| ■ 영문 제목 : Gas Delivery Systems for Semiconductor Market, Global Outlook and Forecast 2024-2030 | |
 | ■ 상품코드 : MONT2407F22118 ■ 조사/발행회사 : Market Monitor Global ■ 발행일 : 2024년 5월 ■ 페이지수 : 약100 ■ 작성언어 : 영어 ■ 보고서 형태 : PDF ■ 납품 방식 : E메일 (주문후 2-3일 소요) ■ 조사대상 지역 : 글로벌 ■ 산업 분야 : 산업기계/건설 |
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본 조사 보고서는 현재 동향, 시장 역학 및 미래 전망에 초점을 맞춰, 반도체용 가스 공급 시스템 시장에 대한 포괄적인 분석을 제공합니다. 본 보고서는 북미, 유럽, 아시아 태평양 및 신흥 시장과 같은 주요 지역을 포함한 전 세계 반도체용 가스 공급 시스템 시장을 대상으로 합니다. 또한 반도체용 가스 공급 시스템의 성장을 주도하는 주요 요인, 업계가 직면한 과제 및 시장 참여자를 위한 잠재적 기회도 기재합니다.
글로벌 반도체용 가스 공급 시스템 시장은 최근 몇 년 동안 환경 문제, 정부 인센티브 및 기술 발전의 증가로 인해 급속한 성장을 목격했습니다. 반도체용 가스 공급 시스템 시장은 증착, 이온 주입, 에칭, 기타를 포함한 다양한 이해 관계자에게 기회를 제공합니다. 민간 부문과 정부 간의 협력은 반도체용 가스 공급 시스템 시장에 대한 지원 정책, 연구 개발 노력 및 투자를 가속화 할 수 있습니다. 또한 증가하는 소비자 수요는 시장 확장의 길을 제시합니다.
글로벌 반도체용 가스 공급 시스템 시장은 2023년에 미화 XXX백만 달러로 조사되었으며 2030년까지 미화 XXX백만 달러에 도달할 것으로 예상되며, 예측 기간 동안 XXX%의 CAGR로 성장할 것으로 예상됩니다.
[주요 특징]
반도체용 가스 공급 시스템 시장에 대한 조사 보고서에는 포괄적인 통찰력을 제공하고 이해 관계자의 의사 결정을 용이하게하는 몇 가지 주요 항목이 포함되어 있습니다.
요약 : 본 보고서는 반도체용 가스 공급 시스템 시장의 주요 결과, 시장 동향 및 주요 통찰력에 대한 개요를 제공합니다.
시장 개요: 본 보고서는 반도체용 가스 공급 시스템 시장의 정의, 역사적 추이, 현재 시장 규모를 포함한 포괄적인 개요를 제공합니다. 종류(예: 반자동, 전자동), 지역 및 용도별로 시장을 세분화하여 각 세그먼트 내의 주요 동인, 과제 및 기회를 중점적으로 다룹니다.
시장 역학: 본 보고서는 반도체용 가스 공급 시스템 시장의 성장과 발전을 주도하는 시장 역학을 분석합니다. 본 보고서에는 정부 정책 및 규정, 기술 발전, 소비자 동향 및 선호도, 인프라 개발, 업계 협력에 대한 평가가 포함되어 있습니다. 이 분석은 이해 관계자가 반도체용 가스 공급 시스템 시장의 궤적에 영향을 미치는 요인을 이해하는데 도움이됩니다.
경쟁 환경: 본 보고서는 반도체용 가스 공급 시스템 시장내 경쟁 환경에 대한 심층 분석을 제공합니다. 여기에는 주요 시장 플레이어의 프로필, 시장 점유율, 전략, 제품 포트폴리오 및 최근 동향이 포함됩니다.
시장 세분화 및 예측: 본 보고서는 종류, 지역 및 용도와 같은 다양한 매개 변수를 기반으로 반도체용 가스 공급 시스템 시장을 세분화합니다. 정량적 데이터 및 분석을 통해 각 세그먼트의 시장 규모와 성장 예측을 제공합니다. 이를 통해 이해 관계자가 성장 기회를 파악하고 정보에 입각한 투자 결정을 내릴 수 있습니다.
