| ■ 영문 제목 : Optical Patterned Wafer Inspection Equipment (OPWIE) Market, Global Outlook and Forecast 2024-2030 | |
 | ■ 상품코드 : MONT2407F37390 ■ 조사/발행회사 : Market Monitor Global ■ 발행일 : 2024년 4월 ■ 페이지수 : 약100 ■ 작성언어 : 영어 ■ 보고서 형태 : PDF ■ 납품 방식 : E메일 (주문후 2-3일 소요) ■ 조사대상 지역 : 글로벌 ■ 산업 분야 : IT/전자 |
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본 조사 보고서는 현재 동향, 시장 역학 및 미래 전망에 초점을 맞춰, 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 시장에 대한 포괄적인 분석을 제공합니다. 본 보고서는 북미, 유럽, 아시아 태평양 및 신흥 시장과 같은 주요 지역을 포함한 전 세계 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 시장을 대상으로 합니다. 또한 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE)의 성장을 주도하는 주요 요인, 업계가 직면한 과제 및 시장 참여자를 위한 잠재적 기회도 기재합니다.
글로벌 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 시장은 최근 몇 년 동안 환경 문제, 정부 인센티브 및 기술 발전의 증가로 인해 급속한 성장을 목격했습니다. 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 시장은 가전 제품, 자동화를 포함한 다양한 이해 관계자에게 기회를 제공합니다. 민간 부문과 정부 간의 협력은 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 시장에 대한 지원 정책, 연구 개발 노력 및 투자를 가속화 할 수 있습니다. 또한 증가하는 소비자 수요는 시장 확장의 길을 제시합니다.
글로벌 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 시장은 2023년에 미화 XXX백만 달러로 조사되었으며 2030년까지 미화 XXX백만 달러에 도달할 것으로 예상되며, 예측 기간 동안 XXX%의 CAGR로 성장할 것으로 예상됩니다.
[주요 특징]
광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 시장에 대한 조사 보고서에는 포괄적인 통찰력을 제공하고 이해 관계자의 의사 결정을 용이하게하는 몇 가지 주요 항목이 포함되어 있습니다.
요약 : 본 보고서는 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 시장의 주요 결과, 시장 동향 및 주요 통찰력에 대한 개요를 제공합니다.
시장 개요: 본 보고서는 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 시장의 정의, 역사적 추이, 현재 시장 규모를 포함한 포괄적인 개요를 제공합니다. 종류(예: 명시야 검사 시스템, 암시야 검사 시스템, 전자빔 검사 시스템), 지역 및 용도별로 시장을 세분화하여 각 세그먼트 내의 주요 동인, 과제 및 기회를 중점적으로 다룹니다.
시장 역학: 본 보고서는 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 시장의 성장과 발전을 주도하는 시장 역학을 분석합니다. 본 보고서에는 정부 정책 및 규정, 기술 발전, 소비자 동향 및 선호도, 인프라 개발, 업계 협력에 대한 평가가 포함되어 있습니다. 이 분석은 이해 관계자가 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 시장의 궤적에 영향을 미치는 요인을 이해하는데 도움이됩니다.
경쟁 환경: 본 보고서는 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 시장내 경쟁 환경에 대한 심층 분석을 제공합니다. 여기에는 주요 시장 플레이어의 프로필, 시장 점유율, 전략, 제품 포트폴리오 및 최근 동향이 포함됩니다.
시장 세분화 및 예측: 본 보고서는 종류, 지역 및 용도와 같은 다양한 매개 변수를 기반으로 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 시장을 세분화합니다. 정량적 데이터 및 분석을 통해 각 세그먼트의 시장 규모와 성장 예측을 제공합니다. 이를 통해 이해 관계자가 성장 기회를 파악하고 정보에 입각한 투자 결정을 내릴 수 있습니다.
기술 동향: 본 보고서는 주요기술의 발전과 새로운 대체품 등 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 시장을 형성하는 주요 기술 동향을 강조합니다. 이러한 트렌드가 시장 성장, 채택률, 소비자 선호도에 미치는 영향을 분석합니다.
