| ■ 영문 제목 : High Purity Sputtering Target Market, Global Outlook and Forecast 2024-2030 | |
 | ■ 상품코드 : MONT2407F24592 ■ 조사/발행회사 : Market Monitor Global ■ 발행일 : 2024년 5월 ■ 페이지수 : 약100 ■ 작성언어 : 영어 ■ 보고서 형태 : PDF ■ 납품 방식 : E메일 (주문후 2-3일 소요) ■ 조사대상 지역 : 글로벌 ■ 산업 분야 : 부품/재료 |
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본 조사 보고서는 현재 동향, 시장 역학 및 미래 전망에 초점을 맞춰, 고순도 스퍼터링 타겟 시장에 대한 포괄적인 분석을 제공합니다. 본 보고서는 북미, 유럽, 아시아 태평양 및 신흥 시장과 같은 주요 지역을 포함한 전 세계 고순도 스퍼터링 타겟 시장을 대상으로 합니다. 또한 고순도 스퍼터링 타겟의 성장을 주도하는 주요 요인, 업계가 직면한 과제 및 시장 참여자를 위한 잠재적 기회도 기재합니다.
글로벌 고순도 스퍼터링 타겟 시장은 최근 몇 년 동안 환경 문제, 정부 인센티브 및 기술 발전의 증가로 인해 급속한 성장을 목격했습니다. 고순도 스퍼터링 타겟 시장은 전자/반도체, 태양 에너지, 평판 디스플레이, 기타를 포함한 다양한 이해 관계자에게 기회를 제공합니다. 민간 부문과 정부 간의 협력은 고순도 스퍼터링 타겟 시장에 대한 지원 정책, 연구 개발 노력 및 투자를 가속화 할 수 있습니다. 또한 증가하는 소비자 수요는 시장 확장의 길을 제시합니다.
글로벌 고순도 스퍼터링 타겟 시장은 2023년에 미화 XXX백만 달러로 조사되었으며 2030년까지 미화 XXX백만 달러에 도달할 것으로 예상되며, 예측 기간 동안 XXX%의 CAGR로 성장할 것으로 예상됩니다.
[주요 특징]
고순도 스퍼터링 타겟 시장에 대한 조사 보고서에는 포괄적인 통찰력을 제공하고 이해 관계자의 의사 결정을 용이하게하는 몇 가지 주요 항목이 포함되어 있습니다.
요약 : 본 보고서는 고순도 스퍼터링 타겟 시장의 주요 결과, 시장 동향 및 주요 통찰력에 대한 개요를 제공합니다.
시장 개요: 본 보고서는 고순도 스퍼터링 타겟 시장의 정의, 역사적 추이, 현재 시장 규모를 포함한 포괄적인 개요를 제공합니다. 종류(예: 합금 타겟, 세라믹 타겟, 금속 타겟), 지역 및 용도별로 시장을 세분화하여 각 세그먼트 내의 주요 동인, 과제 및 기회를 중점적으로 다룹니다.
시장 역학: 본 보고서는 고순도 스퍼터링 타겟 시장의 성장과 발전을 주도하는 시장 역학을 분석합니다. 본 보고서에는 정부 정책 및 규정, 기술 발전, 소비자 동향 및 선호도, 인프라 개발, 업계 협력에 대한 평가가 포함되어 있습니다. 이 분석은 이해 관계자가 고순도 스퍼터링 타겟 시장의 궤적에 영향을 미치는 요인을 이해하는데 도움이됩니다.
경쟁 환경: 본 보고서는 고순도 스퍼터링 타겟 시장내 경쟁 환경에 대한 심층 분석을 제공합니다. 여기에는 주요 시장 플레이어의 프로필, 시장 점유율, 전략, 제품 포트폴리오 및 최근 동향이 포함됩니다.
시장 세분화 및 예측: 본 보고서는 종류, 지역 및 용도와 같은 다양한 매개 변수를 기반으로 고순도 스퍼터링 타겟 시장을 세분화합니다. 정량적 데이터 및 분석을 통해 각 세그먼트의 시장 규모와 성장 예측을 제공합니다. 이를 통해 이해 관계자가 성장 기회를 파악하고 정보에 입각한 투자 결정을 내릴 수 있습니다.