기술 동향: 본 보고서는 주요기술의 발전과 새로운 대체품 등 반도체용 가스 공급 시스템 시장을 형성하는 주요 기술 동향을 강조합니다. 이러한 트렌드가 시장 성장, 채택률, 소비자 선호도에 미치는 영향을 분석합니다.
시장 과제와 기회: 본 보고서는 기술적 병목 현상, 비용 제한, 높은 진입 장벽 등 반도체용 가스 공급 시스템 시장이 직면한 주요 과제를 파악하고 분석합니다. 또한 정부 인센티브, 신흥 시장, 이해관계자 간의 협업 등 시장 성장의 기회에 대해서도 강조합니다.
규제 및 정책 분석: 본 보고서는 정부 인센티브, 배출 기준, 인프라 개발 계획 등 반도체용 가스 공급 시스템에 대한 규제 및 정책 환경을 평가합니다. 이러한 정책이 시장 성장에 미치는 영향을 분석하고 향후 규제 동향에 대한 인사이트를 제공합니다.
권장 사항 및 결론: 본 보고서는 소비자, 정책 입안자, 투자자, 인프라 제공업체 등 이해관계자를 위한 실행 가능한 권고 사항으로 마무리합니다. 이러한 권장 사항은 조사 결과를 바탕으로 반도체용 가스 공급 시스템 시장의 주요 과제와 기회를 해결할 수 있습니다.
참고 데이터 및 부록: 보고서에는 분석 및 조사 결과를 입증하기 위한 보조 데이터, 차트, 그래프가 포함되어 있습니다. 또한 데이터 소스, 설문조사, 상세한 시장 예측과 같은 추가 세부 정보가 담긴 부록도 포함되어 있습니다.
[시장 세분화]
반도체용 가스 공급 시스템 시장은 종류별 및 용도별로 세분화됩니다. 2019-2030년 기간 동안 세그먼트 간의 성장은 종류별 및 용도별로 시장규모에 대한 정확한 계산 및 예측을 볼륨 및 금액 측면에서 제공합니다.
■ 종류별 시장 세그먼트
– 반자동, 전자동
■ 용도별 시장 세그먼트
– 증착, 이온 주입, 에칭, 기타
■ 지역별 및 국가별 글로벌 반도체용 가스 공급 시스템 시장 점유율, 2023년(%)
– 북미 (미국, 캐나다, 멕시코)
– 유럽 (독일, 프랑스, 영국, 이탈리아, 러시아)
– 아시아 (중국, 일본, 한국, 동남아시아, 인도)
– 남미 (브라질, 아르헨티나)
– 중동 및 아프리카 (터키, 이스라엘, 사우디 아라비아, UAE)
■ 주요 업체
– Ham-Let, SDC, SilPac, Swagelok, Entegris, GEC, Ichor Systems, High Purity Systems
[주요 챕터의 개요]
1 장 : 반도체용 가스 공급 시스템의 정의, 시장 개요를 소개
2 장 : 매출 및 판매량을 기준으로한 글로벌 반도체용 가스 공급 시스템 시장 규모
3 장 : 반도체용 가스 공급 시스템 제조업체 경쟁 환경, 가격, 판매량 및 매출 시장 점유율, 최신 동향, M&A 정보 등에 대한 자세한 분석
4 장 : 종류별 시장 분석을 제공 (각 세그먼트의 시장 규모와 성장 잠재력을 다룸)
5 장 : 용도별 시장 분석을 제공 (각 세그먼트의 시장 규모와 성장 잠재력을 다룸)
6 장 : 지역 및 국가별 반도체용 가스 공급 시스템 판매량. 각 지역 및 주요 국가의 시장 규모와 성장 잠재력에 대한 정량적 분석을 제공. 세계 각국의 시장 개발, 향후 개발 전망, 시장 기회을 소개
7 장 : 주요 업체의 프로필을 제공. 제품 판매, 매출, 가격, 총 마진, 제품 소개, 최근 동향 등 시장 내 주요 업체의 기본 상황을 자세히 소개
8 장 : 지역별 및 국가별 글로벌 반도체용 가스 공급 시스템 시장규모
9 장 : 시장 역학, 시장의 최신 동향, 시장의 추진 요인 및 제한 요인, 업계내 업체가 직면한 과제 및 리스크, 업계의 관련 정책 분석을 소개
10 장 : 산업의 업 스트림 및 다운 스트림을 포함한 산업 체인 분석
11 장 : 보고서의 주요 요점 및 결론
※납품 보고서의 구성항목 및 내용은 본 페이지에 기재된 내용과 다를 수 있습니다. 보고서 주문 전에 당사에 보고서 샘플을 요청해서 구성항목 및 기재 내용을 반드시 확인하시길 바랍니다. 보고서 샘플에 없는 내용은 납품 드리는 보고서에도 포함되지 않습니다.
