| ■ 영문 제목 : Photoresist Coating Market, Global Outlook and Forecast 2024-2030 | |
 | ■ 상품코드 : MONT2407F39800 ■ 조사/발행회사 : Market Monitor Global ■ 발행일 : 2024년 4월 ■ 페이지수 : 약100 ■ 작성언어 : 영어 ■ 보고서 형태 : PDF ■ 납품 방식 : E메일 (주문후 2-3일 소요) ■ 조사대상 지역 : 글로벌 ■ 산업 분야 : 부품/재료 |
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본 조사 보고서는 현재 동향, 시장 역학 및 미래 전망에 초점을 맞춰, 포토레지스트 코팅 시장에 대한 포괄적인 분석을 제공합니다. 본 보고서는 북미, 유럽, 아시아 태평양 및 신흥 시장과 같은 주요 지역을 포함한 전 세계 포토레지스트 코팅 시장을 대상으로 합니다. 또한 포토레지스트 코팅의 성장을 주도하는 주요 요인, 업계가 직면한 과제 및 시장 참여자를 위한 잠재적 기회도 기재합니다.
글로벌 포토레지스트 코팅 시장은 최근 몇 년 동안 환경 문제, 정부 인센티브 및 기술 발전의 증가로 인해 급속한 성장을 목격했습니다. 포토레지스트 코팅 시장은 웨이퍼, 패널, IC를 포함한 다양한 이해 관계자에게 기회를 제공합니다. 민간 부문과 정부 간의 협력은 포토레지스트 코팅 시장에 대한 지원 정책, 연구 개발 노력 및 투자를 가속화 할 수 있습니다. 또한 증가하는 소비자 수요는 시장 확장의 길을 제시합니다.
글로벌 포토레지스트 코팅 시장은 2023년에 미화 XXX백만 달러로 조사되었으며 2030년까지 미화 XXX백만 달러에 도달할 것으로 예상되며, 예측 기간 동안 XXX%의 CAGR로 성장할 것으로 예상됩니다.
[주요 특징]
포토레지스트 코팅 시장에 대한 조사 보고서에는 포괄적인 통찰력을 제공하고 이해 관계자의 의사 결정을 용이하게하는 몇 가지 주요 항목이 포함되어 있습니다.
요약 : 본 보고서는 포토레지스트 코팅 시장의 주요 결과, 시장 동향 및 주요 통찰력에 대한 개요를 제공합니다.
시장 개요: 본 보고서는 포토레지스트 코팅 시장의 정의, 역사적 추이, 현재 시장 규모를 포함한 포괄적인 개요를 제공합니다. 종류(예: 포지티브 포토레지스트 코팅, 네거티브 포토레지스트 코팅), 지역 및 용도별로 시장을 세분화하여 각 세그먼트 내의 주요 동인, 과제 및 기회를 중점적으로 다룹니다.
시장 역학: 본 보고서는 포토레지스트 코팅 시장의 성장과 발전을 주도하는 시장 역학을 분석합니다. 본 보고서에는 정부 정책 및 규정, 기술 발전, 소비자 동향 및 선호도, 인프라 개발, 업계 협력에 대한 평가가 포함되어 있습니다. 이 분석은 이해 관계자가 포토레지스트 코팅 시장의 궤적에 영향을 미치는 요인을 이해하는데 도움이됩니다.
경쟁 환경: 본 보고서는 포토레지스트 코팅 시장내 경쟁 환경에 대한 심층 분석을 제공합니다. 여기에는 주요 시장 플레이어의 프로필, 시장 점유율, 전략, 제품 포트폴리오 및 최근 동향이 포함됩니다.
시장 세분화 및 예측: 본 보고서는 종류, 지역 및 용도와 같은 다양한 매개 변수를 기반으로 포토레지스트 코팅 시장을 세분화합니다. 정량적 데이터 및 분석을 통해 각 세그먼트의 시장 규모와 성장 예측을 제공합니다. 이를 통해 이해 관계자가 성장 기회를 파악하고 정보에 입각한 투자 결정을 내릴 수 있습니다.
기술 동향: 본 보고서는 주요기술의 발전과 새로운 대체품 등 포토레지스트 코팅 시장을 형성하는 주요 기술 동향을 강조합니다. 이러한 트렌드가 시장 성장, 채택률, 소비자 선호도에 미치는 영향을 분석합니다.
