| ■ 영문 제목 : Global Reticle POD Cleaner Market Growth 2025-2031 | |
 | ■ 상품코드 : LPK23JU1231 ■ 조사/발행회사 : LP Information ■ 발행일 : 2025년 3월 ■ 페이지수 : 78 ■ 작성언어 : 영어 ■ 보고서 형태 : PDF ■ 납품 방식 : E메일 ■ 조사대상 지역 : 글로벌 ■ 산업 분야 : 전자&반도체 |
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| LPI (LP Information)의 최신 조사 보고서는 레티클 POD 클리너의 과거 판매실적을 살펴보고 2024년의 레티클 POD 클리너 판매실적을 검토하여 2025년부터 2031년까지 예상되는 레티클 POD 클리너 판매에 대한 지역 및 시장 세그먼트별 포괄적인 분석을 제공합니다. 세계의 레티클 POD 클리너 시장규모는 2024년 xxx백만 달러에서 연평균 xx% 성장하여 2031년에는 xxx백만 달러에 달할 것으로 예측되고 있습니다. 본 보고서의 시장규모 데이터는 무역 전쟁 및 러시아-우크라이나 전쟁의 영향을 반영했습니다. 본 보고서는 레티클 POD 클리너의 세계시장에 관해서 조사, 분석한 자료로서, 기업별 시장 점유율, 지역별 시장규모 (미주, 미국, 캐나다, 멕시코, 브라질, 아시아, 중국, 일본, 한국, 동남아시아, 인도, 유럽, 독일, 프랑스, 영국, 이탈리아, 러시아, 중동/아프리카, 이집트, 남아프리카, 터키, 중동GCC국 등), 시장동향, 판매/유통업자/고객 리스트, 시장예측 (2026년-2031년), 주요 기업동향 (기업정보, 제품, 판매량, 매출, 가격, 매출총이익) 등의 정보를 포함하고 있습니다. 또한, 주요지역의 종류별 시장규모 (EUV (극단 자외선) POD 클리너, 비EUV (비극단 자외선) POD 클리너)와 용도별 시장규모 (IDM, 파운드리) 데이터도 수록되어 있습니다. ***** 목차 구성 ***** 보고서의 범위 경영자용 요약 - 세계의 레티클 POD 클리너 시장규모 2020년-2031년 - 지역별 레티클 POD 클리너 시장분석 - 종류별 레티클 POD 클리너 시장규모 2020년-2025년 (EUV (극단 자외선) POD 클리너, 비EUV (비극단 자외선) POD 클리너) - 용도별 레티클 POD 클리너 시장규모 2020년-2025년 (IDM, 파운드리) 기업별 레티클 POD 클리너 시장분석 - 기업별 레티클 POD 클리너 판매량 - 기업별 레티클 POD 클리너 매출액 - 기업별 레티클 POD 클리너 판매가격 - 주요기업의 레티클 POD 클리너 생산거점, 판매거점 - 시장 집중도 분석 지역별 분석 - 지역별 레티클 POD 클리너 판매량 2020년-2025년 - 지역별 레티클 POD 클리너 매출액 2020년-2025년 미주 시장 - 미주의 레티클 POD 클리너 시장규모 2020년-2025년 - 미주의 레티클 POD 클리너 시장규모 : 종류별 - 미주의 레티클 POD 클리너 시장규모 : 용도별 - 미국 레티클 POD 클리너 시장규모 - 캐나다 레티클 POD 클리너 시장규모 - 멕시코 레티클 POD 클리너 시장규모 - 브라질 레티클 POD 클리너 시장규모 아시아 시장 - 아시아의 레티클 POD 클리너 시장규모 2020년-2025년 - 아시아의 레티클 POD 클리너 시장규모 : 종류별 - 아시아의 레티클 POD 클리너 시장규모 : 용도별 - 중국 레티클 POD 클리너 시장규모 - 일본 레티클 POD 클리너 시장규모 - 한국 레티클 POD 클리너 시장규모 - 동남아시아 레티클 POD 클리너 시장규모 - 인도 레티클 POD 클리너 시장규모 유럽 시장 - 유럽의 레티클 POD 클리너 시장규모 2020년-2025년 - 유럽의 레티클 POD 클리너 시장규모 : 종류별 - 유럽의 레티클 POD 클리너 시장규모 : 용도별 - 독일 레티클 POD 클리너 시장규모 - 프랑스 레티클 POD 클리너 시장규모 - 영국 레티클 POD 클리너 시장규모 중동/아프리카 시장 - 중동/아프리카의 레티클 POD 클리너 시장규모 2020년-2025년 - 중동/아프리카의 레티클 POD 클리너 시장규모 : 종류별 - 중동/아프리카의 레티클 POD 클리너 시장규모 : 용도별 - 이집트 레티클 POD 클리너 시장규모 - 남아프리카 레티클 POD 클리너 시장규모 - 중동GCC 레티클 POD 클리너 시장규모 시장의 성장요인, 과제, 동향 - 시장의 성장요인, 기회 - 시장의 과제, 리스크 - 산업 동향 제조원가 구조 분석 - 원재료 및 공급업체 - 레티클 POD 클리너의 제조원가 구조 분석 - 레티클 POD 클리너의 제조 프로세스 분석 - 레티클 POD 클리너의 산업체인 구조 마케팅, 유통업체, 고객 - 판매채널 - 레티클 POD 클리너의 유통업체 - 레티클 POD 클리너의 주요 고객 지역별 레티클 POD 클리너 시장 예측 - 지역별 레티클 POD 클리너 시장규모 예측 2026년-2031년 - 미주 지역 예측 - 아시아 지역 예측 - 유럽 지역 예측 - 중동/아프리카 지역 예측 - 레티클 POD 클리너의 종류별 시장예측 (EUV (극단 자외선) POD 클리너, 비EUV (비극단 자외선) POD 클리너) - 레티클 POD 클리너의 용도별 시장예측 (IDM, 파운드리) 주요 기업 분석 (기업정보, 제품, 판매량, 매출, 가격, 매출총이익) - Brooks Automation, Hugle Electronics, DEVICEENG 조사의 결론 |
Reticle POD cleaner which is used in semiconductor process conveys POD for wafer on cleaning tray. Reticle POD cleaner can wash and dry 8 inch SMIF pods and also can wash 8 inch open cassettes, etc.
LPI (LP Information)’ newest research report, the “Reticle POD Cleaner Industry Forecast” looks at past sales and reviews total world Reticle POD Cleaner sales in 2024, providing a comprehensive analysis by region and market sector of projected Reticle POD Cleaner sales for 2025 through 2031. With Reticle POD Cleaner sales broken down by region, market sector and sub-sector, this report provides a detailed analysis in US$ millions of the world Reticle POD Cleaner industry.
