 연락드립니다. - 지불방법은 계좌이체/무통장입금 또는 카드결제입니다. |
LP Information (LPI)사의 최신 조사에 따르면, 글로벌 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장 규모는 2023년에 미화 XXX백만 달러로 산출되었습니다. 다운 스트림 시장의 수요가 증가함에 따라 EUV 리소그래피 시스템 장치은 조사 대상 기간 동안 XXX%의 CAGR(연평균 성장율)로 2030년까지 미화 XXX백만 달러의 시장규모로 예상됩니다.
본 조사 보고서는 글로벌 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장의 성장 잠재력을 강조합니다. EUV 리소그래피 시스템 장치은 향후 시장에서 안정적인 성장을 보일 것으로 예상됩니다. 그러나 제품 차별화, 비용 절감 및 공급망 최적화는 EUV 리소그래피 시스템 장치의 광범위한 채택을 위해 여전히 중요합니다. 시장 참여자들은 연구 개발에 투자하고, 전략적 파트너십을 구축하고, 진화하는 소비자 선호도에 맞춰 제품을 제공함으로써 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장이 제공하는 막대한 기회를 활용해야 합니다.
[주요 특징]
EUV 리소그래피 시스템 장치 시장에 대한 보고서는 다양한 측면을 반영하고 업계에 대한 소중한 통찰력을 제공합니다.
시장 규모 및 성장: 본 조사 보고서는 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장의 현재 규모와 성장에 대한 개요를 제공합니다. 여기에는 과거 데이터, 유형별 시장 세분화 (예 : 8인치 웨이퍼, 12인치 웨이퍼, 기타) 및 지역 분류가 포함될 수 있습니다.
시장 동인 및 과제: 본 보고서는 정부 규제, 환경 문제, 기술 발전 및 소비자 선호도 변화와 같은 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장의 성장을 주도하는 요인을 식별하고 분석 할 수 있습니다. 또한 인프라 제한, 범위 불안, 높은 초기 비용 등 업계가 직면한 과제를 강조할 수 있습니다.
경쟁 환경: 본 조사 보고서는 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장 내 경쟁 환경에 대한 분석을 제공합니다. 여기에는 주요 업체의 프로필, 시장 점유율, 전략 및 제공 제품이 포함됩니다. 본 보고서는 또한 신흥 플레이어와 시장에 대한 잠재적 영향을 강조할 수 있습니다.
기술 개발: 본 조사 보고서는 EUV 리소그래피 시스템 장치 산업의 최신 기술 개발에 대해 자세히 살펴볼 수 있습니다. 여기에는 EUV 리소그래피 시스템 장치 기술의 발전, EUV 리소그래피 시스템 장치 신규 진입자, EUV 리소그래피 시스템 장치 신규 투자, 그리고 EUV 리소그래피 시스템 장치의 미래를 형성하는 기타 혁신이 포함됩니다.
다운스트림 고객 선호도: 본 보고서는 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장의 고객 구매 행동 및 채택 동향을 조명할 수 있습니다. 여기에는 고객의 구매 결정에 영향을 미치는 요인, EUV 리소그래피 시스템 장치 제품에 대한 선호도가 포함됩니다.
정부 정책 및 인센티브: 본 조사 보고서는 정부 정책 및 인센티브가 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장에 미치는 영향을 분석합니다. 여기에는 규제 프레임워크, 보조금, 세금 인센티브 및 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장을 촉진하기위한 기타 조치에 대한 평가가 포함될 수 있습니다. 본 보고서는 또한 이러한 정책이 시장 성장을 촉진하는데 미치는 효과도 분석합니다.
환경 영향 및 지속 가능성: 조사 보고서는 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장의 환경 영향 및 지속 가능성 측면을 분석합니다.
시장 예측 및 미래 전망: 수행된 분석을 기반으로 본 조사 보고서는 EUV 리소그래피 시스템 장치 산업에 대한 시장 예측 및 전망을 제공합니다. 여기에는 시장 규모, 성장률, 지역 동향, 기술 발전 및 정책 개발에 대한 예측이 포함됩니다.