시장 과제와 기회: 본 보고서는 기술적 병목 현상, 비용 제한, 높은 진입 장벽 등 포토레지스트 코팅 시장이 직면한 주요 과제를 파악하고 분석합니다. 또한 정부 인센티브, 신흥 시장, 이해관계자 간의 협업 등 시장 성장의 기회에 대해서도 강조합니다.
규제 및 정책 분석: 본 보고서는 정부 인센티브, 배출 기준, 인프라 개발 계획 등 포토레지스트 코팅에 대한 규제 및 정책 환경을 평가합니다. 이러한 정책이 시장 성장에 미치는 영향을 분석하고 향후 규제 동향에 대한 인사이트를 제공합니다.
권장 사항 및 결론: 본 보고서는 소비자, 정책 입안자, 투자자, 인프라 제공업체 등 이해관계자를 위한 실행 가능한 권고 사항으로 마무리합니다. 이러한 권장 사항은 조사 결과를 바탕으로 포토레지스트 코팅 시장의 주요 과제와 기회를 해결할 수 있습니다.
참고 데이터 및 부록: 보고서에는 분석 및 조사 결과를 입증하기 위한 보조 데이터, 차트, 그래프가 포함되어 있습니다. 또한 데이터 소스, 설문조사, 상세한 시장 예측과 같은 추가 세부 정보가 담긴 부록도 포함되어 있습니다.
[시장 세분화]
포토레지스트 코팅 시장은 종류별 및 용도별로 세분화됩니다. 2019-2030년 기간 동안 세그먼트 간의 성장은 종류별 및 용도별로 시장규모에 대한 정확한 계산 및 예측을 볼륨 및 금액 측면에서 제공합니다.
■ 종류별 시장 세그먼트
– 포지티브 포토레지스트 코팅, 네거티브 포토레지스트 코팅
■ 용도별 시장 세그먼트
– 웨이퍼, 패널, IC
■ 지역별 및 국가별 글로벌 포토레지스트 코팅 시장 점유율, 2023년(%)
– 북미 (미국, 캐나다, 멕시코)
– 유럽 (독일, 프랑스, 영국, 이탈리아, 러시아)
– 아시아 (중국, 일본, 한국, 동남아시아, 인도)
– 남미 (브라질, 아르헨티나)
– 중동 및 아프리카 (터키, 이스라엘, 사우디 아라비아, UAE)
■ 주요 업체
– DuPont, Fujifilm, Tokyo Ohka Kogyo, Merck Group, JSR Corporation, LG Chem, Shin-Etsu Chemical, Sumitomo, Chimei, Daxin, Everlight Chemical, Dongjin Semichem, Asahi Kasei, Eternal Materials, Hitachi Chemical
[주요 챕터의 개요]
1 장 : 포토레지스트 코팅의 정의, 시장 개요를 소개
2 장 : 매출 및 판매량을 기준으로한 글로벌 포토레지스트 코팅 시장 규모
3 장 : 포토레지스트 코팅 제조업체 경쟁 환경, 가격, 판매량 및 매출 시장 점유율, 최신 동향, M&A 정보 등에 대한 자세한 분석
4 장 : 종류별 시장 분석을 제공 (각 세그먼트의 시장 규모와 성장 잠재력을 다룸)
5 장 : 용도별 시장 분석을 제공 (각 세그먼트의 시장 규모와 성장 잠재력을 다룸)
6 장 : 지역 및 국가별 포토레지스트 코팅 판매량. 각 지역 및 주요 국가의 시장 규모와 성장 잠재력에 대한 정량적 분석을 제공. 세계 각국의 시장 개발, 향후 개발 전망, 시장 기회을 소개
7 장 : 주요 업체의 프로필을 제공. 제품 판매, 매출, 가격, 총 마진, 제품 소개, 최근 동향 등 시장 내 주요 업체의 기본 상황을 자세히 소개
8 장 : 지역별 및 국가별 글로벌 포토레지스트 코팅 시장규모
9 장 : 시장 역학, 시장의 최신 동향, 시장의 추진 요인 및 제한 요인, 업계내 업체가 직면한 과제 및 리스크, 업계의 관련 정책 분석을 소개
10 장 : 산업의 업 스트림 및 다운 스트림을 포함한 산업 체인 분석
11 장 : 보고서의 주요 요점 및 결론
※납품 보고서의 구성항목 및 내용은 본 페이지에 기재된 내용과 다를 수 있습니다. 보고서 주문 전에 당사에 보고서 샘플을 요청해서 구성항목 및 기재 내용을 반드시 확인하시길 바랍니다. 보고서 샘플에 없는 내용은 납품 드리는 보고서에도 포함되지 않습니다.