■ 보고서 목차1. 조사 및 분석 보고서 소개 2. 글로벌 반도체용 가스 공급 시스템 전체 시장 규모 3. 기업 환경 4. 종류별 시장 분석 5. 용도별 시장 분석 6. 지역별 시장 분석 7. 제조업체 및 브랜드 프로필 Ham-Let, SDC, SilPac, Swagelok, Entegris, GEC, Ichor Systems, High Purity Systems Ham-Let SDC SilPac 8. 글로벌 반도체용 가스 공급 시스템 생산 능력 분석 9. 주요 시장 동향, 기회, 동인 및 제약 요인 10. 반도체용 가스 공급 시스템 공급망 분석 11. 결론 [그림 목록]- 종류별 반도체용 가스 공급 시스템 세그먼트, 2023년 - 용도별 반도체용 가스 공급 시스템 세그먼트, 2023년 - 글로벌 반도체용 가스 공급 시스템 시장 개요, 2023년 - 글로벌 반도체용 가스 공급 시스템 시장 규모: 2023년 VS 2030년 - 글로벌 반도체용 가스 공급 시스템 매출, 2019-2030 - 글로벌 반도체용 가스 공급 시스템 판매량: 2019-2030 - 반도체용 가스 공급 시스템 매출 기준 상위 3개 및 5개 업체 시장 점유율, 2023년 - 글로벌 종류별 반도체용 가스 공급 시스템 매출, 2023년 VS 2030년 - 글로벌 종류별 반도체용 가스 공급 시스템 매출 시장 점유율 - 글로벌 종류별 반도체용 가스 공급 시스템 판매량 시장 점유율 - 글로벌 종류별 반도체용 가스 공급 시스템 가격 - 글로벌 용도별 반도체용 가스 공급 시스템 매출, 2023년 VS 2030년 - 글로벌 용도별 반도체용 가스 공급 시스템 매출 시장 점유율 - 글로벌 용도별 반도체용 가스 공급 시스템 판매량 시장 점유율 - 글로벌 용도별 반도체용 가스 공급 시스템 가격 - 지역별 반도체용 가스 공급 시스템 매출, 2023년 VS 2030년 - 지역별 반도체용 가스 공급 시스템 매출 시장 점유율 - 지역별 반도체용 가스 공급 시스템 매출 시장 점유율 - 지역별 반도체용 가스 공급 시스템 판매량 시장 점유율 - 북미 국가별 반도체용 가스 공급 시스템 매출 시장 점유율 - 북미 국가별 반도체용 가스 공급 시스템 판매량 시장 점유율 - 미국 반도체용 가스 공급 시스템 시장규모 - 캐나다 반도체용 가스 공급 시스템 시장규모 - 멕시코 반도체용 가스 공급 시스템 시장규모 - 유럽 국가별 반도체용 가스 공급 시스템 매출 시장 점유율 - 유럽 국가별 반도체용 가스 공급 시스템 판매량 시장 점유율 - 독일 반도체용 가스 공급 시스템 시장규모 - 프랑스 반도체용 가스 공급 시스템 시장규모 - 영국 반도체용 가스 공급 시스템 시장규모 - 이탈리아 반도체용 가스 공급 시스템 시장규모 - 러시아 반도체용 가스 공급 시스템 시장규모 - 아시아 지역별 반도체용 가스 공급 시스템 매출 시장 점유율 - 아시아 지역별 반도체용 가스 공급 시스템 판매량 시장 점유율 - 중국 반도체용 가스 공급 시스템 시장규모 - 일본 반도체용 가스 공급 시스템 시장규모 - 한국 반도체용 가스 공급 시스템 시장규모 - 동남아시아 반도체용 가스 공급 시스템 시장규모 - 인도 반도체용 가스 공급 시스템 시장규모 - 남미 국가별 반도체용 가스 공급 시스템 매출 시장 점유율 - 남미 국가별 반도체용 가스 공급 시스템 판매량 시장 점유율 - 브라질 반도체용 가스 공급 시스템 시장규모 - 아르헨티나 반도체용 가스 공급 시스템 