권장 사항 및 기회: 본 보고서는 업계 이해 관계자, 정책 입안자, 투자자를 위한 권장 사항으로 마무리됩니다. 본 보고서는 시장 참여자들이 새로운 트렌드를 활용하고, 도전 과제를 극복하며, EUV 리소그래피 시스템 장치 시장의 성장과 발전에 기여할 수 있는 잠재적 기회를 강조합니다.
[시장 세분화]
EUV 리소그래피 시스템 장치 시장은 종류 및 용도별로 나뉩니다. 2019-2030년 기간 동안 세그먼트 간의 성장은 종류별 및 용도별로 시장규모에 대한 정확한 계산 및 예측을 수량 및 금액 측면에서 제공합니다.
*** 종류별 세분화 ***
8인치 웨이퍼, 12인치 웨이퍼, 기타
*** 용도별 세분화 ***
첨단 패키징, MEMS 디바이스, LED 디바이스, 기타
본 보고서는 또한 시장을 지역별로 분류합니다:
– 미주 (미국, 캐나다, 멕시코, 브라질)
– 아시아 태평양 (중국, 일본, 한국, 동남아시아, 인도, 호주)
– 유럽 (독일, 프랑스, 영국, 이탈리아, 러시아)
– 중동 및 아프리카 (이집트, 남아프리카 공화국, 이스라엘, 터키, GCC 국가)
아래 프로파일링 대상 기업은 주요 전문가로부터 수집한 정보를 바탕으로 해당 기업의 서비스 범위, 제품 포트폴리오, 시장 점유율을 분석하여 선정되었습니다.
Canon Inc.、 Nikon Corporation、 ASML Holding NV、 Veeco Instruments Inc.、 SUSS MicroTec SE、 Shanghai Micro Electronics Equipment (Group) Co., Ltd.、 EV Group、 JEOL, Ltd.、 Onto Innovation、 Neutronix Quintel Inc.
[본 보고서에서 다루는 주요 질문]
– 글로벌 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장의 향후 10년 전망은 어떻게 될까요?
– 전 세계 및 지역별 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장 성장을 주도하는 요인은 무엇입니까?
– 시장과 지역별로 가장 빠르게 성장할 것으로 예상되는 분야는 무엇인가요?
– 최종 시장 규모에 따라 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장 기회는 어떻게 다른가요?
– EUV 리소그래피 시스템 장치은 종류, 용도를 어떻게 분류합니까?
※납품 보고서의 구성항목 및 내용은 본 페이지에 기재된 내용과 다를 수 있습니다. 보고서 주문 전에 당사에 보고서 샘플을 요청해서 구성항목 및 기재 내용을 반드시 확인하시길 바랍니다. 보고서 샘플에 없는 내용은 납품 드리는 보고서에도 포함되지 않습니다.