■ 보고서 목차1. 조사 및 분석 보고서 소개 2. 글로벌 포토레지스트 코팅 전체 시장 규모 3. 기업 환경 4. 종류별 시장 분석 5. 용도별 시장 분석 6. 지역별 시장 분석 7. 제조업체 및 브랜드 프로필 DuPont, Fujifilm, Tokyo Ohka Kogyo, Merck Group, JSR Corporation, LG Chem, Shin-Etsu Chemical, Sumitomo, Chimei, Daxin, Everlight Chemical, Dongjin Semichem, Asahi Kasei, Eternal Materials, Hitachi Chemical DuPont Fujifilm Tokyo Ohka Kogyo 8. 글로벌 포토레지스트 코팅 생산 능력 분석 9. 주요 시장 동향, 기회, 동인 및 제약 요인 10. 포토레지스트 코팅 공급망 분석 11. 결론 [그림 목록]- 종류별 포토레지스트 코팅 세그먼트, 2023년 - 용도별 포토레지스트 코팅 세그먼트, 2023년 - 글로벌 포토레지스트 코팅 시장 개요, 2023년 - 글로벌 포토레지스트 코팅 시장 규모: 2023년 VS 2030년 - 글로벌 포토레지스트 코팅 매출, 2019-2030 - 글로벌 포토레지스트 코팅 판매량: 2019-2030 - 포토레지스트 코팅 매출 기준 상위 3개 및 5개 업체 시장 점유율, 2023년 - 글로벌 종류별 포토레지스트 코팅 매출, 2023년 VS 2030년 - 글로벌 종류별 포토레지스트 코팅 매출 시장 점유율 - 글로벌 종류별 포토레지스트 코팅 판매량 시장 점유율 - 글로벌 종류별 포토레지스트 코팅 가격 - 글로벌 용도별 포토레지스트 코팅 매출, 2023년 VS 2030년 - 글로벌 용도별 포토레지스트 코팅 매출 시장 점유율 - 글로벌 용도별 포토레지스트 코팅 판매량 시장 점유율 - 글로벌 용도별 포토레지스트 코팅 가격 - 지역별 포토레지스트 코팅 매출, 2023년 VS 2030년 - 지역별 포토레지스트 코팅 매출 시장 점유율 - 지역별 포토레지스트 코팅 매출 시장 점유율 - 지역별 포토레지스트 코팅 판매량 시장 점유율 - 북미 국가별 포토레지스트 코팅 매출 시장 점유율 - 북미 국가별 포토레지스트 코팅 판매량 시장 점유율 - 미국 포토레지스트 코팅 시장규모 - 캐나다 포토레지스트 코팅 시장규모 - 멕시코 포토레지스트 코팅 시장규모 - 유럽 국가별 포토레지스트 코팅 매출 시장 점유율 - 유럽 국가별 포토레지스트 코팅 판매량 시장 점유율 - 독일 포토레지스트 코팅 시장규모 - 프랑스 포토레지스트 코팅 시장규모 - 영국 포토레지스트 코팅 시장규모 - 이탈리아 포토레지스트 코팅 시장규모 - 러시아 포토레지스트 코팅 시장규모 - 아시아 지역별 포토레지스트 코팅 매출 시장 점유율 - 아시아 지역별 포토레지스트 코팅 판매량 시장 점유율 - 중국 포토레지스트 코팅 시장규모 - 일본 포토레지스트 코팅 시장규모 - 한국 포토레지스트 코팅 시장규모 - 동남아시아 포토레지스트 코팅 시장규모 - 인도 포토레지스트 코팅 시장규모 - 남미 국가별 포토레지스트 코팅 매출 시장 점유율 - 남미 국가별 포토레지스트 코팅 판매량 시장 점유율 - 브라질 포토레지스트 코팅 시장규모 - 아르헨티나 포토레지스트 코팅 시장규모 - 중동 및 아프리카 국가별 포토레지스트 코팅 매출 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 국가별 포토레지스트 코팅 판매량 시장 점유율 - 터키 포토레지스트 코팅 시장규모 - 이스라엘 포토레지스트 코팅 시장규모 - 사우디 아라비아 포토레지스트 코팅 시장규모 - 아랍에미리트 포토레지스트 코팅 시장규모 - 글로벌 포토레지스트 코팅 생산 능력 - 지역별 포토레지스트 코팅 생산량 비중, 2023년 VS 2030년 - 포토레지스트 코팅 산업 가치 사슬 - 마케팅 채널 ※납품 보고서의 구성항목 및 내용은 본 페이지에 기재된 내용과 다를 수 있습니다. 