This Insight Report provides a comprehensive analysis of the global Reticle POD Cleaner landscape and highlights key trends related to product segmentation, company formation, revenue, and market share, latest development, and M&A activity. This report also analyzes the strategies of leading global companies with a focus on Reticle POD Cleaner portfolios and capabilities, market entry strategies, market positions, and geographic footprints, to better understand these firms’ unique position in an accelerating global Reticle POD Cleaner market.
This Insight Report evaluates the key market trends, drivers, and affecting factors shaping the global outlook for Reticle POD Cleaner and breaks down the forecast by type, by application, geography, and market size to highlight emerging pockets of opportunity. With a transparent methodology based on hundreds of bottom-up qualitative and quantitative market inputs, this study forecast offers a highly nuanced view of the current state and future trajectory in the global Reticle POD Cleaner.
The global Reticle POD Cleaner market size is projected to grow from US$ 43 million in 2024 to US$ 60 million in 2031; it is expected to grow at a CAGR of 60 from 2025 to 2031.
The main global Reticle POD Cleaner players include Brooks Automation, Hugle Electronics, DEVICEENG, etc. The top three Reticle POD Cleaner players account for approximately 95% of the total global market. Asia-Pacific is the largest consumer market for Reticle POD Cleaner, accounting for about 79%, followed by Europe and North America. In terms of product, EUV POD Cleaner is the largest segment, with a share about 70%. And in terms of application, the largest application is IDM, followed by Foundry.
This report presents a comprehensive overview, market shares, and growth opportunities of Reticle POD Cleaner market by product type, application, key manufacturers and key regions and countries.
[Market Segmentation]
Segmentation by type
EUV POD Cleaner
Non-EUV POD Cleaner
Segmentation by application
IDM
Foundry
This report also splits the market by region:
Americas
United States
Canada
Mexico
Brazil
APAC
China
Japan
Korea
Southeast Asia
India
Australia
Europe
Germany
France
UK
Italy
Russia
Middle East & Africa
Egypt
South Africa
Israel
Turkey
GCC Countries
The below companies that are profiled have been selected based on inputs gathered from primary experts and analyzing the company’s coverage, product portfolio, its market penetration.
Brooks Automation
Hugle Electronics
DEVICEENG
[Key Questions Addressed in this Report]
What is the 10-year outlook for the global Reticle POD Cleaner market?
What factors are driving Reticle POD Cleaner market growth, globally and by region?
Which technologies are poised for the fastest growth by market and region?
How do Reticle POD Cleaner market opportunities vary by end market size?
How does Reticle POD Cleaner break out type, application?
What are the influences of trade war and Russia-Ukraine war?