시장 과제와 기회: 본 보고서는 기술적 병목 현상, 비용 제한, 높은 진입 장벽 등 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 시장이 직면한 주요 과제를 파악하고 분석합니다. 또한 정부 인센티브, 신흥 시장, 이해관계자 간의 협업 등 시장 성장의 기회에 대해서도 강조합니다.
규제 및 정책 분석: 본 보고서는 정부 인센티브, 배출 기준, 인프라 개발 계획 등 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE)에 대한 규제 및 정책 환경을 평가합니다. 이러한 정책이 시장 성장에 미치는 영향을 분석하고 향후 규제 동향에 대한 인사이트를 제공합니다.
권장 사항 및 결론: 본 보고서는 소비자, 정책 입안자, 투자자, 인프라 제공업체 등 이해관계자를 위한 실행 가능한 권고 사항으로 마무리합니다. 이러한 권장 사항은 조사 결과를 바탕으로 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 시장의 주요 과제와 기회를 해결할 수 있습니다.
참고 데이터 및 부록: 보고서에는 분석 및 조사 결과를 입증하기 위한 보조 데이터, 차트, 그래프가 포함되어 있습니다. 또한 데이터 소스, 설문조사, 상세한 시장 예측과 같은 추가 세부 정보가 담긴 부록도 포함되어 있습니다.
[시장 세분화]
광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 시장은 종류별 및 용도별로 세분화됩니다. 2019-2030년 기간 동안 세그먼트 간의 성장은 종류별 및 용도별로 시장규모에 대한 정확한 계산 및 예측을 볼륨 및 금액 측면에서 제공합니다.
■ 종류별 시장 세그먼트
– 명시야 검사 시스템, 암시야 검사 시스템, 전자빔 검사 시스템
■ 용도별 시장 세그먼트
– 가전 제품, 자동화
■ 지역별 및 국가별 글로벌 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 시장 점유율, 2023년(%)
– 북미 (미국, 캐나다, 멕시코)
– 유럽 (독일, 프랑스, 영국, 이탈리아, 러시아)
– 아시아 (중국, 일본, 한국, 동남아시아, 인도)
– 남미 (브라질, 아르헨티나)
– 중동 및 아프리카 (터키, 이스라엘, 사우디 아라비아, UAE)
■ 주요 업체
– ASML, KLA-Tencor, Applied Materials, Hitachi High-Technologies, Tokyo Seimitsu, Toray Engineering, JEOL
[주요 챕터의 개요]
1 장 : 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE)의 정의, 시장 개요를 소개
2 장 : 매출 및 판매량을 기준으로한 글로벌 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 시장 규모
3 장 : 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 제조업체 경쟁 환경, 가격, 판매량 및 매출 시장 점유율, 최신 동향, M&A 정보 등에 대한 자세한 분석
4 장 : 종류별 시장 분석을 제공 (각 세그먼트의 시장 규모와 성장 잠재력을 다룸)
5 장 : 용도별 시장 분석을 제공 (각 세그먼트의 시장 규모와 성장 잠재력을 다룸)
6 장 : 지역 및 국가별 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 판매량. 각 지역 및 주요 국가의 시장 규모와 성장 잠재력에 대한 정량적 분석을 제공. 세계 각국의 시장 개발, 향후 개발 전망, 시장 기회을 소개
7 장 : 주요 업체의 프로필을 제공. 제품 판매, 매출, 가격, 총 마진, 제품 소개, 최근 동향 등 시장 내 주요 업체의 기본 상황을 자세히 소개
8 장 : 지역별 및 국가별 글로벌 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 시장규모
9 장 : 시장 역학, 시장의 최신 동향, 시장의 추진 요인 및 제한 요인, 업계내 업체가 직면한 과제 및 리스크, 업계의 관련 정책 분석을 소개
10 장 : 산업의 업 스트림 및 다운 스트림을 포함한 산업 체인 분석
11 장 : 보고서의 주요 요점 및 결론
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■ 보고서 목차1. 조사 및 분석 보고서 소개 2. 글로벌 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 전체 시장 규모 3. 기업 환경 4. 종류별 시장 분석 5. 용도별 시장 분석 6. 지역별 시장 분석 7. 제조업체 및 브랜드 프로필 ASML, KLA-Tencor, Applied Materials, Hitachi High-Technologies, Tokyo Seimitsu, Toray Engineering, JEOL ASML KLA-Tencor Applied Materials 8. 글로벌 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 생산 능력 분석 9. 