기술 동향: 본 보고서는 주요기술의 발전과 새로운 대체품 등 고순도 스퍼터링 타겟 시장을 형성하는 주요 기술 동향을 강조합니다. 이러한 트렌드가 시장 성장, 채택률, 소비자 선호도에 미치는 영향을 분석합니다.
시장 과제와 기회: 본 보고서는 기술적 병목 현상, 비용 제한, 높은 진입 장벽 등 고순도 스퍼터링 타겟 시장이 직면한 주요 과제를 파악하고 분석합니다. 또한 정부 인센티브, 신흥 시장, 이해관계자 간의 협업 등 시장 성장의 기회에 대해서도 강조합니다.
규제 및 정책 분석: 본 보고서는 정부 인센티브, 배출 기준, 인프라 개발 계획 등 고순도 스퍼터링 타겟에 대한 규제 및 정책 환경을 평가합니다. 이러한 정책이 시장 성장에 미치는 영향을 분석하고 향후 규제 동향에 대한 인사이트를 제공합니다.
권장 사항 및 결론: 본 보고서는 소비자, 정책 입안자, 투자자, 인프라 제공업체 등 이해관계자를 위한 실행 가능한 권고 사항으로 마무리합니다. 이러한 권장 사항은 조사 결과를 바탕으로 고순도 스퍼터링 타겟 시장의 주요 과제와 기회를 해결할 수 있습니다.
참고 데이터 및 부록: 보고서에는 분석 및 조사 결과를 입증하기 위한 보조 데이터, 차트, 그래프가 포함되어 있습니다. 또한 데이터 소스, 설문조사, 상세한 시장 예측과 같은 추가 세부 정보가 담긴 부록도 포함되어 있습니다.
[시장 세분화]
고순도 스퍼터링 타겟 시장은 종류별 및 용도별로 세분화됩니다. 2019-2030년 기간 동안 세그먼트 간의 성장은 종류별 및 용도별로 시장규모에 대한 정확한 계산 및 예측을 볼륨 및 금액 측면에서 제공합니다.
■ 종류별 시장 세그먼트
– 합금 타겟, 세라믹 타겟, 금속 타겟
■ 용도별 시장 세그먼트
– 전자/반도체, 태양 에너지, 평판 디스플레이, 기타
■ 지역별 및 국가별 글로벌 고순도 스퍼터링 타겟 시장 점유율, 2023년(%)
– 북미 (미국, 캐나다, 멕시코)
– 유럽 (독일, 프랑스, 영국, 이탈리아, 러시아)
– 아시아 (중국, 일본, 한국, 동남아시아, 인도)
– 남미 (브라질, 아르헨티나)
– 중동 및 아프리카 (터키, 이스라엘, 사우디 아라비아, UAE)
■ 주요 업체
– JX Nippon Mining and Metals Corporation, Praxair, Plansee SE, Mitsui Mining and Smelting, Hitachi Metals, Honeywell, Sumitomo Chemical, ULVAC, Materion (Heraeus), GRIKIN Advanced Material Co., Ltd., TOSOH, Ningbo Jiangfeng, Heesung, Luvata, Fujian Acetron New Materials Co., Ltd, Changzhou Sujing Electronic Material, Luoyang Sifon E
[주요 챕터의 개요]
1 장 : 고순도 스퍼터링 타겟의 정의, 시장 개요를 소개
2 장 : 매출 및 판매량을 기준으로한 글로벌 고순도 스퍼터링 타겟 시장 규모
3 장 : 고순도 스퍼터링 타겟 제조업체 경쟁 환경, 가격, 판매량 및 매출 시장 점유율, 최신 동향, M&A 정보 등에 대한 자세한 분석
4 장 : 종류별 시장 분석을 제공 (각 세그먼트의 시장 규모와 성장 잠재력을 다룸)
5 장 : 용도별 시장 분석을 제공 (각 세그먼트의 시장 규모와 성장 잠재력을 다룸)
6 장 : 지역 및 국가별 고순도 스퍼터링 타겟 판매량. 각 지역 및 주요 국가의 시장 규모와 성장 잠재력에 대한 정량적 분석을 제공. 세계 각국의 시장 개발, 향후 개발 전망, 시장 기회을 소개
7 장 : 주요 업체의 프로필을 제공. 제품 판매, 매출, 가격, 총 마진, 제품 소개, 최근 동향 등 시장 내 주요 업체의 기본 상황을 자세히 소개
8 장 : 지역별 및 국가별 글로벌 고순도 스퍼터링 타겟 시장규모
9 장 : 시장 역학, 시장의 최신 동향, 시장의 추진 요인 및 제한 요인, 업계내 업체가 직면한 과제 및 리스크, 업계의 관련 정책 분석을 소개
10 장 : 산업의 업 스트림 및 다운 스트림을 포함한 산업 체인 분석
11 장 : 보고서의 주요 요점 및 결론
※납품 보고서의 구성항목 및 내용은 본 페이지에 기재된 내용과 다를 수 있습니다. 보고서 주문 전에 당사에 보고서 샘플을 요청해서 구성항목 및 기재 내용을 반드시 확인하시길 바랍니다. 보고서 샘플에 없는 내용은 납품 드리는 보고서에도 포함되지 않습니다.
