| ■ 영문 제목 : Global Chromium Sputtering Target Market 2024 by Manufacturers, Regions, Type and Application, Forecast to 2030 | |
 | ■ 상품코드 : GIR2407E10390 ■ 조사/발행회사 : Globalinforesearch ■ 발행일 : 2024년 4월 ■ 페이지수 : 약100 ■ 작성언어 : 영어 ■ 보고서 형태 : PDF ■ 납품 방식 : E메일 (주문후 2-3일 소요) ■ 조사대상 지역 : 글로벌 ■ 산업 분야 : 부품/재료 |
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조사회사 Global Info Research의 최신 조사에 따르면, 세계의 크로뮴 스퍼터링 타겟 시장 규모는 2023년에 XXX백만 달러로 분석되었으며, 검토 기간 동안 xx%의 CAGR로 2030년까지 XXX백만 달러의 재조정된 규모로 성장이 예측됩니다.
Global Info Research 보고서에는 크로뮴 스퍼터링 타겟 산업 체인 동향 개요, 박막 증착, 식각 및 분석 기술, 마그네트론 스퍼터링 소스, 기타 응용분야 및 선진 및 개발 도상국의 주요 기업의 시장 현황, 크로뮴 스퍼터링 타겟의 최첨단 기술, 특허, 최신 용도 및 시장 동향을 분석했습니다.
지역별로는 주요 지역의 크로뮴 스퍼터링 타겟 시장을 분석합니다. 북미와 유럽은 정부 이니셔티브와 수요자 인식 제고에 힘입어 꾸준한 성장세를 보이고 있습니다. 아시아 태평양, 특히 중국은 탄탄한 내수 수요와 지원 정책, 강력한 제조 기반을 바탕으로 글로벌 크로뮴 스퍼터링 타겟 시장을 주도하고 있습니다.
[주요 특징]
본 보고서는 크로뮴 스퍼터링 타겟 시장에 대한 포괄적인 이해를 제공합니다. 본 보고서는 산업에 대한 전체적인 관점과 개별 구성 요소 및 이해 관계자에 대한 자세한 통찰력을 제공합니다. 본 보고서는 크로뮴 스퍼터링 타겟 산업 내의 시장 역학, 동향, 과제 및 기회를 분석합니다. 또한, 거시적 관점에서 시장을 분석하는 것이 포함됩니다.
시장 규모 및 세분화: 본 보고서는 판매량, 매출 및 종류별 (예 : 순도 99%, 순도 99.5%, 순도 99.9%, 순도 99.95%, 순도 99.99%, 순도 99.999%)의 시장 점유율을 포함한 전체 시장 규모에 대한 데이터를 수집합니다.
산업 분석: 보고서는 정부 정책 및 규제, 기술 발전, 수요자 선호도, 시장 역학 등 광범위한 산업 동향을 분석합니다. 이 분석은 크로뮴 스퍼터링 타겟 시장에 영향을 미치는 주요 동인과 과제를 이해하는데 도움이 됩니다.
지역 분석: 본 보고서에는 지역 또는 국가 단위로 크로뮴 스퍼터링 타겟 시장을 조사하는 것이 포함됩니다. 보고서는 정부 인센티브, 인프라 개발, 경제 상황 및 수요자 행동과 같은 지역 요인을 분석하여 다양한 시장 내의 변화와 기회를 식별합니다.
시장 전망: 보고서는 수집된 데이터와 분석을 통해 크로뮴 스퍼터링 타겟 시장에 대한 미래 전망 및 예측을 다룹니다. 여기에는 시장 성장률 추정, 시장 수요 예측, 새로운 트렌드 파악 등이 포함될 수 있습니다. 본 보고서에는 크로뮴 스퍼터링 타겟에 대한 보다 세분화된 접근 방식도 포함됩니다.
기업 분석: 본 보고서는 크로뮴 스퍼터링 타겟 제조업체, 공급업체 및 기타 관련 업계 플레이어를 다룹니다. 이 분석에는 재무 성과, 시장 포지셔닝, 제품 포트폴리오, 파트너십 및 전략에 대한 조사가 포함됩니다.
수요자 분석: 보고서는 크로뮴 스퍼터링 타겟에 대한 수요자 행동, 선호도 및 태도에 대한 데이터를 다룹니다. 여기에는 설문 조사, 인터뷰 및 응용 분야별 (박막 증착, 식각 및 분석 기술, 마그네트론 스퍼터링 소스, 기타)의 다양한 수요자 리뷰 및 피드백 분석이 포함될 수 있습니다.
