| ■ 영문 제목 : Global Extreme Ultraviolet Lithography (EUVL) Systems Market Growth 2024-2030 | |
 | ■ 상품코드 : LPI2407D19101 ■ 조사/발행회사 : LP Information ■ 발행일 : 2024년 5월 ■ 페이지수 : 약100 ■ 작성언어 : 영어 ■ 보고서 형태 : PDF ■ 납품 방식 : E메일 (주문후 2-3일 소요) ■ 조사대상 지역 : 글로벌 ■ 산업 분야 : 산업기계/건설 |
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LP Information (LPI)사의 최신 조사에 따르면, 글로벌 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장 규모는 2023년에 미화 XXX백만 달러로 산출되었습니다. 다운 스트림 시장의 수요가 증가함에 따라 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템은 조사 대상 기간 동안 XXX%의 CAGR(연평균 성장율)로 2030년까지 미화 XXX백만 달러의 시장규모로 예상됩니다.
본 조사 보고서는 글로벌 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장의 성장 잠재력을 강조합니다. 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템은 향후 시장에서 안정적인 성장을 보일 것으로 예상됩니다. 그러나 제품 차별화, 비용 절감 및 공급망 최적화는 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템의 광범위한 채택을 위해 여전히 중요합니다. 시장 참여자들은 연구 개발에 투자하고, 전략적 파트너십을 구축하고, 진화하는 소비자 선호도에 맞춰 제품을 제공함으로써 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장이 제공하는 막대한 기회를 활용해야 합니다.
[주요 특징]
극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장에 대한 보고서는 다양한 측면을 반영하고 업계에 대한 소중한 통찰력을 제공합니다.
시장 규모 및 성장: 본 조사 보고서는 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장의 현재 규모와 성장에 대한 개요를 제공합니다. 여기에는 과거 데이터, 유형별 시장 세분화 (예 : 레이저 생성 플라스마, 진공 스파크, 가스 배출) 및 지역 분류가 포함될 수 있습니다.
시장 동인 및 과제: 본 보고서는 정부 규제, 환경 문제, 기술 발전 및 소비자 선호도 변화와 같은 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장의 성장을 주도하는 요인을 식별하고 분석 할 수 있습니다. 또한 인프라 제한, 범위 불안, 높은 초기 비용 등 업계가 직면한 과제를 강조할 수 있습니다.
경쟁 환경: 본 조사 보고서는 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장 내 경쟁 환경에 대한 분석을 제공합니다. 여기에는 주요 업체의 프로필, 시장 점유율, 전략 및 제공 제품이 포함됩니다. 본 보고서는 또한 신흥 플레이어와 시장에 대한 잠재적 영향을 강조할 수 있습니다.
기술 개발: 본 조사 보고서는 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 산업의 최신 기술 개발에 대해 자세히 살펴볼 수 있습니다. 여기에는 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 기술의 발전, 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 신규 진입자, 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 신규 투자, 그리고 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템의 미래를 형성하는 기타 혁신이 포함됩니다.
다운스트림 고객 선호도: 본 보고서는 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장의 고객 구매 행동 및 채택 동향을 조명할 수 있습니다. 여기에는 고객의 구매 결정에 영향을 미치는 요인, 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 제품에 대한 선호도가 포함됩니다.
정부 정책 및 인센티브: 본 조사 보고서는 정부 정책 및 인센티브가 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장에 미치는 영향을 분석합니다. 여기에는 규제 프레임워크, 보조금, 세금 인센티브 및 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장을 촉진하기위한 기타 조치에 대한 평가가 포함될 수 있습니다. 본 보고서는 또한 이러한 정책이 시장 성장을 촉진하는데 미치는 효과도 분석합니다.
환경 영향 및 지속 가능성: 조사 보고서는 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장의 환경 영향 및 지속 가능성 측면을 분석합니다.
시장 예측 및 미래 전망: 수행된 분석을 기반으로 본 조사 보고서는 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 산업에 대한 시장 예측 및 전망을 제공합니다. 여기에는 시장 규모, 성장률, 지역 동향, 기술 발전 및 정책 개발에 대한 예측이 포함됩니다.