■ 보고서 목차1. 조사 및 분석 보고서 소개 2. 글로벌 고순도 스퍼터링 타겟 전체 시장 규모 3. 기업 환경 4. 종류별 시장 분석 5. 용도별 시장 분석 6. 지역별 시장 분석 7. 제조업체 및 브랜드 프로필 JX Nippon Mining and Metals Corporation, Praxair, Plansee SE, Mitsui Mining and Smelting, Hitachi Metals, Honeywell, Sumitomo Chemical, ULVAC, Materion (Heraeus), GRIKIN Advanced Material Co., Ltd., TOSOH, Ningbo Jiangfeng, Heesung, Luvata, Fujian Acetron New Materials Co., Ltd, Changzhou Sujing Electronic Material, Luoyang Sifon E JX Nippon Mining and Metals Corporation Praxair Plansee SE 8. 글로벌 고순도 스퍼터링 타겟 생산 능력 분석 9. 주요 시장 동향, 기회, 동인 및 제약 요인 10. 고순도 스퍼터링 타겟 공급망 분석 11. 결론 [그림 목록]- 종류별 고순도 스퍼터링 타겟 세그먼트, 2023년 - 용도별 고순도 스퍼터링 타겟 세그먼트, 2023년 - 글로벌 고순도 스퍼터링 타겟 시장 개요, 2023년 - 글로벌 고순도 스퍼터링 타겟 시장 규모: 2023년 VS 2030년 - 글로벌 고순도 스퍼터링 타겟 매출, 2019-2030 - 글로벌 고순도 스퍼터링 타겟 판매량: 2019-2030 - 고순도 스퍼터링 타겟 매출 기준 상위 3개 및 5개 업체 시장 점유율, 2023년 - 글로벌 종류별 고순도 스퍼터링 타겟 매출, 2023년 VS 2030년 - 글로벌 종류별 고순도 스퍼터링 타겟 매출 시장 점유율 - 글로벌 종류별 고순도 스퍼터링 타겟 판매량 시장 점유율 - 글로벌 종류별 고순도 스퍼터링 타겟 가격 - 글로벌 용도별 고순도 스퍼터링 타겟 매출, 2023년 VS 2030년 - 글로벌 용도별 고순도 스퍼터링 타겟 매출 시장 점유율 - 글로벌 용도별 고순도 스퍼터링 타겟 판매량 시장 점유율 - 글로벌 용도별 고순도 스퍼터링 타겟 가격 - 지역별 고순도 스퍼터링 타겟 매출, 2023년 VS 2030년 - 지역별 고순도 스퍼터링 타겟 매출 시장 점유율 - 지역별 고순도 스퍼터링 타겟 매출 시장 점유율 - 지역별 고순도 스퍼터링 타겟 판매량 시장 점유율 - 북미 국가별 고순도 스퍼터링 타겟 매출 시장 점유율 - 북미 국가별 고순도 스퍼터링 타겟 판매량 시장 점유율 - 미국 고순도 스퍼터링 타겟 시장규모 - 캐나다 고순도 스퍼터링 타겟 시장규모 - 멕시코 고순도 스퍼터링 타겟 시장규모 - 유럽 국가별 고순도 스퍼터링 타겟 매출 시장 점유율 - 유럽 국가별 고순도 스퍼터링 타겟 판매량 시장 점유율 - 독일 고순도 스퍼터링 타겟 시장규모 - 프랑스 고순도 스퍼터링 타겟 시장규모 - 영국 고순도 스퍼터링 타겟 시장규모 - 이탈리아 고순도 스퍼터링 타겟 시장규모 - 러시아 고순도 스퍼터링 타겟 시장규모 - 아시아 지역별 고순도 스퍼터링 타겟 매출 시장 점유율 - 아시아 지역별 고순도 스퍼터링 타겟 판매량 