보고서 주문 전에 당사에 보고서 샘플을 요청해서 구성항목 및 기재 내용을 반드시 확인하시길 바랍니다. 보고서 샘플에 없는 내용은 납품 드리는 보고서에도 포함되지 않습니다. |
| ※참고 정보 포토레지스트 코팅은 반도체 제조 공정의 핵심 단계 중 하나로, 빛에 반응하는 감광성 수지인 포토레지스트를 기판 위에 균일하게 도포하는 과정을 의미합니다. 이 과정은 미세한 회로 패턴을 기판에 전사하기 위한 필수적인 전처리 단계로서, 웨이퍼의 표면 상태와 포토레지스트의 균일한 분포가 최종 제품의 성능과 수율에 지대한 영향을 미칩니다. 포토레지스트 코팅의 가장 기본적인 목표는 웨이퍼 전체 표면에 얇고 균일한 포토레지스트 막을 형성하는 것입니다. 이 막은 빛에 노출되면 화학적 변화를 일으키며, 이후 현상 과정을 통해 원하는 패턴의 마스크 역할을 하게 됩니다. 따라서 포토레지스트 코팅의 품질은 최종 회로의 해상도, 패턴의 선명도, 그리고 공정의 재현성에 직접적인 영향을 미칩니다. 포토레지스트 코팅의 주요 특징으로는 다음과 같은 점들을 들 수 있습니다. 첫째, **균일성(Uniformity)**이 매우 중요합니다. 웨이퍼 상의 두께 편차가 크면 노광량이 일정하게 전달되지 않아 패턴의 품질 저하를 초래합니다. 둘째, **밀착성(Adhesion)**이 우수해야 합니다. 코팅된 포토레지스트가 다음 공정 단계에서 박리되거나 들뜨는 현상 없이 웨이퍼 표면에 잘 부착되어야 합니다. 셋째, **결함(Defect)**이 없어야 합니다. 먼지, 스크래치, 기포 등은 미세 패턴 구현에 치명적인 결함을 야기할 수 있으므로 엄격하게 관리되어야 합니다. 넷째, **적절한 두께 조절**이 가능해야 합니다. 구현하려는 회로의 선폭이나 공정 조건에 따라 요구되는 포토레지스트 막의 두께가 달라지기 때문에, 이를 정밀하게 제어할 수 있어야 합니다. 포토레지스트 코팅 방식은 크게 스핀 코팅(Spin Coating)과 기타 코팅 방식으로 나눌 수 있습니다. **스핀 코팅(Spin Coating)**은 현재 가장 보편적으로 사용되는 포토레지스트 코팅 방법입니다. 이 방식은 웨이퍼를 고속으로 회전시키면서 웨이퍼 중심부에 포토레지스트 용액을 떨어뜨려 원심력을 이용해 웨이퍼 표면 전체에 균일한 막을 형성하는 원리입니다. 스핀 코팅은 속도, 시간, 가속도, 포토레지스트 용액의 점도 및 농도, 용매의 증발 속도 등 다양한 변수들을 조절하여 코팅 두께와 균일도를 정밀하게 제어할 수 있다는 장점이 있습니다. 일반적으로 스핀 코팅은 다음과 같은 단계를 거칩니다. 1. **프리-웨팅(Pre-wetting):** 웨이퍼 표면에 포토레지스트 용액이 퍼지도록 미리 소량의 용매를 분사하거나, 포토레지스트 용액을 웨이퍼 중앙에 적절한 양으로 공급합니다. 2. **스핀-온(Spin-on):** 웨이퍼를 회전시키면서 포토레지스트 용액을 공급합니다. 초기에는 저속으로 회전시켜 웨이퍼 전면에 용액을 퍼뜨리고, 이후 고속으로 회전시켜 원심력을 이용해 과도한 용액을 제거하고 원하는 두께의 막을 형성합니다. 