■ 보고서 목차■ 보고서의 범위 ■ 보고서의 요약 ■ 기업별 세계 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장분석 ■ 지역별 EUV 리소그래피 시스템 장치에 대한 추이 분석 ■ 미주 시장 ■ 아시아 태평양 시장 ■ 유럽 시장 ■ 중동 및 아프리카 시장 ■ 시장 동인, 도전 과제 및 동향 ■ 제조 비용 구조 분석 ■ 마케팅, 유통업체 및 고객 ■ 지역별 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장 예측 ■ 주요 기업 분석 Canon Inc.、 Nikon Corporation、 ASML Holding NV、 Veeco Instruments Inc.、 SUSS MicroTec SE、 Shanghai Micro Electronics Equipment (Group) Co., Ltd.、 EV Group、 JEOL, Ltd.、 Onto Innovation、 Neutronix Quintel Inc. – Canon Inc. – Nikon Corporation – ASML Holding NV ■ 조사 결과 및 결론 [그림 목록]EUV 리소그래피 시스템 장치 이미지 EUV 리소그래피 시스템 장치 판매량 성장률 (2019-2030) 글로벌 EUV 리소그래피 시스템 장치 매출 성장률 (2019-2030) 지역별 EUV 리소그래피 시스템 장치 매출 (2019, 2023 및 2030) 글로벌 종류별 EUV 리소그래피 시스템 장치 판매량 시장 점유율 2023 글로벌 종류별 EUV 리소그래피 시스템 장치 매출 시장 점유율 (2019-2024) 글로벌 용도별 EUV 리소그래피 시스템 장치 판매량 시장 점유율 2023 글로벌 용도별 EUV 리소그래피 시스템 장치 매출 시장 점유율 기업별 EUV 리소그래피 시스템 장치 판매량 시장 2023 기업별 글로벌 EUV 리소그래피 시스템 장치 판매량 시장 점유율 2023 기업별 EUV 리소그래피 시스템 장치 매출 시장 2023 기업별 글로벌 EUV 리소그래피 시스템 장치 매출 시장 점유율 2023 지역별 글로벌 EUV 리소그래피 시스템 장치 판매량 시장 점유율 (2019-2024) 글로벌 EUV 리소그래피 시스템 장치 매출 시장 점유율 2023 미주 EUV 리소그래피 시스템 장치 판매량 (2019-2024) 미주 EUV 리소그래피 시스템 장치 매출 (2019-2024) 아시아 태평양 EUV 리소그래피 시스템 장치 판매량 (2019-2024) 아시아 태평양 EUV 리소그래피 시스템 장치 매출 (2019-2024) 유럽 EUV 리소그래피 시스템 장치 판매량 (2019-2024) 유럽 EUV 리소그래피 시스템 장치 매출 (2019-2024) 중동 및 아프리카 EUV 리소그래피 시스템 장치 판매량 (2019-2024) 중동 및 아프리카 EUV 리소그래피 시스템 장치 매출 (2019-2024) 미국 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장규모 (2019-2024) 캐나다 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장규모 (2019-2024) 멕시코 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장규모 (2019-2024) 브라질 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장규모 (2019-2024) 중국 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장규모 (2019-2024) 일본 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장규모 (2019-2024) 한국 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장규모 (2019-2024) 동남아시아 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장규모 (2019-2024) 인도 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장규모 (2019-2024) 호주 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장규모 (2019-2024) 독일 