시장 점유율 - 중국 고순도 스퍼터링 타겟 시장규모 - 일본 고순도 스퍼터링 타겟 시장규모 - 한국 고순도 스퍼터링 타겟 시장규모 - 동남아시아 고순도 스퍼터링 타겟 시장규모 - 인도 고순도 스퍼터링 타겟 시장규모 - 남미 국가별 고순도 스퍼터링 타겟 매출 시장 점유율 - 남미 국가별 고순도 스퍼터링 타겟 판매량 시장 점유율 - 브라질 고순도 스퍼터링 타겟 시장규모 - 아르헨티나 고순도 스퍼터링 타겟 시장규모 - 중동 및 아프리카 국가별 고순도 스퍼터링 타겟 매출 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 국가별 고순도 스퍼터링 타겟 판매량 시장 점유율 - 터키 고순도 스퍼터링 타겟 시장규모 - 이스라엘 고순도 스퍼터링 타겟 시장규모 - 사우디 아라비아 고순도 스퍼터링 타겟 시장규모 - 아랍에미리트 고순도 스퍼터링 타겟 시장규모 - 글로벌 고순도 스퍼터링 타겟 생산 능력 - 지역별 고순도 스퍼터링 타겟 생산량 비중, 2023년 VS 2030년 - 고순도 스퍼터링 타겟 산업 가치 사슬 - 마케팅 채널 ※납품 보고서의 구성항목 및 내용은 본 페이지에 기재된 내용과 다를 수 있습니다. 보고서 주문 전에 당사에 보고서 샘플을 요청해서 구성항목 및 기재 내용을 반드시 확인하시길 바랍니다. 보고서 샘플에 없는 내용은 납품 드리는 보고서에도 포함되지 않습니다. |
| ※참고 정보 ## 고순도 스퍼터링 타겟의 이해 스퍼터링은 물리 기상 증착(Physical Vapor Deposition, PVD)의 한 방법으로, 고체 표면의 원자를 운동 에너지를 가진 입자를 충돌시켜 기체 상태로 만들어 박막을 형성하는 기술입니다. 이러한 스퍼터링 공정을 통해 박막을 증착할 때 사용되는 재료를 스퍼터링 타겟(Sputtering Target)이라고 합니다. 특히, 고순도 스퍼터링 타겟은 박막의 성능과 품질을 결정짓는 핵심 요소로서 매우 중요하게 다루어지고 있습니다. 고순도 스퍼터링 타겟은 불순물이 극히 적은 상태로 제조된 스퍼터링 재료를 의미합니다. 여기서 '순도'는 단순히 물질의 화학적 성분만을 의미하는 것이 아니라, 결정립계에 잔류하는 불순물이나 결함의 양까지 포함하는 개념입니다. 일반적으로 금속의 경우 99.99% 이상의 순도를 가지거나, 특정 불순물의 농도가 ppm(parts per million) 또는 ppb(parts per billion) 수준 이하로 제어된 재료를 고순도로 간주합니다. 세라믹이나 화합물의 경우에도 주성분 외에 비의도적인 불순물의 함량이 매우 낮게 관리된 것을 의미합니다. 고순도 스퍼터링 타겟이 요구되는 주된 이유는 스퍼터링 공정을 통해 증착되는 박막의 특성에 불순물이 치명적인 영향을 미치기 때문입니다. 박막 내에 불순물이 존재하면 전기적 특성(저항, 전도도, 누설 전류 등), 광학적 특성(투과율, 반사율, 색상 등), 기계적 특성(경도, 마찰계수, 접착력 등), 화학적 특성(부식 저항성, 반응성 등) 등 박막의 거의 모든 성능 지표가 저하될 수 있습니다. 예를 들어, 반도체 소자의 경우 미량의 불순물도 소자의 성능을 크게 떨어뜨리거나 오작동을 유발할 수 있습니다. 또한, 디스플레이 패널의 투명 전극으로 사용되는 산화인듐주석(ITO) 박막의 경우, 불순물은 전도성을 저하시키고 투명성을 감소시켜 디스플레이의 밝기와 선명도를 떨어뜨립니다. 