| ■ 영문 제목 : Global Wafer Spin Rinse Dryers (SRD) Market Growth 2025-2031 | |
 | ■ 상품코드 : LPK23JU1168 ■ 조사/발행회사 : LP Information ■ 발행일 : 2025년 3월 ■ 페이지수 : 107 ■ 작성언어 : 영어 ■ 보고서 형태 : PDF ■ 납품 방식 : E메일 ■ 조사대상 지역 : 글로벌 ■ 산업 분야 : 기계&장치 |
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| LPI (LP Information)의 최신 조사 보고서는 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD)의 과거 판매실적을 살펴보고 2024년의 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 판매실적을 검토하여 2025년부터 2031년까지 예상되는 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 판매에 대한 지역 및 시장 세그먼트별 포괄적인 분석을 제공합니다. 세계의 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모는 2024년 xxx백만 달러에서 연평균 xx% 성장하여 2031년에는 xxx백만 달러에 달할 것으로 예측되고 있습니다. 본 보고서의 시장규모 데이터는 무역 전쟁 및 러시아-우크라이나 전쟁의 영향을 반영했습니다. 본 보고서는 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD)의 세계시장에 관해서 조사, 분석한 자료로서, 기업별 시장 점유율, 지역별 시장규모 (미주, 미국, 캐나다, 멕시코, 브라질, 아시아, 중국, 일본, 한국, 동남아시아, 인도, 유럽, 독일, 프랑스, 영국, 이탈리아, 러시아, 중동/아프리카, 이집트, 남아프리카, 터키, 중동GCC국 등), 시장동향, 판매/유통업자/고객 리스트, 시장예측 (2026년-2031년), 주요 기업동향 (기업정보, 제품, 판매량, 매출, 가격, 매출총이익) 등의 정보를 포함하고 있습니다. 또한, 주요지역의 종류별 시장규모 (단일 스택 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD), 더블 스택 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD))와 용도별 시장규모 (반도체 제조, 반도체 연구, 기타) 데이터도 수록되어 있습니다. ***** 목차 구성 ***** 보고서의 범위 경영자용 요약 - 세계의 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 2020년-2031년 - 지역별 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장분석 - 종류별 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 2020년-2025년 (단일 스택 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD), 더블 스택 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD)) - 용도별 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 2020년-2025년 (반도체 제조, 반도체 연구, 기타) 기업별 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장분석 - 기업별 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 판매량 - 기업별 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 매출액 - 기업별 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 판매가격 - 주요기업의 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 생산거점, 판매거점 - 시장 집중도 분석 지역별 분석 - 지역별 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 판매량 2020년-2025년 - 지역별 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 매출액 2020년-2025년 미주 시장 - 미주의 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 2020년-2025년 - 미주의 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 : 종류별 - 미주의 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 : 용도별 - 미국 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 - 캐나다 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 - 멕시코 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 - 브라질 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 아시아 시장 - 아시아의 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 2020년-2025년 - 아시아의 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 : 종류별 - 아시아의 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 : 용도별 - 중국 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 - 일본 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 - 한국 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 - 동남아시아 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 - 인도 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 유럽 시장 - 유럽의 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 2020년-2025년 - 유럽의 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 : 종류별 - 유럽의 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 : 용도별 - 독일 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 - 프랑스 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 - 영국 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 중동/아프리카 시장 - 중동/아프리카의 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 2020년-2025년 - 중동/아프리카의 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 : 종류별 - 중동/아프리카의 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 : 용도별 - 이집트 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 - 남아프리카 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 - 중동GCC 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 시장의 성장요인, 과제, 동향 - 시장의 성장요인, 기회 - 시장의 과제, 리스크 - 산업 동향 제조원가 구조 분석 - 원재료 및 공급업체 - 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD)의 제조원가 구조 분석 - 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD)의 제조 프로세스 분석 - 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD)의 산업체인 구조 마케팅, 유통업체, 고객 - 판매채널 - 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD)의 유통업체 - 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD)의 주요 고객 지역별 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장 예측 - 지역별 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장규모 예측 2026년-2031년 - 미주 지역 예측 - 아시아 지역 예측 - 유럽 지역 예측 - 중동/아프리카 지역 예측 - 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD)의 종류별 시장예측 (단일 스택 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD), 더블 스택 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD)) - 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD)의 용도별 시장예측 (반도체 제조, 반도체 연구, 기타) 주요 기업 분석 (기업정보, 제품, 판매량, 매출, 가격, 매출총이익) - SHELLBACK Semiconductor Technology, ClassOne Technology, Ramgraber, RENA Technologies North America, Jaesung Engineering, M Tek Corporation, MOT Mikro- und Oberflächentechnik, OHMIYA INDUSTRY, Semitronix Technology, MDS Korea, Ji You Electronic Technology, CALITECH 조사의 결론 |
The job of a spin rinse dryer is to rinse and dry batches of wafers in a cassette. The wafers are usually loaded into a stainless steel drum or chamber then rotated while injecting DI (de-ionised water) to rinse off any particle that might be left over from a previous process step such as etching.