1 Scope of the Report |
| ※참고 정보 레티클 POD 클리너는 반도체 제조 공정에서 레티클(reticle)의 오염물을 제거하는 데 사용되는 장비를 의미합니다. 레티클은 웨이퍼에 회로 패턴을 전사하는 원판으로서, 반도체 칩의 성능과 수율에 직접적인 영향을 미치는 매우 중요한 부품입니다. 따라서 레티클 표면에 미세한 먼지, 유기물, 금속 오염 등 어떠한 오염물도 존재해서는 안 되며, 이를 효과적으로 제거하기 위한 레티클 POD 클리너의 역할은 필수적입니다. 레티클 POD 클리너의 핵심적인 역할은 레티클 표면의 오염물을 물리적, 화학적 방법 또는 이 둘을 복합적으로 사용하여 제거하는 것입니다. 레티클은 극도로 정밀한 패턴을 가지고 있기 때문에, 오염물 제거 과정에서 레티클 자체에 손상을 주거나 패턴에 변형을 일으키면 안 됩니다. 이러한 요구 사항을 충족시키기 위해 레티클 POD 클리너는 매우 까다로운 설계와 기술을 요구합니다. 레티클 POD 클리너는 주로 다음과 같은 특징들을 가집니다. 첫째, **높은 정밀도와 청정도를 보장**해야 합니다. 나노미터(nm) 수준의 미세 입자를 효과적으로 제거하면서도 레티클 표면이나 패턴에 전혀 손상을 입히지 않아야 합니다. 둘째, **자동화된 공정**을 통해 일관된 성능과 생산성을 확보합니다. 레티클의 취급 및 세척 과정을 자동화하여 인적 오류를 최소화하고, 각 레티클에 대해 동일한 세척 결과를 얻도록 합니다. 셋째, **다양한 종류의 오염물에 대한 효과적인 제거 능력**을 갖추어야 합니다. 반도체 공정 환경에서 발생하는 다양한 형태와 성질의 오염물을 효과적으로 제거할 수 있도록 다양한 세척 메커니즘을 적용합니다. 넷째, **안전하고 친환경적인 공정**을 지향합니다. 사용되는 세척제나 방식이 환경에 미치는 영향을 최소화하고, 작업자의 안전을 보장하는 기술을 적용합니다. 레티클 POD 클리너는 적용되는 세척 방식에 따라 여러 종류로 구분할 수 있습니다. 가장 일반적인 방식으로는 **습식 세척(Wet Cleaning)**과 **건식 세척(Dry Cleaning)**이 있습니다. 습식 세척 방식은 액체 상태의 세척액을 사용하여 오염물을 제거하는 방법입니다. 다양한 종류의 습식 세척이 있으며, 세척액의 종류, 세척 방식, 사용되는 물리적인 힘 등에 따라 다시 세분화됩니다. 예를 들어, **용액 세척(Solvent Cleaning)**은 특정 유기 오염물이나 잔류물을 제거하는 데 효과적입니다. 주로 IPA(Isopropyl Alcohol), DI water(초순수) 등의 용액을 사용합니다. 또한, **화학적 세척(Chemical Cleaning)**은 특정 화학 반응을 이용하여 오염물을 용해시키거나 분해하여 제거하는 방식입니다. 불산(HF), 오존수(Ozone Water), 차아염소산나트륨(NaClO) 등 특정 오염물에 맞는 화학 약품을 사용합니다. **초음파 세척(Ultrasonic Cleaning)**은 초음파 진동을 이용하여 세척액 내에 미세한 캐비테이션(cavitation) 현상을 발생시켜 오염물을 물리적으로 박리하는 방식입니다. 이는 미세 입자 제거에 효과적이지만, 레티클 패턴에 미세한 손상을 줄 가능성도 있어 사용에 주의가 필요합니다. **브러쉬 세척(Brush Cleaning)**은 부드러운 브러쉬를 이용하여 레티클 표면의 오염물을 물리적으로 문질러 제거하는 방식입니다. 브러쉬의 재질, 강도, 회전 속도 등이 세척 성능에 영향을 미칩니다. 건식 세척 방식은 액체 세척액을 사용하지 않고 기체 상태의 물질이나 플라즈마 등을 이용하여 오염물을 제거하는 방법입니다. 건식 세척은 습식 세척에 비해 건조 과정이 필요 없어 공정 시간을 단축할 수 있으며, 레티클 표면에 잔류물이 남을 가능성이 적다는 장점이 있습니다. 주요 건식 세척 방식으로는 **플라즈마 세척(Plasma Cleaning)**이 있습니다. 플라즈마는 높은 에너지 상태의 이온, 전자, 라디칼 등으로 구성된 기체로, 이러한 활성종들이 레티클 표면의 오염물과 반응하여 휘발성 물질로 만들어 제거합니다. 