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장규모 (2019-2024) 프랑스 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장규모 (2019-2024) 영국 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장규모 (2019-2024) 이탈리아 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장규모 (2019-2024) 러시아 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장규모 (2019-2024) 이집트 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장규모 (2019-2024) 남아프리카 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장규모 (2019-2024) 이스라엘 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장규모 (2019-2024) 터키 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장규모 (2019-2024) GCC 국가 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장규모 (2019-2024) EUV 리소그래피 시스템 장치의 제조 원가 구조 분석 EUV 리소그래피 시스템 장치의 제조 공정 분석 EUV 리소그래피 시스템 장치의 산업 체인 구조 EUV 리소그래피 시스템 장치의 유통 채널 글로벌 지역별 EUV 리소그래피 시스템 장치 판매량 시장 전망 (2025-2030) 글로벌 지역별 EUV 리소그래피 시스템 장치 매출 시장 점유율 예측 (2025-2030) 글로벌 종류별 EUV 리소그래피 시스템 장치 판매량 시장 점유율 예측 (2025-2030) 글로벌 종류별 EUV 리소그래피 시스템 장치 매출 시장 점유율 예측 (2025-2030) 글로벌 용도별 EUV 리소그래피 시스템 장치 판매량 시장 점유율 예측 (2025-2030) 글로벌 용도별 EUV 리소그래피 시스템 장치 매출 시장 점유율 예측 (2025-2030) ※납품 보고서의 구성항목 및 내용은 본 페이지에 기재된 내용과 다를 수 있습니다. 보고서 주문 전에 당사에 보고서 샘플을 요청해서 구성항목 및 기재 내용을 반드시 확인하시길 바랍니다. 보고서 샘플에 없는 내용은 납품 드리는 보고서에도 포함되지 않습니다. |
| ※참고 정보 EUV 리소그래피 시스템 장치는 극자외선(Extreme Ultraviolet, EUV)이라는 짧은 파장의 빛을 이용하여 반도체 웨이퍼 위에 집적회로 패턴을 새기는 데 사용되는 매우 복잡하고 정교한 장치입니다. 기존에 사용되던 불화아르곤(ArF) 레이저 기반 리소그래피 기술로는 더 이상 미세한 회로 패턴을 구현하는 데 한계가 있었고, 이러한 기술적 난제를 극복하기 위해 등장한 것이 EUV 리소그래피입니다. EUV 빛은 파장이 약 13.5 나노미터(nm)로, 이는 기존 기술에서 사용하는 빛보다 훨씬 짧아 나노미터 스케일의 극미세 회로를 보다 효율적으로 구현할 수 있게 해줍니다. EUV 리소그래피 시스템의 가장 근본적인 특징은 바로 그 빛의 파장입니다. 13.5nm의 EUV 빛은 기존 리소그래피에서 사용하던 193nm 빛에 비해 14배 이상 짧은 파장을 가지고 있습니다. 이 짧은 파장은 회절 한계를 극복하고 더욱 미세한 해상도를 얻을 수 있게 합니다. 이는 반도체 집적도를 높이는 데 필수적이며, 동일한 면적에 더 많은 트랜지스터를 집적할 수 있게 하여 반도체 성능 향상에 직접적으로 기여합니다. 예를 들어, 7nm 이하 공정에서는 기존 기술로는 구현이 불가능했던 미세한 패턴을 EUV를 통해서만 가능하게 합니다. 하지만 EUV 빛은 매우 높은 에너지를 가지고 있으며, 공기 중에 흡수되는 특성이 강합니다. 따라서 EUV 리소그래피 시스템은 이러한 특성을 극복하기 위한 독자적인 기술들을 요구합니다. 첫째, EUV 빛은 렌즈를 통과하지 못합니다. 빛이 렌즈를 통과하면서 흡수되거나 굴절률이 높아져 왜곡이 발생하기 때문입니다. 이를 해결하기 위해 EUV 시스템은 거울 기반의 광학계를 사용합니다. 다층막 거울(multilayer mirror)이라 불리는 특수 거울들이 EUV 빛을 반사하여 원하는 패턴을 웨이퍼에 투영하는 역할을 합니다. 