따라서 고성능 전자 부품, 광학 소자, 센서 등 정밀한 특성이 요구되는 분야에서는 고순도 스퍼터링 타겟의 사용이 필수적입니다. 고순도 스퍼터링 타겟의 특징을 살펴보면, 첫째, 매우 높은 순도를 유지한다는 점입니다. 이는 제조 공정 전반에 걸쳐 극도로 엄격한 관리와 정제 과정을 거쳐야 함을 의미합니다. 원재료의 선정부터 용해, 합금, 단조, 압연, 소결, 열처리 등 모든 단계에서 불순물 유입을 최소화해야 합니다. 둘째, 균일한 미세 구조를 가진다는 점입니다. 불순물은 결정립계를 따라 편석되거나 결정 격자 내에 침입하여 결정립의 성장이나 특성에 영향을 미칩니다. 고순도로 정제된 타겟은 불순물에 의한 영향을 최소화하여 균일하고 미세한 결정립 구조를 가지게 되며, 이는 스퍼터링 시 이온화 효율을 높이고 박막 증착 속도를 일정하게 유지하는 데 기여합니다. 셋째, 우수한 스퍼터링 특성을 나타냅니다. 높은 순도는 스퍼터링 과정에서 비활성 가스(주로 아르곤) 이온과의 충돌 시 타겟 물질의 원자가 효율적으로 방출되도록 합니다. 또한, 잔류 불순물이 적기 때문에 박막 표면에 불순물 입자가 혼입되는 현상이 줄어들어 치밀하고 균일한 박막을 얻을 수 있습니다. 넷째, 다양한 형태와 크기로 가공이 가능하다는 점입니다. 스퍼터링 장비의 종류와 증착 공정의 요구사항에 따라 디스크형, 타일형, 로드형 등 다양한 형태와 크기의 타겟이 제조됩니다. 고순도 스퍼터링 타겟의 종류는 매우 다양하며, 주로 증착하고자 하는 박막의 재료에 따라 구분됩니다. 가장 대표적인 예로는 금속 타겟들이 있습니다. 예를 들어, 알루미늄(Al), 구리(Cu), 금(Au), 백금(Pt), 은(Ag) 등은 전자 산업의 배선, 전극, 접점 등에 널리 사용되는 고순도 금속 타겟입니다. 특히 반도체 공정에서는 높은 전도성과 낮은 저항 값을 요구하기 때문에 99.999% 이상의 초고순도 금속 타겟이 사용되기도 합니다. 니켈(Ni), 몰리브덴(Mo), 텅스텐(W) 등은 고온 및 내식성 특성이 뛰어나 증착용 합금 또는 내마모 코팅 등에 활용됩니다. 금속 외에도 다양한 화합물 및 세라믹 재료의 고순도 스퍼터링 타겟이 존재합니다. 대표적인 예로는 산화물 계열이 있습니다. 산화인듐주석(ITO)은 디스플레이의 투명 전극으로, 산화아연(ZnO)은 투명 전도성 박막 또는 압전 소자로 사용됩니다. 이 외에도 산화규소(SiO2), 산화알루미늄(Al2O3), 산화마그네슘(MgO) 등은 절연 박막 또는 광학 박막 형성에 사용됩니다. 질화물 계열로는 질화티타늄(TiN), 질화알루미늄(AlN) 등이 있으며, 이들은 내마모성 코팅이나 압전 소자에 응용됩니다. 탄화물 계열에서는 탄화규소(SiC), 탄화티타늄(TiC) 등이 있습니다. 또한, 희토류 원소 기반의 타겟들도 자기 기록 매체나 특수 광학 박막에 사용되기도 합니다. 고순도 스퍼터링 타겟의 용도는 현대 첨단 산업 전반에 걸쳐 매우 광범위하게 적용됩니다. 반도체 산업에서는 집적회로(IC)의 미세 배선 형성, 전극 형성, 게이트 절연막 형성, 보호막 증착 등에 고순도 금속 및 절연체 타겟이 필수적으로 사용됩니다. 