시장규모 - 중동 및 아프리카 국가별 반도체용 가스 공급 시스템 매출 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 국가별 반도체용 가스 공급 시스템 판매량 시장 점유율 - 터키 반도체용 가스 공급 시스템 시장규모 - 이스라엘 반도체용 가스 공급 시스템 시장규모 - 사우디 아라비아 반도체용 가스 공급 시스템 시장규모 - 아랍에미리트 반도체용 가스 공급 시스템 시장규모 - 글로벌 반도체용 가스 공급 시스템 생산 능력 - 지역별 반도체용 가스 공급 시스템 생산량 비중, 2023년 VS 2030년 - 반도체용 가스 공급 시스템 산업 가치 사슬 - 마케팅 채널 ※납품 보고서의 구성항목 및 내용은 본 페이지에 기재된 내용과 다를 수 있습니다. 보고서 주문 전에 당사에 보고서 샘플을 요청해서 구성항목 및 기재 내용을 반드시 확인하시길 바랍니다. 보고서 샘플에 없는 내용은 납품 드리는 보고서에도 포함되지 않습니다. |
| ※참고 정보 반도체 제조 공정에서 사용되는 가스 공급 시스템은 극도로 순수하고 정밀하게 제어된 다양한 종류의 가스를 반도체 웨이퍼가 놓인 공정 챔버로 안전하고 효율적으로 전달하는 핵심적인 설비입니다. 이러한 가스 공급 시스템은 반도체 제조의 각 단계에서 요구되는 특정 화학적, 물리적 조건을 충족시키는 데 필수적이며, 웨이퍼의 수율과 성능을 결정하는 중요한 요소로 작용합니다. 기본적으로 반도체용 가스 공급 시스템은 크게 네 가지 주요 구성 요소로 나눌 수 있습니다. 첫째, 고순도 가스의 저장 및 관리 부분입니다. 반도체 공정에는 일반적인 산업용 가스와는 비교할 수 없는 수준의 순도를 요구하는 특수 가스들이 사용됩니다. 이러한 특수 가스들은 고압의 실린더나 탱크에 저장되며, 가스 특성에 따라 액체 상태나 기체 상태로 관리됩니다. 둘째, 가스의 압력 및 유량 제어 부분입니다. 공정 챔버로 공급되는 가스의 압력과 유량은 매우 정밀하게 제어되어야 하며, 이를 위해 압력 레귤레이터, 질량 유량 제어기(Mass Flow Controller, MFC)와 같은 정밀 제어 장치가 사용됩니다. 셋째, 가스의 순도 유지 및 오염 방지 부분입니다. 가스 공급 시스템의 모든 배관, 밸브, 피팅 등은 극도로 청결하게 유지되어야 하며, 미량의 불순물 유입도 용납되지 않습니다. 이를 위해 특수 재질의 배관(예: 스테인리스 스틸 316L), 초고순도 밸브, 필터 등이 사용됩니다. 또한, 가스의 반응성을 고려하여 배관 내부 표면을 패시베이션 처리하는 기술도 중요합니다. 넷째, 안전 및 모니터링 부분입니다. 고압의 가스나 인화성, 독성 가스를 다루기 때문에 안전을 최우선으로 고려해야 합니다. 이를 위해 누설 감지 시스템, 비상 차단 밸브, 환기 시스템 등이 설치되며, 공정 중 가스의 상태를 실시간으로 모니터링하는 시스템도 갖추고 있습니다. 반도체용 가스 공급 시스템의 특징은 다음과 같습니다. 첫째, 극도의 순도 요구 사항입니다. 반도체 소자의 미세한 구조와 복잡한 공정 특성상, 공정에 사용되는 가스의 순도는 99.999% (5-nine) 또는 그 이상을 요구하는 경우가 많습니다. 심지어는 99.999999% (8-nine) 이상의 초고순도 가스를 사용하는 공정도 존재합니다. 미량의 불순물이라도 반도체 소자의 전기적 특성에 치명적인 영향을 미칠 수 있기 때문입니다. 둘째, 정밀한 유량 및 압력 제어입니다. 