권장 사항 및 기회: 본 보고서는 업계 이해 관계자, 정책 입안자, 투자자를 위한 권장 사항으로 마무리됩니다. 본 보고서는 시장 참여자들이 새로운 트렌드를 활용하고, 도전 과제를 극복하며, 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장의 성장과 발전에 기여할 수 있는 잠재적 기회를 강조합니다.
[시장 세분화]
극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장은 종류 및 용도별로 나뉩니다. 2019-2030년 기간 동안 세그먼트 간의 성장은 종류별 및 용도별로 시장규모에 대한 정확한 계산 및 예측을 수량 및 금액 측면에서 제공합니다.
*** 종류별 세분화 ***
레이저 생성 플라스마, 진공 스파크, 가스 배출
*** 용도별 세분화 ***
메모리, 파운드리, 기타
본 보고서는 또한 시장을 지역별로 분류합니다:
– 미주 (미국, 캐나다, 멕시코, 브라질)
– 아시아 태평양 (중국, 일본, 한국, 동남아시아, 인도, 호주)
– 유럽 (독일, 프랑스, 영국, 이탈리아, 러시아)
– 중동 및 아프리카 (이집트, 남아프리카 공화국, 이스라엘, 터키, GCC 국가)
아래 프로파일링 대상 기업은 주요 전문가로부터 수집한 정보를 바탕으로 해당 기업의 서비스 범위, 제품 포트폴리오, 시장 점유율을 분석하여 선정되었습니다.
ASML, Canon Inc., Intel Corporation, Nikon Corporation, NuFlare Technology Inc., Samsung Corporation, SUSS Microtec AG, Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited (TSMC), Ultratech Inc., Vistec Semiconductor Systems
[본 보고서에서 다루는 주요 질문]
– 글로벌 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장의 향후 10년 전망은 어떻게 될까요?
– 전 세계 및 지역별 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장 성장을 주도하는 요인은 무엇입니까?
– 시장과 지역별로 가장 빠르게 성장할 것으로 예상되는 분야는 무엇인가요?
– 최종 시장 규모에 따라 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장 기회는 어떻게 다른가요?
– 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템은 종류, 용도를 어떻게 분류합니까?
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■ 보고서 목차■ 보고서의 범위 ■ 보고서의 요약 ■ 기업별 세계 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장분석 ■ 지역별 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템에 대한 추이 분석 ■ 미주 시장 ■ 아시아 태평양 시장 ■ 유럽 시장 ■ 중동 및 아프리카 시장 ■ 시장 동인, 도전 과제 및 동향 ■ 제조 비용 구조 분석 ■ 마케팅, 유통업체 및 고객 ■ 지역별 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장 예측 ■ 주요 기업 분석 ASML, Canon Inc., Intel Corporation, Nikon Corporation, NuFlare Technology Inc., Samsung Corporation, SUSS Microtec AG, Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited (TSMC), Ultratech Inc., Vistec Semiconductor Systems – ASML – Canon Inc. – Intel Corporation ■ 조사 결과 및 결론 [그림 목록]극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 이미지 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 판매량 성장률 (2019-2030) 글로벌 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 매출 성장률 (2019-2030) 지역별 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 매출 (2019, 2023 및 2030) 글로벌 종류별 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 판매량 시장 점유율 2023 글로벌 종류별 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 매출 시장 점유율 (2019-2024) 글로벌 용도별 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 판매량 시장 점유율 2023 글로벌 용도별 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 매출 시장 점유율 기업별 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 판매량 시장 2023 기업별 글로벌 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 판매량 시장 점유율 2023 기업별 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 매출 시장 2023 기업별 글로벌 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 