플라즈마 세척은 특히 유기물 오염이나 금속 오염 제거에 효과적입니다. **이산화탄소 눈물 세척(CO2 Snow Cleaning)**은 극저온의 액체 이산화탄소를 분사하여 드라이아이스 상태의 미세한 입자(CO2 눈물)를 생성하고, 이 입자들이 레티클 표면에 충돌하면서 오염물을 물리적으로 제거하는 방식입니다. CO2는 승화되기 때문에 세척 후 잔류물이 남지 않는다는 장점이 있습니다. **이온빔 세척(Ion Beam Cleaning)**은 이온을 가속하여 레티클 표면에 충돌시켜 오염물을 물리적으로 깎아내는 방식입니다. 매우 정밀한 제거가 가능하지만, 레티클 패턴에 손상을 줄 위험이 있어 특정 용도에 한정적으로 사용됩니다. **광화학 세척(Photochemical Cleaning)**은 특정 파장의 빛(예: UV)을 조사하여 오염물과 반응하는 화학종을 생성하거나 오염물 자체를 분해하여 제거하는 방식입니다. 레티클 POD 클리너의 용도는 매우 다양하며, 주로 반도체 제조 공정의 여러 단계에서 사용됩니다. 가장 핵심적인 용도는 **레티클 준비 및 보관 단계**에서의 오염물 제거입니다. 새로운 레티클이 공장에 반입될 때, 또는 레티클이 사용되지 않고 보관될 때 표면에 먼지나 오염물이 부착될 수 있습니다. 이러한 오염물은 패턴 전사에 치명적인 결함을 유발하므로, POD 클리너를 통해 깨끗하게 관리해야 합니다. 또한, **마스크 수리(Mask Repair) 전후**의 오염물 제거에도 사용됩니다. 레티클에 결함이 발견되어 수리해야 할 경우, 수리 작업의 정확성을 높이고 수리 후 오염을 제거하기 위해 클리너가 사용됩니다. 레티클의 **정기적인 유지보수 및 검사** 과정에서도 클리너를 사용하여 레티클의 상태를 최적으로 유지합니다. 레티클 POD 클리너와 관련된 주요 기술로는 다음과 같은 것들이 있습니다. 첫째, **정밀 유체 제어 기술**입니다. 레티클 표면에 세척액을 균일하게 도포하거나 분사하기 위한 정밀한 유체 제어 기술이 요구됩니다. 노즐 설계, 유량 조절, 압력 제어 등이 이에 해당합니다. 둘째, **나노 입자 감지 및 제거 기술**입니다. 레티클 표면의 나노미터 단위의 미세 입자를 감지하고 이를 손상 없이 효과적으로 제거하는 기술이 중요합니다. 이를 위해 고성능 센서와 정밀한 세척 메커니즘이 결합됩니다. 셋째, **플라즈마 공학 기술**입니다. 플라즈마 세척 방식을 사용하는 경우, 특정 오염물에 최적화된 플라즈마를 생성하고 이를 레티클 표면에 균일하게 조사하는 플라즈마 발생 및 제어 기술이 핵심입니다. 넷째, **자동화 및 로봇 기술**입니다. 레티클은 매우 민감한 부품이므로, 로봇 팔 등을 이용하여 자동으로 취급하고 세척 공정을 진행하여 오염을 최소화하고 재현성을 확보하는 기술이 필수적입니다. 다섯째, **환경 제어 기술**입니다. 클리닝 공정이 이루어지는 환경 자체의 청정도(cleanliness)를 유지하고, 외부 오염원의 유입을 철저히 차단하는 것이 중요합니다. 이를 위해 클린룸 환경 및 격리된 챔버 설계 기술이 요구됩니다. 여섯째, **재료 과학 및 표면 처리 기술**입니다. 레티클 자체의 재질이나 코팅에 손상을 주지 않으면서 오염물을 효과적으로 제거할 수 있는 세척액 및 세척 방식에 대한 이해가 필요합니다. 또한, 레티클 보호를 위한 표면 처리 기술도 관련이 있습니다. 최근에는 보다 친환경적이고 효율적인 세척 방식에 대한 연구가 활발히 진행되고 있습니다. 예를 들어, 초임계 유체(supercritical fluid)를 이용한 세척이나 더욱 미세하고 정밀한 제어가 가능한 플라즈마 기술의 발전 등이 주목받고 있습니다. 또한, 인공지능(AI) 기술을 활용하여 오염물의 종류와 패턴을 분석하고, 이에 최적화된 세척 조건을 자동으로 설정하는 스마트 클리닝 시스템에 대한 연구도 이루어지고 있습니다. 이러한 기술 발전은 반도체 제조 수율 향상과 생산성 증대에 크게 기여할 것으로 기대됩니다. |
| ※본 조사보고서 [세계의 레티클 POD 클리너 시장예측 2025년-2031년] (코드 : LPK23JU1231) 판매에 관한 면책사항을 반드시 확인하세요. |
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