주요 시장 동향, 기회, 동인 및 제약 요인 10. 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 공급망 분석 11. 결론 [그림 목록]- 종류별 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 세그먼트, 2023년 - 용도별 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 세그먼트, 2023년 - 글로벌 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 시장 개요, 2023년 - 글로벌 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 시장 규모: 2023년 VS 2030년 - 글로벌 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 매출, 2019-2030 - 글로벌 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 판매량: 2019-2030 - 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 매출 기준 상위 3개 및 5개 업체 시장 점유율, 2023년 - 글로벌 종류별 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 매출, 2023년 VS 2030년 - 글로벌 종류별 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 매출 시장 점유율 - 글로벌 종류별 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 판매량 시장 점유율 - 글로벌 종류별 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 가격 - 글로벌 용도별 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 매출, 2023년 VS 2030년 - 글로벌 용도별 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 매출 시장 점유율 - 글로벌 용도별 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 판매량 시장 점유율 - 글로벌 용도별 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 가격 - 지역별 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 매출, 2023년 VS 2030년 - 지역별 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 매출 시장 점유율 - 지역별 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 매출 시장 점유율 - 지역별 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 판매량 시장 점유율 - 북미 국가별 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 매출 시장 점유율 - 북미 국가별 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 판매량 시장 점유율 - 미국 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 시장규모 - 캐나다 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 시장규모 - 멕시코 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 시장규모 - 유럽 국가별 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 매출 시장 점유율 - 유럽 국가별 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 판매량 시장 점유율 - 독일 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 시장규모 - 프랑스 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 시장규모 - 영국 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 시장규모 - 이탈리아 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 시장규모 - 러시아 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 시장규모 - 아시아 지역별 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 매출 시장 점유율 - 아시아 지역별 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 판매량 시장 점유율 - 중국 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 시장규모 - 