매출 시장 점유율 2023 지역별 글로벌 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 판매량 시장 점유율 (2019-2024) 글로벌 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 매출 시장 점유율 2023 미주 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 판매량 (2019-2024) 미주 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 매출 (2019-2024) 아시아 태평양 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 판매량 (2019-2024) 아시아 태평양 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 매출 (2019-2024) 유럽 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 판매량 (2019-2024) 유럽 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 매출 (2019-2024) 중동 및 아프리카 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 판매량 (2019-2024) 중동 및 아프리카 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 매출 (2019-2024) 미국 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장규모 (2019-2024) 캐나다 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장규모 (2019-2024) 멕시코 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장규모 (2019-2024) 브라질 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장규모 (2019-2024) 중국 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장규모 (2019-2024) 일본 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장규모 (2019-2024) 한국 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장규모 (2019-2024) 동남아시아 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장규모 (2019-2024) 인도 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장규모 (2019-2024) 호주 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장규모 (2019-2024) 독일 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장규모 (2019-2024) 프랑스 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장규모 (2019-2024) 영국 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장규모 (2019-2024) 이탈리아 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장규모 (2019-2024) 러시아 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장규모 (2019-2024) 이집트 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장규모 (2019-2024) 남아프리카 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장규모 (2019-2024) 이스라엘 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장규모 (2019-2024) 터키 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장규모 (2019-2024) GCC 국가 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장규모 (2019-2024) 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템의 제조 원가 구조 분석 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템의 제조 공정 분석 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템의 산업 체인 구조 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템의 유통 채널 글로벌 지역별 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 판매량 시장 전망 (2025-2030) 글로벌 지역별 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 매출 시장 점유율 예측 (2025-2030) 글로벌 종류별 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 판매량 시장 점유율 예측 (2025-2030) 글로벌 종류별 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 매출 시장 점유율 예측 (2025-2030) 글로벌 용도별 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 판매량 시장 점유율 예측 (2025-2030) 글로벌 용도별 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 매출 시장 점유율 예측 (2025-2030) ※납품 보고서의 구성항목 및 내용은 본 페이지에 기재된 내용과 다를 수 있습니다. 보고서 주문 전에 당사에 보고서 샘플을 요청해서 구성항목 및 기재 내용을 반드시 확인하시길 바랍니다. 보고서 샘플에 없는 내용은 납품 드리는 보고서에도 포함되지 않습니다. |