디스플레이 산업에서는 LCD, OLED 등 평판 디스플레이의 투명 전극(ITO), 차광막, 절연막, 발광층 형성 등에 사용됩니다. 태양전지 산업에서는 투명 전극, 전도층, 버퍼층 등의 증착에 고순도 재료가 요구됩니다. 의료 분야에서도 고순도 스퍼터링 타겟의 중요성이 커지고 있습니다. 임플란트나 의료 기기의 표면 개질을 통해 생체 적합성을 높이거나 항균성을 부여하기 위해 금, 백금, 티타늄 등의 고순도 타겟으로 코팅이 이루어집니다. 또한, 광학 렌즈, 안경, 카메라 렌즈 등의 표면에 반사 방지 코팅, 경질 코팅, 발수 코팅 등을 형성하는 데도 고순도 타겟이 사용됩니다. 자동차 산업에서는 엔진 부품, 터빈 블레이드 등에 내마모성, 내식성 코팅을 위해 크롬, 몰리브덴, 티타늄 합금 등의 고순도 타겟이 사용됩니다. 우주 항공 분야에서는 부품의 성능 향상 및 수명 연장을 위해 극한 환경에 견딜 수 있는 특수 코팅에 고순도 타겟이 활용됩니다. 고순도 스퍼터링 타겟의 제조와 관련된 기술은 매우 정교하고 복잡합니다. 먼저 원재료의 순도 확보가 가장 중요합니다. 고순도 금속의 경우 전기분해, 용융 정련, 구역 용융 등 다양한 정련 기술을 통해 불순물을 제거합니다. 세라믹이나 화합물의 경우에도 고순도의 전구체를 합성하거나, 고온 소결 및 진공 처리를 통해 불순물을 제거합니다. 다음으로 타겟 성형 기술이 중요합니다. 순도가 확보된 재료를 균일한 미세 구조를 가지도록 성형하는 것은 스퍼터링 효율과 박막 품질에 직접적인 영향을 미칩니다. 금속 타겟의 경우 분말 야금법(신터링), 진공 유도 용해(VIM), 전자빔 용해(EB-PVD) 등 다양한 방법으로 압착 및 소결하거나 용해하여 원하는 형태로 만듭니다. 이때, 소결 온도, 압력, 시간, 분위기 등을 정밀하게 제어하여 결정립 크기와 분포를 균일하게 유지하는 것이 중요합니다. 세라믹 타겟의 경우에도 고밀도화 및 기공 제어를 위해 고온 고압 소결, 방전 플라즈마 소결(SPS) 등 특수 소결 기술이 적용됩니다. 또한, 타겟 표면 처리 기술도 빼놓을 수 없습니다. 스퍼터링 공정 초기에 발생하는 타겟 표면의 불순물이나 산화층을 제거하고 균일한 스퍼터링 반응을 유도하기 위해 표면 연마, 화학적 에칭, 초음파 세척 등 다양한 표면 처리 기술이 적용됩니다. 타겟의 뒷면에 냉각수를 공급하기 위한 백버터(Backing Plate) 접합 기술 역시 중요합니다. 타겟과 백버터 간의 열전도성을 높이기 위해 인듐, 주석 등의 연질 금속을 사용하여 접합하는 것이 일반적입니다. 최근에는 특정 요구 사항을 충족하기 위한 특수 고순도 타겟에 대한 연구 개발도 활발히 이루어지고 있습니다. 예를 들어, 다층 구조를 가지거나, 특정 도핑 원소를 포함하는 타겟, 또는 나노 구조를 가지는 타겟 등이 개발되어 박막의 새로운 기능성을 부여하는 데 활용되고 있습니다. 나아가, 스퍼터링 공정 자체의 효율을 높이고 박막의 결함을 줄이기 위한 스마트 스퍼터링 기술과 연계하여, 타겟 재료의 미세 구조 및 표면 상태를 더욱 정밀하게 제어하려는 노력도 지속되고 있습니다. 이러한 고순도 스퍼터링 타겟 기술의 발전은 우리 생활과 밀접하게 관련된 다양한 첨단 기술의 발전을 견인하는 중요한 원동력이 되고 있습니다. |
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