기술 분석: 크로뮴 스퍼터링 타겟과 관련된 특정 기술을 다루는 보고서입니다. 크로뮴 스퍼터링 타겟 분야의 현재 상황 및 잠재적 미래 발전 가능성을 평가합니다.
경쟁 환경: 본 보고서는 개별 기업, 공급업체 및 수요업체를 분석하여 크로뮴 스퍼터링 타겟 시장의 경쟁 환경에 대한 통찰력을 제공합니다. 이 분석은 시장 점유율, 경쟁 우위 및 업계 플레이어 간의 차별화 가능성을 이해하는 데 도움이 됩니다.
시장 검증: 본 보고서에는 설문 조사, 인터뷰 및 포커스 그룹과 같은 주요 조사를 통해 결과 및 예측을 검증하는 작업이 포함됩니다.
[시장 세분화]
크로뮴 스퍼터링 타겟 시장은 종류 및 용도별로 나뉩니다. 2019-2030년 기간 동안 세그먼트 간의 시장규모에 대한 정확한 계산 및 예측을 볼륨 및 금액 측면에서 제공합니다.
종류별 시장 세그먼트
– 순도 99%, 순도 99.5%, 순도 99.9%, 순도 99.95%, 순도 99.99%, 순도 99.999%
용도별 시장 세그먼트
– 박막 증착, 식각 및 분석 기술, 마그네트론 스퍼터링 소스, 기타
주요 대상 기업
– American Elements, MSE Supplies, Kurt J. Lesker, NANOSHEL, Goodfellow, Alfa Aesar, Stanford Advanced Materials, Special Metals Fabrication, ALB Materials Inc, Plasmaterials, Inc, International Advanced Materials, Advanced Engineering Materials, EVOCHEM Advanced Materials, Otto Chemie Pvt Ltd, Changsha Xinkang Advanced Materials Corporation
지역 분석은 다음을 포함합니다.
– 북미 (미국, 캐나다, 멕시코)
– 유럽 (독일, 프랑스, 영국, 러시아, 이탈리아)
– 아시아 태평양 (중국, 일본, 한국, 인도, 동남아시아, 호주)
– 남미 (브라질, 아르헨티나, 콜롬비아)
– 중동 및 아프리카 (사우디아라비아, 아랍에미리트, 이집트, 남아프리카공화국)
본 조사 보고서는 아래 항목으로 구성되어 있습니다.
– 크로뮴 스퍼터링 타겟 제품 범위, 시장 개요, 시장 추정, 주의 사항 및 기준 연도를 설명합니다.
– 2019년부터 2024년까지 크로뮴 스퍼터링 타겟의 가격, 판매량, 매출 및 세계 시장 점유율과 함께 크로뮴 스퍼터링 타겟의 주요 제조업체를 프로파일링합니다.
– 크로뮴 스퍼터링 타겟 경쟁 상황, 판매량, 매출 및 주요 제조업체의 글로벌 시장 점유율이 상세하게 분석 됩니다.
– 크로뮴 스퍼터링 타겟 상세 데이터는 2019년부터 2030년까지 지역별 판매량, 소비금액 및 성장성을 보여주기 위해 지역 레벨로 표시됩니다.
– 2019년부터 2030년까지 판매량 시장 점유율 및 성장률을 종류별, 용도별로 분류합니다.
– 2017년부터 2023년까지 세계 주요 국가의 판매량, 소비금액 및 시장 점유율과 함께 국가 레벨로 판매 데이터를 분류하고, 2025년부터 2030년까지 판매량 및 매출과 함께 지역, 종류 및 용도별로 크로뮴 스퍼터링 타겟 시장 예측을 수행합니다.
– 시장 역학, 성장요인, 저해요인, 동향 및 포터의 다섯 가지 힘 분석.
– 주요 원자재 및 주요 공급 업체, 크로뮴 스퍼터링 타겟의 산업 체인.
– 크로뮴 스퍼터링 타겟 판매 채널, 유통 업체, 고객(수요기업), 조사 결과 및 결론을 설명합니다.