LPI (LP Information)’ newest research report, the “Wafer Spin Rinse Dryers (SRD) Industry Forecast” looks at past sales and reviews total world Wafer Spin Rinse Dryers (SRD) sales in 2024, providing a comprehensive analysis by region and market sector of projected Wafer Spin Rinse Dryers (SRD) sales for 2025 through 2031. With Wafer Spin Rinse Dryers (SRD) sales broken down by region, market sector and sub-sector, this report provides a detailed analysis in US$ millions of the world Wafer Spin Rinse Dryers (SRD) industry.
This Insight Report provides a comprehensive analysis of the global Wafer Spin Rinse Dryers (SRD) landscape and highlights key trends related to product segmentation, company formation, revenue, and market share, latest development, and M&A activity. This report also analyzes the strategies of leading global companies with a focus on Wafer Spin Rinse Dryers (SRD) portfolios and capabilities, market entry strategies, market positions, and geographic footprints, to better understand these firms’ unique position in an accelerating global Wafer Spin Rinse Dryers (SRD) market.
This Insight Report evaluates the key market trends, drivers, and affecting factors shaping the global outlook for Wafer Spin Rinse Dryers (SRD) and breaks down the forecast by type, by application, geography, and market size to highlight emerging pockets of opportunity. With a transparent methodology based on hundreds of bottom-up qualitative and quantitative market inputs, this study forecast offers a highly nuanced view of the current state and future trajectory in the global Wafer Spin Rinse Dryers (SRD).
The global Wafer Spin Rinse Dryers (SRD) market size is projected to grow from US$ million in 2024 to US$ million in 2031; it is expected to grow at a CAGR of % from 2025 to 2031.
United States market for Wafer Spin Rinse Dryers (SRD) is estimated to increase from US$ million in 2024 to US$ million by 2031, at a CAGR of % from 2025 through 2031.
China market for Wafer Spin Rinse Dryers (SRD) is estimated to increase from US$ million in 2024 to US$ million by 2031, at a CAGR of % from 2025 through 2031.
Europe market for Wafer Spin Rinse Dryers (SRD) is estimated to increase from US$ million in 2024 to US$ million by 2031, at a CAGR of % from 2025 through 2031.
Global key Wafer Spin Rinse Dryers (SRD) players cover SHELLBACK Semiconductor Technology, ClassOne Technology, Ramgraber, RENA Technologies North America, Jaesung Engineering, M Tek Corporation, MOT Mikro- und Oberflächentechnik, OHMIYA INDUSTRY and Semitronix Technology, etc. In terms of revenue, the global two largest companies occupied for a share nearly % in 2024.
This report presents a comprehensive overview, market shares, and growth opportunities of Wafer Spin Rinse Dryers (SRD) market by product type, application, key manufacturers and key regions and countries.
[Market Segmentation]
Segmentation by type
Single Stack Wafer Spin Rinse Dryers (SRD)
Double Stack Wafer Spin Rinse Dryers (SRD)
Segmentation by application
Semiconductor Production
Semiconductor Research
Others
This report also splits the market by region:
Americas
United States
Canada
Mexico
Brazil
APAC
China
Japan
Korea
Southeast Asia
India
Australia
Europe
Germany
France
UK
Italy
Russia
Middle East & Africa
Egypt
South Africa
Israel
Turkey
GCC Countries
The below companies that are profiled have been selected based on inputs gathered from primary experts and analyzing the company’s coverage, product portfolio, its market penetration.