각 공정 단계마다 요구되는 가스의 양과 압력이 달라지므로, 이를 실시간으로 정확하게 제어하는 것이 중요합니다. 질량 유량 제어기(MFC)는 특정 질량의 가스를 단위 시간당 얼마나 공급할지를 정밀하게 조절하는 핵심 부품입니다. 셋째, 높은 신뢰성과 안전성입니다. 반도체 생산 라인은 24시간 가동되는 경우가 많으므로, 가스 공급 시스템은 장시간 동안 안정적으로 작동해야 합니다. 또한, 사용되는 가스 중에는 인화성, 폭발성, 독성이 있는 물질이 많으므로, 안전을 최우선으로 고려한 설계 및 운영이 필수적입니다. 넷째, 다기능성 및 유연성입니다. 반도체 제조 공정은 지속적으로 발전하고 있으며, 새로운 공정이나 재료의 도입에 따라 다양한 종류의 가스가 요구될 수 있습니다. 따라서 가스 공급 시스템은 이러한 변화에 유연하게 대응할 수 있도록 설계되어야 합니다. 반도체용 가스 공급 시스템의 종류는 사용되는 가스의 특성, 공정 단계, 공급 방식 등에 따라 다양하게 분류될 수 있습니다. 먼저, 가스의 성상에 따라 분류하면 **기체 공급 시스템**과 **액체 공급 시스템**으로 나눌 수 있습니다. 기체 공급 시스템은 암모니아, 수소, 질소, 산소 등 상온에서 기체 상태인 가스를 공급하며, 실린더나 저장 탱크에서 압축된 기체 상태로 공급됩니다. 액체 공급 시스템은 염소(Cl2), 삼불화질소(NF3), 육불화황(SF6) 등 극저온에서 액화되는 가스를 액체 상태로 저장 및 공급합니다. 이 경우, 증발기(Vaporizer)를 통해 기화시켜 공정 챔버로 공급하게 됩니다. 또한, 가스의 특성에 따라 **불활성 가스 공급 시스템**, **반응성 가스 공급 시스템**, **독성 가스 공급 시스템**, **소량 공급 시스템(ppb, ppt 레벨)** 등으로 분류하기도 합니다. 불활성 가스 시스템은 질소, 아르곤과 같이 반응성이 없는 가스를 공급하여 공정 챔버를 불활성 분위기로 만들거나 퍼지(purge)하는 데 사용됩니다. 반응성 가스 시스템은 실리콘 증착에 사용되는 실란(SiH4), 식각에 사용되는 염소(Cl2)와 같이 화학 반응에 직접 참여하는 가스를 공급합니다. 독성 가스 시스템은 암모니아(NH3)나 일산화탄소(CO)와 같이 인체에 유해한 가스를 안전하게 공급하고, 사용 후에는 포집 및 처리하는 시스템까지 포함합니다. 최근에는 나노 단위의 반도체 소자 제조를 위해 매우 적은 양의 가스를 극도로 정밀하게 제어하여 공급하는 ppb(parts per billion) 또는 ppt(parts per trillion) 레벨의 초정밀 공급 시스템의 중요성이 커지고 있습니다. 반도체 제조 공정에서 가스 공급 시스템은 거의 모든 단계에 걸쳐 사용됩니다. 주요 용도로는 **증착(Deposition)** 공정이 있습니다. 증착 공정에서는 실리콘 화합물, 질화물, 산화물 등을 웨이퍼 표면에 얇은 막 형태로 형성하는데, 이때 실란(SiH4), 디실란(Si2H6), 암모니아(NH3), 산소(O2), 질소(N2) 등 다양한 종류의 가스가 사용됩니다. **식각(Etching)** 공정은 웨이퍼 표면의 불필요한 부분을 제거하여 회로 패턴을 형성하는 과정으로, 염소(Cl2), 브롬화수소(HBr), 불화수소(HF), 불화메탄(CH4)과 같은 식각 가스가 사용됩니다. **화학 기상 증착(Chemical Vapor Deposition, CVD)** 공정은 전구체 가스들이 반응하여 박막을 형성하는 방식으로, 다양한 증착용 가스가 활용됩니다. **플라즈마 공정**에서는 아르곤(Ar), 헬륨(He), 산소(O2), 질소(N2), 삼불화질소(NF3)와 같은 가스가 플라즈마 생성을 위해 사용됩니다. 