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■ 보고서 목차■ 시장 개요 ■ 제조업체 프로필 American Elements MSE Supplies Kurt J. Lesker ■ 제조업체간 경쟁 환경 ■ 지역별 소비 분석 ■ 종류별 시장 세분화 ■ 용도별 시장 세분화 ■ 북미 ■ 유럽 ■ 아시아 태평양 ■ 남미 ■ 중동 및 아프리카 ■ 시장 역학 ■ 원자재 및 산업 체인 ■ 유통 채널별 출하량 ■ 조사 결과 [그림 목록]- 크로뮴 스퍼터링 타겟 이미지 - 종류별 세계의 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 (2019 & 2023 & 2030) - 2023년 종류별 세계의 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 시장 점유율 - 용도별 세계의 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 (2019 & 2023 & 2030) - 2023년 용도별 세계의 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 시장 점유율 - 세계의 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 (2019 & 2023 & 2030) - 세계의 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 예측 (2019-2030) - 세계의 크로뮴 스퍼터링 타겟 판매량 (2019-2030) - 세계의 크로뮴 스퍼터링 타겟 평균 가격 (2019-2030) - 2023년 제조업체별 세계의 크로뮴 스퍼터링 타겟 판매량 시장 점유율 - 2023년 제조업체별 세계의 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 시장 점유율 - 2023년 상위 3개 크로뮴 스퍼터링 타겟 제조업체(소비 금액) 시장 점유율 - 2023년 상위 6개 크로뮴 스퍼터링 타겟 제조업체(소비 금액) 시장 점유율 - 지역별 크로뮴 스퍼터링 타겟 판매량 시장 점유율 - 지역별 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 시장 점유율 - 북미 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 - 유럽 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 - 아시아 태평양 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 - 남미 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 - 중동 및 아프리카 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 - 세계의 종류별 크로뮴 스퍼터링 타겟 판매량 시장 점유율 - 세계의 종류별 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 시장 점유율 - 세계의 종류별 크로뮴 스퍼터링 타겟 평균 가격 - 세계의 용도별 크로뮴 스퍼터링 타겟 판매량 시장 점유율 - 세계의 용도별 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 시장 점유율 - 세계의 용도별 크로뮴 스퍼터링 타겟 평균 가격 - 북미 크로뮴 스퍼터링 타겟 종류별 판매량 시장 점유율 - 북미 크로뮴 스퍼터링 타겟 용도별 판매 수량 시장 점유율 - 북미 크로뮴 스퍼터링 타겟 국가별 판매 수량 시장 점유율 - 북미 크로뮴 스퍼터링 타겟 국가별 소비 금액 시장 점유율 - 미국 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 캐나다 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 멕시코 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 유럽 크로뮴 스퍼터링 타겟 종류별 판매량 시장 점유율 - 유럽 크로뮴 스퍼터링 타겟 용도별 판매량 시장 점유율 - 유럽 크로뮴 스퍼터링 타겟 국가별 판매량 시장 점유율 - 유럽 크로뮴 스퍼터링 타겟 국가별 소비 금액 시장 점유율 - 독일 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 프랑스 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 영국 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 러시아 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 이탈리아 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 아시아 태평양 크로뮴 스퍼터링 타겟 종류별 판매량 시장 점유율 - 아시아 태평양 크로뮴 스퍼터링 타겟 용도별 판매량 시장 점유율 - 아시아 