SHELLBACK Semiconductor Technology
ClassOne Technology
Ramgraber
RENA Technologies North America
Jaesung Engineering
M Tek Corporation
MOT Mikro- und Oberflächentechnik
OHMIYA INDUSTRY
Semitronix Technology
MDS Korea
Ji You Electronic Technology
CALITECH
[Key Questions Addressed in this Report]
What is the 10-year outlook for the global Wafer Spin Rinse Dryers (SRD) market?
What factors are driving Wafer Spin Rinse Dryers (SRD) market growth, globally and by region?
Which technologies are poised for the fastest growth by market and region?
How do Wafer Spin Rinse Dryers (SRD) market opportunities vary by end market size?
How does Wafer Spin Rinse Dryers (SRD) break out type, application?
What are the influences of trade war and Russia-Ukraine war?
1 Scope of the Report |
| ※참고 정보 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (Wafer Spin Rinse Dryers, SRD)는 반도체 제조 공정에서 필수적인 장비 중 하나입니다. 그 이름에서 알 수 있듯이, 웨이퍼 표면을 깨끗하게 씻어내고(Rinse) 건조(Dry)하는 역할을 수행하며, 이 과정에서 고속 회전을 이용하는(Spin) 기술을 사용합니다. SRD는 주로 포토리소그래피 공정 후 발생하는 감광액 잔류물이나 식각 공정 후의 이물질 등을 제거하는 데 사용되며, 최종적으로 웨이퍼 표면을 깨끗하고 건조한 상태로 다음 공정 단계로 옮기기 위한 준비를 마칩니다. SRD의 핵심적인 개념은 '회전'을 이용한 세척 및 건조입니다. 웨이퍼를 고속으로 회전시킴으로써 발생하는 원심력은 세척액이나 초순수를 효과적으로 웨이퍼 표면에 고르게 분사하고, 이어서 불순물과 함께 빠르게 제거하는 데 기여합니다. 또한, 회전 속도와 시간을 정밀하게 제어함으로써 웨이퍼 표면에 손상을 주지 않으면서도 잔류 액체를 최소화하는 효율적인 건조가 가능합니다. 이러한 회전 방식은 기존의 디핑(dipping) 방식이나 스프레이(spray) 방식에 비해 훨씬 균일하고 효과적인 세척 및 건조 성능을 제공합니다. SRD의 주요 특징으로는 높은 균일성, 빠른 공정 속도, 그리고 웨이퍼 손상 최소화 등을 들 수 있습니다. 웨이퍼 전체 표면에 걸쳐 세척액과 초순수가 동일한 압력과 양으로 분사되므로, 미세한 패턴이 그려진 웨이퍼의 어느 부분에서도 균일한 세척 효과를 얻을 수 있습니다. 또한, 회전 및 세척액 분사 과정이 매우 빠르기 때문에 전체 공정 시간을 단축하는 데 크게 기여합니다. 이는 반도체 생산 수율과 효율성을 높이는 데 중요한 요소입니다. 특히, SRD는 웨이퍼를 기계적으로 직접 접촉하는 방식을 최소화하거나 전혀 사용하지 않기 때문에, 민감한 반도체 공정에서 발생할 수 있는 웨이퍼 표면의 스크래치나 오염을 효과적으로 방지할 수 있습니다. SRD는 작동 방식 및 구조에 따라 몇 가지 종류로 구분될 수 있습니다. 가장 일반적인 형태는 싱글 웨이퍼 방식의 SRD입니다. 이는 하나의 웨이퍼를 개별적으로 처리하는 방식으로, 각 웨이퍼에 대한 정밀한 제어가 가능하고 공정 간 오염의 가능성을 줄일 수 있다는 장점이 있습니다. 반면, 여러 개의 웨이퍼를 동시에 처리하는 멀티 웨이퍼 방식의 SRD도 존재합니다. 