또한, 공정 챔버의 내부를 세정하는 **챔버 클리닝(Chamber Cleaning)** 공정에서도 삼불화질소(NF3), 사불화탄소(CF4)와 같은 가스가 사용됩니다. 이 외에도 웨이퍼를 이동하거나 공정 중 발생하는 오염 물질을 제거하기 위한 퍼지(purge) 가스로 질소나 아르곤이 사용되는 등, 반도체 제조의 전 과정에 걸쳐 가스 공급 시스템은 필수적으로 적용됩니다. 반도체용 가스 공급 시스템과 관련된 주요 기술로는 다음과 같은 것들이 있습니다. 첫째, **초고순도 재료 및 가공 기술**입니다. 가스의 순도를 유지하기 위해서는 배관, 밸브, 피팅 등 모든 부품이 초고순도 재질로 제작되어야 하며, 미세한 표면 거칠기나 입자 발생도 최소화해야 합니다. 스테인리스 스틸 316L의 전기화학적 연마(Electropolishing) 기술 등이 대표적입니다. 둘째, **정밀 유량 및 압력 제어 기술**입니다. 질량 유량 제어기(MFC)의 성능 향상, 압력 센서의 정밀도 증대, 제어 알고리즘 개발 등이 중요합니다. 특히 최근에는 나노 수준의 공정을 위해 ppb 또는 ppt 레벨의 가스 공급을 위한 기술이 요구됩니다. 셋째, **가스 안전 관리 기술**입니다. 독성, 인화성 가스에 대한 누설 감지 및 차단 시스템, 폭발 방지 설계, 배기 및 포집 시스템 등 안전 관련 기술은 시스템의 신뢰성을 높이는 데 핵심적입니다. 넷째, **가스 감지 및 분석 기술**입니다. 공정 중 가스의 농도, 불순물 여부 등을 실시간으로 감지하고 분석하여 공정의 안정성을 확보하는 기술이 중요합니다. 가스크로마토그래피(GC), 질량분석기(Mass Spectrometer) 등의 분석 장비가 활용됩니다. 다섯째, **가스 공급 시스템 자동화 및 원격 제어 기술**입니다. 생산 효율성을 높이고 인적 오류를 줄이기 위해 시스템의 자동화 및 원격 모니터링, 제어 기술이 중요해지고 있습니다. 이는 IoT(사물 인터넷) 및 빅데이터 기술과 접목되어 더욱 발전하고 있습니다. 여섯째, **하이브리드 가스 공급 시스템 기술**입니다. 단일 시스템에서 다양한 종류의 가스를 공급하거나, 액체 및 기체 가스를 동시에 공급하는 등 유연성을 높이는 방향으로 기술이 발전하고 있습니다. 마지막으로, **사용 후 가스 처리 및 재활용 기술**입니다. 환경 규제 강화와 자원 절약을 위해 공정 후 발생하는 폐가스를 안전하게 처리하거나 재활용하는 기술의 중요성이 증대되고 있습니다. 결론적으로 반도체용 가스 공급 시스템은 반도체 제조의 근간을 이루는 중요한 설비로서, 극도로 높은 순도, 정밀한 제어, 높은 신뢰성과 안전성을 요구합니다. 지속적인 기술 발전과 혁신을 통해 더욱 미세하고 복잡한 반도체 소자의 제조를 가능하게 하며, 생산 효율성과 제품 품질 향상에 기여하고 있습니다. 이러한 가스 공급 시스템의 발전은 미래 반도체 산업의 경쟁력을 좌우하는 핵심 요소라고 할 수 있습니다. |
| ※본 조사보고서 [글로벌 반도체용 가스 공급 시스템 시장예측 2024-2030] (코드 : MONT2407F22118) 판매에 관한 면책사항을 반드시 확인하세요. |
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