태평양 크로뮴 스퍼터링 타겟 지역별 판매 수량 시장 점유율 - 아시아 태평양 크로뮴 스퍼터링 타겟 지역별 소비 금액 시장 점유율 - 중국 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 일본 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 한국 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 인도 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 동남아시아 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 호주 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 남미 크로뮴 스퍼터링 타겟 종류별 판매량 시장 점유율 - 남미 크로뮴 스퍼터링 타겟 용도별 판매량 시장 점유율 - 남미 크로뮴 스퍼터링 타겟 국가별 판매 수량 시장 점유율 - 남미 크로뮴 스퍼터링 타겟 국가별 소비 금액 시장 점유율 - 브라질 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 아르헨티나 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 중동 및 아프리카 크로뮴 스퍼터링 타겟 종류별 판매량 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 크로뮴 스퍼터링 타겟 용도별 판매량 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 크로뮴 스퍼터링 타겟 지역별 판매량 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 크로뮴 스퍼터링 타겟 지역별 소비 금액 시장 점유율 - 터키 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 이집트 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 사우디 아라비아 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 남아프리카 공화국 크로뮴 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 크로뮴 스퍼터링 타겟 시장 성장 요인 - 크로뮴 스퍼터링 타겟 시장 제약 요인 - 크로뮴 스퍼터링 타겟 시장 동향 - 포터의 다섯 가지 힘 분석 - 2023년 크로뮴 스퍼터링 타겟의 제조 비용 구조 분석 - 크로뮴 스퍼터링 타겟의 제조 공정 분석 - 크로뮴 스퍼터링 타겟 산업 체인 - 직접 채널 장단점 - 간접 채널 장단점 - 방법론 - 조사 프로세스 및 데이터 소스 ※납품 보고서의 구성항목 및 내용은 본 페이지에 기재된 내용과 다를 수 있습니다. 보고서 주문 전에 당사에 보고서 샘플을 요청해서 구성항목 및 기재 내용을 반드시 확인하시길 바랍니다. 보고서 샘플에 없는 내용은 납품 드리는 보고서에도 포함되지 않습니다. |
| ※참고 정보 크로뮴 스퍼터링 타겟은 박막 증착 공정 중 하나인 스퍼터링(sputtering)에 사용되는 재료로, 크로뮴(Chromium, Cr) 원자를 기판 위에 증착시켜 얇은 막을 형성하는 데 목적을 둔 금속 타겟입니다. 스퍼터링은 고진공 환경에서 플라즈마를 생성하고, 이 플라즈마 내의 이온(일반적으로 아르곤 이온)을 가속하여 타겟 표면에 충돌시킵니다. 이 충돌 에너지에 의해 타겟 재료의 원자들이 튕겨져 나와 기판 위에 증착되면서 박막이 형성되는 원리입니다. 크로뮴은 독특한 물리적, 화학적 특성으로 인해 다양한 산업 분야에서 중요한 박막 재료로 활용되고 있으며, 그 중심에는 크로뮴 스퍼터링 타겟이 있습니다. 크로뮴 스퍼터링 타겟의 가장 큰 특징은 순수한 크로뮴 금속으로 제작된다는 점입니다. 크로뮴은 은백색을 띠는 금속으로, 매우 단단하고 높은 녹는점을 가지고 있습니다. 이러한 물리적 강성은 스퍼터링 공정 중 타겟이 마모되는 것을 최소화하여 일정한 증착 속도와 품질을 유지하는 데 도움을 줍니다. 또한, 크로뮴은 우수한 내식성, 즉 부식에 대한 저항성이 매우 뛰어납니다. 공기 중의 산소와 반응하여 표면에 얇고 안정한 산화물 막을 형성하는데, 이 산화물 막이 내부의 크로뮴 금속을 보호하여 녹슬거나 변질되는 것을 효과적으로 방지합니다. 이러한 내식성은 다양한 환경에서 크로뮴 박막의 안정성을 보장하는 중요한 요소입니다. 크로뮴은 또한 높은 경도를 자랑합니다. 이는 단순히 단단한 것을 넘어 마찰에 대한 저항성이 높다는 것을 의미합니다. 따라서 크로뮴 박막은 표면의 경도를 높여 내마모성을 향상시키는 데 사용될 수 있습니다. 예를 들어, 다양한 도구나 부품의 표면 경도를 높여 수명을 연장하는 데 크로뮴 코팅이 활용됩니다. 또한, 크로뮴은 비교적 낮은 전기 저항값을 가지지만, 다른 금속에 비해서는 다소 높은 편에 속합니다. 이는 특정 전기적 특성이 요구되는 응용 분야에서는 장점이 될 수도, 혹은 단점이 될 수도 있습니다. 