3. **에지 비드 제거(Edge Bead Removal, EBR):** 스핀 코팅 과정에서 웨이퍼 가장자리에는 포토레지스트가 두껍게 쌓이는 에지 비드(edge bead)가 형성될 수 있습니다. 이는 다음 공정에서 문제를 일으킬 수 있으므로, 용매를 분사하여 제거하는 과정을 거칩니다. 4. **베이스베이크(Base Bake) 또는 프리베이크(Prebake):** 코팅된 포토레지스트 막에 포함된 용매를 증발시키고 막을 안정화시키기 위해 가열하는 단계입니다. 이 과정은 포토레지스트의 경화도를 조절하고, 다음 노광 및 현상 공정에 적합한 상태로 만듭니다. 스핀 코팅 외에도 다양한 코팅 방식들이 연구 및 개발되고 있습니다. * **딥 코팅(Dip Coating):** 웨이퍼를 포토레지스트 용액에 담갔다가 천천히 인상하면서 코팅하는 방식입니다. 비교적 간단한 장비로 구현 가능하지만, 스핀 코팅에 비해 균일도 제어가 어렵고 용액 소비량이 많다는 단점이 있습니다. * **슬롯 코팅(Slot Coating):** 얇은 노즐을 통해 포토레지스트 용액을 웨이퍼 표면에 연속적으로 공급하면서 코팅하는 방식입니다. 스핀 코팅에 비해 용액 사용량이 적고, 넓은 면적을 균일하게 코팅하는 데 유리할 수 있으며, 특히 기판의 변형이 심한 경우에 적용될 수 있습니다. * **그래비티 코팅(Gravity Coating):** 포토레지스트 용액을 중력에 의해 웨이퍼 위로 흘려보내 코팅하는 방식입니다. 매우 간단한 방법이지만, 균일성 및 정밀도 확보가 어렵습니다. * **스프레이 코팅(Spray Coating):** 포토레지스트 용액을 미세한 입자로 분사하여 웨이퍼 표면에 코팅하는 방식입니다. 다양한 형태의 기판이나 불규칙한 표면에 코팅이 가능하지만, 에어로졸 발생으로 인한 환경 문제 및 공정 제어의 어려움이 있을 수 있습니다. 포토레지스트 코팅은 다양한 종류의 포토레지스트와 함께 사용됩니다. 포토레지스트는 빛에 반응하는 방식에 따라 크게 **양성 포토레지스트(Positive Photoresist)**와 **음성 포토레지스트(Negative Photoresist)**로 나눌 수 있습니다. * **양성 포토레지스트:** 빛이 조사된 영역이 현상액에 의해 제거되는 방식입니다. 즉, 노광된 부분이 패턴으로 남지 않고 제거됩니다. 따라서 마스크 패턴의 모양과 동일한 모양으로 패턴이 형성됩니다. 미세 패턴 구현에 유리하며, 주로 반도체 집적회로 제조에 널리 사용됩니다. * **음성 포토레지스트:** 빛이 조사된 영역이 현상액에 의해 제거되지 않고 남아있는 방식입니다. 즉, 노광되지 않은 부분이 제거됩니다. 따라서 마스크 패턴의 모양과는 반대 모양으로 패턴이 형성됩니다. 상대적으로 거친 패턴이나 박막 트랜지스터(TFT) 등 특정 용도에 사용되기도 합니다. 포토레지스트의 화학적 조성에 따라서도 다양한 종류로 구분될 수 있습니다. 일반적으로 포토레지스트는 **감광제(Photoactive Compound, PAC)**, **수지(Resin)**, **용매(Solvent)**, 그리고 **첨가제(Additive)**로 구성됩니다. * **감광제:** 빛 에너지에 의해 화학 반응을 일으켜 포토레지스트의 현상 특성을 변화시키는 물질입니다. * **수지:** 코팅막의 기계적 강도, 용해도, 내화학성 등을 결정하는 고분자 물질입니다. 주로 프탈로시아닌계 수지, 에폭시 수지 등이 사용됩니다. * **용매:** 감광제와 수지를 녹여 균일한 용액 상태로 만드는 물질입니다. 