일본 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 시장규모 - 한국 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 시장규모 - 동남아시아 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 시장규모 - 인도 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 시장규모 - 남미 국가별 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 매출 시장 점유율 - 남미 국가별 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 판매량 시장 점유율 - 브라질 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 시장규모 - 아르헨티나 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 시장규모 - 중동 및 아프리카 국가별 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 매출 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 국가별 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 판매량 시장 점유율 - 터키 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 시장규모 - 이스라엘 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 시장규모 - 사우디 아라비아 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 시장규모 - 아랍에미리트 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 시장규모 - 글로벌 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 생산 능력 - 지역별 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 생산량 비중, 2023년 VS 2030년 - 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 산업 가치 사슬 - 마케팅 채널 ※납품 보고서의 구성항목 및 내용은 본 페이지에 기재된 내용과 다를 수 있습니다. 보고서 주문 전에 당사에 보고서 샘플을 요청해서 구성항목 및 기재 내용을 반드시 확인하시길 바랍니다. 보고서 샘플에 없는 내용은 납품 드리는 보고서에도 포함되지 않습니다. |
| ※참고 정보 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계(OPWIE)는 반도체 제조 공정에서 매우 중요한 역할을 수행하는 장비입니다. 웨이퍼 위에 형성된 복잡하고 미세한 회로 패턴의 결함을 자동으로 검출하고 분석하는 데 사용됩니다. 이러한 결함은 반도체 칩의 성능 저하, 불량, 수율 감소의 직접적인 원인이 되기 때문에, OPWIE는 고품질의 반도체 제품을 생산하기 위한 필수 불가결한 장비라고 할 수 있습니다. OPWIE의 핵심적인 개념은 빛을 이용하여 웨이퍼 표면의 패턴을 관찰하고, 사전에 정의된 정상 패턴과의 차이를 비교하여 비정상적인 부분을 찾아내는 것입니다. 이를 위해 OPWIE는 다양한 광학 기술과 이미지 처리 기술을 집약적으로 활용합니다. 일반적으로 검사 대상이 되는 웨이퍼는 실리콘이나 석영 기판 위에 포토리소그래피 등의 공정을 통해 수 나노미터에서 수십 나노미터 수준의 매우 정밀한 회로 패턴이 새겨져 있습니다. 이러한 미세한 패턴의 결함을 사람의 눈으로 일일이 확인하는 것은 불가능하며, 자동화된 고속 검사가 필수적입니다. OPWIE의 주요 특징으로는 높은 해상도와 민감도, 빠른 검사 속도, 그리고 다양한 결함 유형에 대한 검출 능력을 꼽을 수 있습니다. 반도체 패턴의 미세화가 가속화됨에 따라, OPWIE는 기존보다 훨씬 더 높은 해상도를 요구받고 있습니다. 이는 더 작은 결함도 놓치지 않고 검출할 수 있음을 의미하며, 이를 위해 최신 광학 기술, 예를 들어 다양한 파장의 빛을 사용하거나, 고배율 렌즈 시스템, 그리고 진보된 조명 기술 등이 적용됩니다. 또한, 검사 속도는 생산 효율과 직결되는 중요한 요소입니다. 한 장의 웨이퍼에는 수백 개 이상의 칩이 집적되는데, 각 칩의 수십 혹은 수백 개에 달하는 패턴을 빠르고 정확하게 검사해야 하므로, OPWIE는 초당 수십에서 수백 메가픽셀 이상의 데이터를 처리할 수 있는 능력을 갖추고 있습니다. 결함 유형 또한 매우 다양합니다. 패턴의 끊어짐(break), 단락(short), 크기 변화(size variation), 위치 어긋남(misalignment), 잔여물(residue), 이물질(particle), 박리(peeling) 등 다양한 형태의 결함을 효과적으로 검출할 수 있어야 합니다. 