| ※참고 정보 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템은 현대 반도체 제조 기술의 핵심적인 부분으로, 매우 짧은 파장의 극자외선(Extreme Ultraviolet, EUV)을 이용하여 실리콘 웨이퍼 위에 나노미터 수준의 미세한 패턴을 새기는 광학 기술입니다. 이는 기존의 불화 아르곤(ArF) 액침 리소그래피로는 구현하기 어려운 초미세 회로 패턴을 만들기 위해 개발되었으며, 최첨단 반도체 칩 생산에 필수적인 기술로 자리 잡고 있습니다. EUVL 시스템의 가장 근본적인 개념은 빛의 파장이 짧을수록 더 미세한 패턴을 구현할 수 있다는 광학 원리에 기반합니다. 현재 반도체 공정에서 주로 사용되는 불화 아르곤(ArF) 광원의 파장은 193nm이지만, EUVL 시스템은 이보다 훨씬 짧은 13.5nm 파장의 빛을 사용합니다. 이러한 짧은 파장은 이전 기술로는 불가능했던 수십 나노미터 이하의 미세한 회로 패턴 형성을 가능하게 하여, 더 많은 트랜지스터를 집적하고 성능을 향상시키며 전력 소비를 줄이는 데 기여합니다. EUVL 시스템의 가장 큰 특징 중 하나는 사용되는 빛의 특성입니다. 13.5nm의 EUV 광은 공기 중에 흡수되는 성질이 매우 강하기 때문에, 리소그래피 공정 전체가 진공 환경에서 이루어져야 합니다. 이는 시스템 구축 및 유지보수에 상당한 어려움과 비용을 수반하게 됩니다. 또한, EUV 광은 기존의 유리 렌즈로 투과시키거나 반사시키기 어렵기 때문에, 반사율이 높은 특수 다층막 거울을 사용하여 빛의 경로를 제어해야 합니다. 이러한 거울은 주기적으로 배열된 몰리브덴(Mo)과 실리콘(Si) 층으로 구성되어 있으며, 13.5nm 파장의 빛에 대해 높은 반사율을 갖도록 설계됩니다. EUVL 시스템은 크게 세 가지 주요 구성 요소로 이루어져 있습니다. 첫째는 EUV 광원입니다. 현재 상용화된 EUV 광원으로는 방전 플라즈마 광원(Discharge-Produced Plasma, DPP)의 일종인 레이저 유도 플라즈마(Laser-Induced Plasma, LIP) 방식이 주로 사용됩니다. 이 방식은 고출력 레이저를 금속 방울(예: 주석)에 조사하여 순간적으로 초고온의 플라즈마를 생성하고, 이 플라즈마에서 발생하는 EUV 광을 포집하는 방식입니다. 광원의 안정성, 출력 효율, 수명 등은 EUVL 시스템의 성능과 생산성에 직접적인 영향을 미치는 중요한 요소입니다. 둘째는 광학계입니다. 앞서 언급했듯이 EUV 광은 거울을 통해 반사되므로, 웨이퍼에 패턴을 투영하기 위한 복잡한 형태의 다층막 거울로 이루어진 반사형 광학계가 사용됩니다. 이 거울들은 초정밀 가공 및 코팅 기술을 요구하며, 미세한 결함도 전체 공정에 큰 영향을 미칠 수 있습니다. 셋째는 마스크 및 웨이퍼 스테이지 시스템입니다. EUVL 시스템에서는 반사형 마스크를 사용하며, 이 마스크의 패턴을 웨이퍼로 전사합니다. 마스크와 웨이퍼를 정밀하게 이동시키는 스테이지 시스템 또한 고도의 정밀도를 요구합니다. EUVL 시스템의 주요 용도는 첨단 반도체 칩의 제조입니다. 특히 7nm, 5nm, 3nm 이하의 미세 공정 노드에서 집적도와 성능 향상을 위해 필수적으로 사용됩니다. 스마트폰, 고성능 컴퓨팅, 인공지능 가속기 등 최첨단 전자 제품에 사용되는 고성능 프로세서 및 메모리 칩 생산에 핵심적인 역할을 하고 있습니다. EUVL 기술의 도입은 반도체 산업의 기술적 진보를 이끌고 있으며, 글로벌 반도체 시장의 경쟁 구도에도 큰 영향을 미치고 있습니다. EUVL 시스템과 관련된 기술은 매우 다양하며, 여러 분야의 첨단 기술이 융합되어 있습니다. EUV 광원 기술 외에도, EUV 광에 최적화된 고반사율 다층막 거울 기술, 초정밀 연마 및 코팅 기술, EUV 광에 민감한 고해상도 감광재(resist) 기술, EUV 광의 손상을 최소화하는 공정 설계 기술, 그리고 시스템의 안정성과 정밀도를 유지하기 위한 진공 기술, 제어 기술 등이 있습니다. 또한, 마스크의 결함 검출 및 수리 기술 또한 중요한 관련 기술 중 하나입니다. EUV 광원은 출력이 상대적으로 낮고, 마스크에 패턴을 형성하는 방식도 기존 리소그래피와 다르기 때문에, 웨이퍼에 충분한 노광량을 전달하기 위한 효율적인 광원 개발과 고감도 감광재 개발은 EUVL 기술 발전의 핵심 과제였습니다. EUVL 시스템은 높은 기술적 난이도와 막대한 개발 비용으로 인해 초기에는 일부 선도적인 반도체 제조사들만이 도입할 수 있었습니다. 하지만 기술이 성숙함에 따라 점차 더 많은 기업들이 이 기술을 채택하고 있으며, 반도체 산업의 패러다임을 변화시키고 있습니다. EUVL 기술의 발전은 앞으로도 지속될 것이며, 더욱 미세하고 성능이 향상된 반도체 칩의 개발을 가능하게 할 것으로 기대됩니다. |
| ※본 조사보고서 [세계의 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장 2024-2030] (코드 : LPI2407D19101) 판매에 관한 면책사항을 반드시 확인하세요. |
| ※본 조사보고서 [세계의 극자외선 리소그래피 (EUVL) 시스템 시장 2024-2030] 에 대해서 E메일 문의는 여기를 클릭하세요. |