코팅 두께와 균일도에 영향을 미칩니다. * **첨가제:** 표면 장력 조절제, 점도 조절제, 밀착 증진제 등 포토레지스트의 성능을 향상시키기 위해 소량 첨가되는 물질입니다. 포토레지스트 코팅 기술은 단순히 포토레지스트를 웨이퍼 위에 올리는 것을 넘어, 다양한 관련 기술과 유기적으로 결합하여 반도체 제조 공정의 효율성과 성능을 극대화합니다. 주요 관련 기술로는 다음과 같은 것들이 있습니다. * **기판 전처리(Substrate Pre-treatment):** 포토레지스트의 밀착성을 향상시키기 위해 웨이퍼 표면을 세정하고, 필요에 따라 HMDS(Hexamethyldisilazane)와 같은 밀착 증진제를 코팅하는 과정입니다. 이는 포토레지스트가 웨이퍼 표면에 단단히 붙어 다음 공정 단계에서 떨어져 나가는 것을 방지합니다. * **베이크 공정(Bake Process):** 포토레지스트 코팅 후 잔류 용매를 제거하고 포토레지스트 막을 경화시키는 과정입니다. 베이크 온도는 포토레지스트의 특성과 후속 공정에 큰 영향을 미치므로 정밀한 온도 및 시간 제어가 필수적입니다. 일반적으로 프리베이크(prebake)와 소프트베이크(softbake) 등의 용어로 불리며, 이는 코팅된 포토레지스트의 용매 함량을 조절하여 감도와 해상도를 최적화합니다. * **광학 계측(Optical Metrology):** 코팅된 포토레지스트 막의 두께, 균일도, 표면 거칠기 등을 측정하고 검증하는 기술입니다. 엘립소미터(ellipsometer), 프로파일러(profilometer) 등의 장비를 사용하여 실시간으로 품질을 관리하고 공정 이상을 감지합니다. * **클린룸(Cleanroom) 환경:** 포토레지스트 코팅은 미세 먼지에 매우 민감하므로, 먼지 입자를 철저히 제어하는 클린룸 환경에서 수행되어야 합니다. 공기 중의 오염 물질은 포토레지스트 막에 결함을 유발하여 제품 불량을 초래할 수 있습니다. * **공정 자동화 및 제어 시스템:** 포토레지스트 코팅 공정은 고도의 자동화가 요구됩니다. 웨이퍼 핸들링, 용액 공급, 스핀 코팅 속도 제어, 베이크 온도 제어 등 모든 과정을 정밀하게 제어하는 시스템을 통해 일관된 품질과 높은 생산성을 확보합니다. 반도체 미세화가 가속화됨에 따라 포토레지스트 코팅 기술 역시 끊임없이 발전하고 있습니다. 더 얇고 균일하며 결함 없는 포토레지스트 막을 형성하는 것은 물론, 새로운 재료의 포토레지스트와 차세대 코팅 기술의 개발이 활발히 이루어지고 있습니다. 예를 들어, 극자외선(EUV) 리소그래피와 같은 첨단 공정에서는 더욱 정밀하고 특수한 성능을 가진 포토레지스트와 이를 효율적으로 코팅하는 기술이 필수적으로 요구됩니다. 또한, 환경 규제 강화 및 비용 절감을 위해 용매 사용량을 줄이거나 대체하는 연구도 진행되고 있습니다. 결론적으로, 포토레지스트 코팅은 단순한 도포 과정을 넘어 미세 회로 패턴 형성의 성공을 좌우하는 매우 정밀하고 중요한 기술입니다. 스핀 코팅을 중심으로 발전해 온 코팅 방식들은 다양한 관련 기술과의 융합을 통해 반도체 집적회로의 성능 향상과 미세화에 핵심적인 역할을 수행하고 있으며, 미래의 첨단 반도체 기술 발전에서도 그 중요성이 더욱 커질 것입니다. |
| ※본 조사보고서 [글로벌 포토레지스트 코팅 시장예측 2024-2030] (코드 : MONT2407F39800) 판매에 관한 면책사항을 반드시 확인하세요. |
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