이러한 다층막 거울은 몰리브덴(Mo)과 실리콘(Si)과 같은 물질을 수십 겹으로 쌓아 올려 제작되며, 특정 파장의 빛을 높은 효율로 반사하도록 정밀하게 제어됩니다. 둘째, EUV 빛을 생성하는 것 자체가 매우 어려운 기술입니다. 현재 상용화된 EUV 광원은 액체 주석(Sn) 방울에 고출력 레이저를 조사하여 플라즈마를 생성하고, 이 플라즈마에서 발생하는 빛을 포집하는 방식(Laser-Produced Plasma, LPP)을 사용합니다. 이 과정은 수십 기가와트(GW) 이상의 고출력 레이저 기술과 미세한 주석 방울을 정확한 위치에 떨어뜨리는 정밀한 제어 기술, 그리고 발생하는 플라즈마를 효율적으로 EUV 빛으로 전환하고 포집하는 기술 등 첨단 기술의 집약체입니다. 또한, 생성된 EUV 빛의 안정성과 효율성, 그리고 수명 또한 중요한 과제입니다. 셋째, EUV 시스템은 진공 환경에서 작동해야 합니다. 앞서 언급했듯이 EUV 빛은 공기 중에 쉽게 흡수되기 때문에, 빛이 이동하는 모든 경로, 즉 광원부터 마스크, 광학계를 거쳐 웨이퍼에 이르기까지 전체 시스템은 고도의 진공 상태를 유지해야 합니다. 이를 위해 복잡하고 정교한 진공 펌프 시스템과 밀폐 기술이 요구됩니다. 넷째, 마스크(mask) 제작 기술도 EUV 리소그래피의 핵심입니다. 기존 리소그래피에서는 빛이 마스크를 투과하여 패턴을 전달하는 투과형 마스크를 사용했지만, EUV 빛은 거의 모든 물질에 흡수되므로 반사형 마스크를 사용합니다. 이 반사형 마스크는 빛을 반사하여 패턴을 형성하는 데, 마스크 표면에 주기적인 구조를 만들어 EUV 빛을 특정 방향으로 반사시키는 회절 격자(diffraction grating)와 유사한 원리를 이용합니다. 이러한 마스크의 제작은 극도로 정밀한 패턴을 거울 표면에 새겨야 하므로 매우 높은 수준의 기술을 요구합니다. EUV 리소그래피 시스템의 종류는 일반적으로 사용되는 광원의 종류나 시스템의 구성에 따라 구분될 수 있으나, 현재 상용화된 시스템은 주로 ASML이라는 단일 기업에 의해 독점적으로 생산되고 있습니다. ASML의 NXE 시리즈(NXE:3400B, NXE:3400C, NXE:3600D, EXE:5000 등)가 대표적인 EUV 리소그래피 시스템이며, 지속적인 업그레이드를 통해 해상도와 생산성을 향상시키고 있습니다. EUV 리소그래피 시스템의 주요 용도는 첨단 반도체 제조입니다. 특히 7nm, 5nm, 3nm 이하의 미세 공정에서 미세한 회로 패턴을 구현하는 데 필수적인 기술로 자리 잡았습니다. 이는 스마트폰, 고성능 컴퓨팅 장치, 인공지능(AI) 가속기 등 최첨단 전자 기기의 성능 향상에 직접적으로 기여합니다. EUV 리소그래피를 통해 제조된 반도체는 더 작고, 더 빠르고, 더 전력 효율적인 제품을 만들 수 있게 해줍니다. 관련 기술로는 앞서 언급한 다층막 거울, 레이저 플라즈마 광원(LPP), 반사형 마스크 기술 외에도 다음과 같은 기술들이 있습니다. 첫째, 고감도 및 고해상도의 EUV용 감광액(photoresist) 개발입니다. EUV 빛은 에너지가 높아 감광액의 화학적 반응을 효율적으로 일으킬 수 있어야 하며, 동시에 수 나노미터 스케일의 패턴을 선명하게 구현할 수 있어야 합니다. 둘째, 결함 검출 및 수정 기술입니다. 극미세 패턴에서는 아주 작은 결함도 반도체 성능에 치명적인 영향을 미칠 수 있으므로, EUV 시스템에서 발생하는 모든 잠재적 결함을 사전에 감지하고 수정하는 기술이 중요합니다. 셋째, 공정 제어 및 최적화 기술입니다. EUV 리소그래피 공정은 매우 민감하고 복잡하므로, 수많은 변수를 정밀하게 제어하고 최적화하여 일관된 성능을 유지하는 기술이 필수적입니다. 또한, EUV 시스템 자체의 안정성과 유지보수 기술도 매우 중요합니다. EUV 리소그래피 시스템은 반도체 산업의 발전 궤적을 바꾸는 혁신적인 기술이며, 앞으로도 더욱 발전하여 차세대 반도체 기술을 선도할 것으로 기대됩니다. |
| ※본 조사보고서 [세계의 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장 2024-2030] (코드 : LPI2410G6546) 판매에 관한 면책사항을 반드시 확인하세요. |
| ※본 조사보고서 [세계의 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장 2024-2030] 에 대해서 E메일 문의는 여기를 클릭하세요. |