이는 생산성을 극대화하는 데 유리하지만, 웨이퍼 간의 균일성 유지나 개별적인 공정 제어 측면에서는 싱글 웨이퍼 방식보다 어려움이 있을 수 있습니다. 또한, 세척액을 분사하는 방식에 따라 스핀-스프레이(spin-spray) 방식, 스핀-린스(spin-rinse) 방식 등으로 세분화될 수 있으며, 건조 방식 또한 질소 퍼지(N2 purge) 건조나 열풍 건조 등 다양한 방식을 조합하여 사용하기도 합니다. SRD의 가장 중요한 용도는 포토리소그래피 공정 후 발생하는 감광액 잔류물 제거입니다. 포토리소그래피 공정은 웨이퍼 표면에 미세한 회로 패턴을 형성하는 핵심 공정으로, 이 과정에서 사용된 감광액을 깨끗하게 제거하지 않으면 다음 공정에 치명적인 영향을 줄 수 있습니다. SRD는 고속 회전과 함께 적절한 세척액을 사용하여 감광액 잔류물을 효과적으로 제거합니다. 또한, 식각(etching) 공정 후 웨이퍼 표면에 남아있는 잔류물이나 오염물질을 제거하는 데에도 활용됩니다. 식각 공정은 웨이퍼의 특정 부분을 제거하여 원하는 패턴을 만드는 과정인데, 이때 발생하는 파티클(particle)이나 화학 물질 잔류물을 깨끗하게 씻어내는 것이 중요합니다. 최근에는 반도체 공정의 미세화 및 고집적화 추세에 따라 SRD의 중요성이 더욱 커지고 있습니다. 더 작고 정밀한 패턴을 형성하기 위해서는 웨이퍼 표면의 미세한 오염 하나하나가 수율에 큰 영향을 미치기 때문입니다. 따라서 SRD 장비는 더욱 정밀한 제어 능력, 향상된 세척 성능, 그리고 웨이퍼 손상을 최소화하는 기술을 요구받고 있습니다. SRD와 관련된 주요 기술로는 초순수(DI water)의 정밀한 공급 및 제어 기술, 세척액의 종류 및 분사 압력 제어 기술, 회전 속도 및 가감속 제어 기술 등이 있습니다. 또한, 웨이퍼의 움직임을 감지하고 이를 바탕으로 세척 및 건조 과정을 최적화하는 센서 기술 및 제어 알고리즘도 중요합니다. 최근에는 건조 과정에서 발생하는 마른 자국(dry spot)을 방지하기 위한 고급 건조 기술, 예를 들어 질소 퍼지(N2 purge)와 함께 회전 속도를 조절하는 기술 등이 연구 및 적용되고 있습니다. 더 나아가, SRD는 단순히 세척 및 건조 기능만을 수행하는 것을 넘어, 공정 결과의 균일성과 재현성을 보장하는 데 핵심적인 역할을 합니다. 웨이퍼 간의 품질 편차를 최소화하고 안정적인 생산을 유지하기 위해서는 SRD의 성능이 매우 중요합니다. 따라서 반도체 제조사들은 SRD 장비의 성능 향상을 위해 지속적으로 투자하고 있으며, 새로운 기술 개발에도 힘쓰고 있습니다. 예를 들어, 인공지능(AI) 기술을 접목하여 공정 조건을 실시간으로 최적화하거나, 웨이퍼 표면의 오염도를 실시간으로 측정하여 세척 효과를 검증하는 등의 기술도 연구되고 있습니다. 또한, SRD는 장비의 유지보수 및 관리 또한 중요합니다. 세척액이나 초순수의 공급 시스템, 회전 모터의 정밀도, 필터 시스템의 청결도 등이 SRD의 성능과 직결되기 때문에, 주기적인 점검과 관리가 필수적입니다. 이러한 관리 또한 웨이퍼의 품질과 직결되는 중요한 요소 중 하나라고 할 수 있습니다. 결론적으로 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD)는 반도체 제조 공정에서 웨이퍼의 청정도를 확보하는 데 없어서는 안 될 필수적인 장비입니다. 고속 회전이라는 독특한 방식을 통해 효율적이고 균일한 세척 및 건조 성능을 제공하며, 미세화되는 반도체 기술의 발전에 발맞추어 끊임없이 진화하고 있습니다. |
| ※본 조사보고서 [세계의 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장예측 2025년-2031년] (코드 : LPK23JU1168) 판매에 관한 면책사항을 반드시 확인하세요. |
| ※본 조사보고서 [세계의 웨이퍼 스핀 린스 건조기 (SRD) 시장예측 2025년-2031년] 에 대해서 E메일 문의는 여기를 클릭하세요. |