이러한 결함들을 효과적으로 검출하기 위해 OPWIE는 단순히 이미지의 밝기나 색상 차이만을 분석하는 것이 아니라, 패턴의 형상, 크기, 위치 등 기하학적인 정보까지 종합적으로 분석합니다. OPWIE는 그 작동 방식에 따라 크게 두 가지 종류로 나눌 수 있습니다. 첫 번째는 **비교 검사(Comparison Inspection)** 방식입니다. 이 방식은 완벽한 것으로 알려진 마스터 패턴(golden pattern)과 실제 웨이퍼에 형성된 패턴을 비교하여 차이점을 찾아냅니다. 이 방법은 매우 정밀한 검사가 가능하지만, 마스터 패턴이 항상 완벽하다고 가정해야 하며, 마스터 패턴과 실제 패턴 간의 미세한 차이가 발생하는 경우에도 결함으로 오인할 수 있다는 단점을 가집니다. 두 번째는 **절대 검사(Absolute Inspection)** 방식입니다. 이 방식은 특정 패턴의 모양, 크기, 위치 등에 대한 설계 데이터를 바탕으로 실제 웨이퍼의 패턴을 분석하여 설계 기준에서 벗어나는 부분을 결함으로 판단합니다. 이 방식은 마스터 패턴이 필요 없다는 장점이 있지만, 설계 데이터에 오류가 있거나 복잡한 패턴의 경우 검출이 어려울 수 있습니다. 실제 OPWIE 장비는 이러한 두 가지 방식을 혼합하여 사용하거나, 특정 검사 목적에 따라 최적화된 방식을 선택하여 사용하기도 합니다. OPWIE의 주요 용도는 반도체 제조 공정 전반에 걸쳐 다양하게 분포됩니다. 가장 대표적인 적용 단계는 **포토 공정(Photolithography)** 이후입니다. 포토 공정은 빛을 이용하여 웨이퍼에 회로 패턴을 형성하는 핵심 공정인데, 이 과정에서 발생하는 미세한 패턴 오류는 후속 공정으로 그대로 이어져 최종 제품의 불량으로 직결될 수 있습니다. 따라서 포토 공정 후 웨이퍼 전수 검사를 통해 패턴 형성의 정확성을 확인하고, 문제가 발견되면 해당 웨이퍼를 격리하거나 공정 조건을 조절하는 데 활용됩니다. 또한, **식각 공정(Etching)** 후에도 패턴의 정확한 전사 여부를 확인하기 위해 OPWIE가 사용됩니다. 식각 공정은 포토 공정으로 만들어진 패턴을 따라 웨이퍼 표면을 깎아내는 공정인데, 이때 발생하는 과도한 식각이나 부족한 식각, 또는 패턴의 변형 등도 중요한 결함으로 간주됩니다. 이 외에도 **증착 공정(Deposition)**이나 **이온 주입 공정(Ion Implantation)** 등 웨이퍼 표면에 물질을 추가하거나 변화시키는 모든 공정에서 OPWIE는 패턴의 무결성을 확인하는 데 사용됩니다. 즉, 반도체 웨이퍼가 완성되기까지 여러 공정을 거치면서 각 단계마다 형성되는 패턴의 품질을 보증하는 역할을 합니다. OPWIE와 관련된 핵심 기술들은 매우 다양합니다. 우선 **광학 시스템**이 있습니다. 고해상도 이미지를 얻기 위해 사용되는 렌즈, 조명 시스템(UV, DUV, EUV 등 다양한 파장 활용), 필터, 그리고 광원으로는 레이저나 고압 수은등 등이 사용됩니다. **이미지 센서** 또한 중요한 기술인데, 고속으로 대량의 이미지를 획득하기 위해 CCD나 CMOS와 같은 고성능 이미지 센서가 사용됩니다. 다음으로 **이미지 처리 및 분석 알고리즘**입니다. 획득된 이미지를 노이즈 제거, 대비 개선 등 전처리 과정을 거친 후, 정교한 패턴 매칭 기술, 기계 학습 및 딥러닝 기반의 결함 분류 알고리즘 등을 통해 패턴의 미세한 변화나 결함을 정확하게 검출하고 분류합니다. **데이터 처리 및 관리 시스템** 역시 중요합니다. 검사 과정에서 발생하는 방대한 양의 이미지 데이터와 결함 정보를 효율적으로 저장하고, 분석하며, 사용자가 쉽게 접근하고 관리할 수 있도록 하는 시스템이 필요합니다. 또한, 웨이퍼를 정밀하게 이동시키고 고정하는 **스테이지 제어 기술**과, 외부 환경으로부터 검사 시스템을 격리하여 오염을 방지하는 **클린룸 기술** 및 **진동 제어 기술**도 OPWIE의 성능에 직접적인 영향을 미칩니다. 최근에는 반도체 패턴의 복잡성이 증가하고 미세화가 진행됨에 따라, 인공지능(AI) 및 머신러닝 기술을 활용하여 결함 검출의 정확성과 속도를 비약적으로 향상시키려는 연구가 활발히 진행되고 있습니다. 특히, 딥러닝 기반의 이상 탐지(Anomaly Detection) 기술은 이전에 발견되지 않았던 새로운 유형의 결함까지도 학습하여 검출할 수 있는 잠재력을 가지고 있습니다. 결론적으로, 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계(OPWIE)는 반도체 산업의 발전과 함께 끊임없이 진화해 왔습니다. 미세한 회로 패턴의 결함을 신속하고 정확하게 검출함으로써 반도체 칩의 품질을 보증하고 생산 수율을 높이는 데 지대한 공헌을 하고 있습니다. 앞으로도 반도체 기술의 발전 방향에 발맞추어 더욱 높은 해상도, 더 빠른 속도, 더 지능적인 결함 분석 능력을 갖춘 OPWIE의 개발이 지속될 것이며, 이는 미래 반도체 산업의 경쟁력 확보에 필수적인 요소가 될 것입니다. |
| ※본 조사보고서 [글로벌 광학 패턴 웨이퍼 검사 기계 (OPWIE) 시장예측 2024-2030] (코드 : MONT2407F37390) 판매에 관한 면책사항을 반드시 확인하세요. |
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