하지만 크로뮴 박막은 종종 다른 전도성 박막의 접착층으로 사용되는데, 이는 크로뮴이 다양한 기판 재료와의 우수한 접착력을 제공하기 때문입니다. 즉, 크로뮴을 먼저 증착시키고 그 위에 다른 금속(예: 알루미늄, 구리 등)을 증착하면 전체 박막 시스템의 안정성과 신뢰성이 향상됩니다. 크로뮴 스퍼터링 타겟은 제조 방법에 따라 다양한 형태로 제공될 수 있습니다. 일반적인 형태로는 플랫 타겟(flat target)과 로터리 타겟(rotary target)이 있습니다. 플랫 타겟은 평평한 판 형태로, 주로 낮은 증착 속도나 특정 패턴 증착에 사용될 수 있습니다. 반면, 로터리 타겟은 원통형으로 회전하면서 스퍼터링되는 방식으로, 넓은 면적을 균일하게 증착하는 데 효율적입니다. 또한, 타겟의 순도 역시 매우 중요한데, 99.9% 이상의 고순도 크로뮴 타겟이 일반적이며, 특정 응용 분야에서는 불순물 함량을 더욱 엄격하게 관리한 특수 등급의 타겟이 사용되기도 합니다. 타겟의 표면 상태도 증착 품질에 영향을 미치는데, 표면이 매끄럽고 결함이 없는 타겟이 선호됩니다. 크로뮴 스퍼터링 타겟의 주요 용도는 매우 광범위합니다. 가장 대표적인 분야는 반도체 산업입니다. 반도체 집적회로(IC) 제작 공정에서 게이트 전극이나 콘택트 배선 등으로 크로뮴 박막이 사용됩니다. 크로뮴은 우수한 전도성과 함께 실리콘 및 금속 배선과의 뛰어난 접착력을 제공하여 신뢰성 있는 전기적 연결을 가능하게 합니다. 특히, 크로뮴은 반도체 공정에서 사용되는 포토리소그래피 공정에서 마스크(mask) 재료로도 중요한 역할을 합니다. 크로뮴 박막을 기판에 증착시킨 후 레이저나 전자빔으로 원하는 패턴을 식각하여 회로 패턴을 정의하는 마스크를 만드는데, 크로뮴의 단단함과 식각 용이성이 이를 가능하게 합니다. 또한, 디스플레이 산업에서도 크로뮴은 중요한 역할을 합니다. 액정 디스플레이(LCD)나 유기 발광 다이오드(OLED)와 같은 디스플레이 패널의 전극이나 배선층에 크로뮴 박막이 사용됩니다. 투명 전극으로 사용되는 산화 인듐 주석(ITO) 박막과 전도성 박막 사이에 접착층으로 크로뮴을 사용하여 전반적인 박막 시스템의 안정성을 높이는 경우가 많습니다. 이러한 접착력 증진 효과는 디스플레이 패널의 수명과 성능에 직접적인 영향을 미칩니다. 더불어, 자동차 산업에서도 크로뮴 스퍼터링 타겟의 활용이 늘어나고 있습니다. 차량 내부 및 외부의 장식 부품, 특히 광택이 나는 금속 부품의 표면 처리에 크로뮴 코팅이 사용됩니다. 이는 단순히 미적인 효과뿐만 아니라, 내마모성 및 내식성을 향상시켜 부품의 수명을 연장하는 데 기여합니다. 또한, 센서나 광학 부품과 같은 정밀 부품의 코팅에도 크로뮴 박막이 사용되어 성능을 최적화하는 데 도움을 줍니다. 의료 기기 분야에서도 크로뮴 코팅은 생체 적합성과 내식성이 요구되는 의료용 임플란트나 수술 도구에 적용되어 위생과 내구성을 높입니다. 크로뮴 스퍼터링 타겟과 관련된 주요 기술로는 스퍼터링 장비 기술, 공정 최적화 기술, 그리고 타겟 재료 자체의 제조 및 품질 관리 기술 등이 있습니다. 스퍼터링 장비 기술은 플라즈마 생성 방식, 이온소스 설계, 진공 시스템 등을 포함하며, 고품질의 균일한 박막을 효율적으로 증착할 수 있도록 발전하고 있습니다. 특히, 마그네트론 스퍼터링(magnetron sputtering)은 자기장을 이용하여 플라즈마를 안정화하고 증착 속도를 높이는 효과적인 방식으로 널리 사용됩니다. 공정 최적화 기술은 스퍼터링 파워, 가스 압력, 기판 온도, 증착 시간 등 다양한 변수를 조절하여 원하는 박막의 두께, 조성, 결정 구조, 표면 거칠기 등을 정밀하게 제어하는 기술입니다. 이러한 최적화 과정을 통해 박막의 전기적, 광학적, 기계적 특성을 극대화할 수 있습니다. 타겟 재료의 제조 및 품질 관리 기술은 고순도의 크로뮴을 균일한 미세 구조로 제조하고, 표면 결함을 최소화하며, 불순물 함량을 엄격하게 관리하는 것을 포함합니다. 이는 최종적으로 증착되는 박막의 성능과 신뢰성을 결정하는 핵심적인 요소입니다. 최근에는 크로뮴 단독으로 사용되는 경우 외에도 다른 원소와 합금화된 크로뮴 타겟이나 다층 구조의 타겟도 연구되고 있습니다. 예를 들어, 크로뮴과 질소를 함께 증착하여 크로뮴 나이트라이드(CrN) 박막을 형성하는 경우도 있는데, 이는 크로뮴 자체보다 더 높은 경도와 내마모성을 제공합니다. 이러한 합금 또는 복합 타겟의 개발은 특정 응용 분야에서 요구되는 더욱 향상된 성능을 달성하기 위한 노력의 일환입니다. 또한, 스퍼터링 기술의 발전은 나노 스케일에서 정밀한 박막 제어를 가능하게 하여, 기존에는 어려웠던 새로운 기능성 박막의 구현을 촉진하고 있습니다. 크로뮴 스퍼터링 타겟은 이러한 최신 기술 발전과 함께 반도체, 디스플레이, 자동차, 항공 우주 등 첨단 산업의 발전에 지속적으로 기여할 것으로 기대됩니다. |
| ※본 조사보고서 [세계의 크로뮴 스퍼터링 타겟 시장 2024 : 기업, 종류, 용도, 시장예측] (코드 : GIR2407E10390) 판매에 관한 면책사항을 반드시 확인하세요. |
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