| ■ 영문 제목 : Iridium Sputtering Target Market, Global Outlook and Forecast 2024-2030 | |
 | ■ 상품코드 : MONT2407F28397 ■ 조사/발행회사 : Market Monitor Global ■ 발행일 : 2024년 4월 ■ 페이지수 : 약100 ■ 작성언어 : 영어 ■ 보고서 형태 : PDF ■ 납품 방식 : E메일 (주문후 2-3일 소요) ■ 조사대상 지역 : 글로벌 ■ 산업 분야 : 부품/재료 |
| Single User (1명 열람용) | USD3,250 ⇒환산￦4,387,500 | 견적의뢰/주문/질문 |
| Multi User (20명 열람용) | USD4,225 ⇒환산￦5,703,750 | 견적의뢰/주문/질문 |
| Enterprise User (동일기업내 공유가능) | USD4,875 ⇒환산￦6,581,250 | 견적의뢰/구입/질문 |
|
※가격옵션 설명 - 납기는 즉일~2일소요됩니다. 3일이상 소요되는 경우는 별도표기 또는 연락드립니다. - 지불방법은 계좌이체/무통장입금 또는 카드결제입니다. |
본 조사 보고서는 현재 동향, 시장 역학 및 미래 전망에 초점을 맞춰, 이리듐 스퍼터링 타겟 시장에 대한 포괄적인 분석을 제공합니다. 본 보고서는 북미, 유럽, 아시아 태평양 및 신흥 시장과 같은 주요 지역을 포함한 전 세계 이리듐 스퍼터링 타겟 시장을 대상으로 합니다. 또한 이리듐 스퍼터링 타겟의 성장을 주도하는 주요 요인, 업계가 직면한 과제 및 시장 참여자를 위한 잠재적 기회도 기재합니다.
글로벌 이리듐 스퍼터링 타겟 시장은 최근 몇 년 동안 환경 문제, 정부 인센티브 및 기술 발전의 증가로 인해 급속한 성장을 목격했습니다. 이리듐 스퍼터링 타겟 시장은 반도체, 화학증착, 물리증착, 기타를 포함한 다양한 이해 관계자에게 기회를 제공합니다. 민간 부문과 정부 간의 협력은 이리듐 스퍼터링 타겟 시장에 대한 지원 정책, 연구 개발 노력 및 투자를 가속화 할 수 있습니다. 또한 증가하는 소비자 수요는 시장 확장의 길을 제시합니다.
글로벌 이리듐 스퍼터링 타겟 시장은 2023년에 미화 XXX백만 달러로 조사되었으며 2030년까지 미화 XXX백만 달러에 도달할 것으로 예상되며, 예측 기간 동안 XXX%의 CAGR로 성장할 것으로 예상됩니다.
[주요 특징]
이리듐 스퍼터링 타겟 시장에 대한 조사 보고서에는 포괄적인 통찰력을 제공하고 이해 관계자의 의사 결정을 용이하게하는 몇 가지 주요 항목이 포함되어 있습니다.
요약 : 본 보고서는 이리듐 스퍼터링 타겟 시장의 주요 결과, 시장 동향 및 주요 통찰력에 대한 개요를 제공합니다.
시장 개요: 본 보고서는 이리듐 스퍼터링 타겟 시장의 정의, 역사적 추이, 현재 시장 규모를 포함한 포괄적인 개요를 제공합니다. 종류(예: 순도 99%, 순도 99.5%, 순도 99.9%, 순도 99.95%, 순도 99.99%, 순도 99.999%), 지역 및 용도별로 시장을 세분화하여 각 세그먼트 내의 주요 동인, 과제 및 기회를 중점적으로 다룹니다.
시장 역학: 본 보고서는 이리듐 스퍼터링 타겟 시장의 성장과 발전을 주도하는 시장 역학을 분석합니다. 본 보고서에는 정부 정책 및 규정, 기술 발전, 소비자 동향 및 선호도, 인프라 개발, 업계 협력에 대한 평가가 포함되어 있습니다. 이 분석은 이해 관계자가 이리듐 스퍼터링 타겟 시장의 궤적에 영향을 미치는 요인을 이해하는데 도움이됩니다.
경쟁 환경: 본 보고서는 이리듐 스퍼터링 타겟 시장내 경쟁 환경에 대한 심층 분석을 제공합니다. 여기에는 주요 시장 플레이어의 프로필, 시장 점유율, 전략, 제품 포트폴리오 및 최근 동향이 포함됩니다.
시장 세분화 및 예측: 본 보고서는 종류, 지역 및 용도와 같은 다양한 매개 변수를 기반으로 이리듐 스퍼터링 타겟 시장을 세분화합니다. 정량적 데이터 및 분석을 통해 각 세그먼트의 시장 규모와 성장 예측을 제공합니다. 이를 통해 이해 관계자가 성장 기회를 파악하고 정보에 입각한 투자 결정을 내릴 수 있습니다.
기술 동향: 본 보고서는 주요기술의 발전과 새로운 대체품 등 이리듐 스퍼터링 타겟 시장을 형성하는 주요 기술 동향을 강조합니다. 이러한 트렌드가 시장 성장, 채택률, 소비자 선호도에 미치는 영향을 분석합니다.
시장 과제와 기회: 본 보고서는 기술적 병목 현상, 비용 제한, 높은 진입 장벽 등 이리듐 스퍼터링 타겟 시장이 직면한 주요 과제를 파악하고 분석합니다. 또한 정부 인센티브, 신흥 시장, 이해관계자 간의 협업 등 시장 성장의 기회에 대해서도 강조합니다.
규제 및 정책 분석: 본 보고서는 정부 인센티브, 배출 기준, 인프라 개발 계획 등 이리듐 스퍼터링 타겟에 대한 규제 및 정책 환경을 평가합니다. 이러한 정책이 시장 성장에 미치는 영향을 분석하고 향후 규제 동향에 대한 인사이트를 제공합니다.
권장 사항 및 결론: 본 보고서는 소비자, 정책 입안자, 투자자, 인프라 제공업체 등 이해관계자를 위한 실행 가능한 권고 사항으로 마무리합니다. 이러한 권장 사항은 조사 결과를 바탕으로 이리듐 스퍼터링 타겟 시장의 주요 과제와 기회를 해결할 수 있습니다.
참고 데이터 및 부록: 보고서에는 분석 및 조사 결과를 입증하기 위한 보조 데이터, 차트, 그래프가 포함되어 있습니다. 또한 데이터 소스, 설문조사, 상세한 시장 예측과 같은 추가 세부 정보가 담긴 부록도 포함되어 있습니다.
[시장 세분화]
이리듐 스퍼터링 타겟 시장은 종류별 및 용도별로 세분화됩니다. 2019-2030년 기간 동안 세그먼트 간의 성장은 종류별 및 용도별로 시장규모에 대한 정확한 계산 및 예측을 볼륨 및 금액 측면에서 제공합니다.
■ 종류별 시장 세그먼트
– 순도 99%, 순도 99.5%, 순도 99.9%, 순도 99.95%, 순도 99.99%, 순도 99.999%
■ 용도별 시장 세그먼트
– 반도체, 화학증착, 물리증착, 기타
■ 지역별 및 국가별 글로벌 이리듐 스퍼터링 타겟 시장 점유율, 2023년(%)
– 북미 (미국, 캐나다, 멕시코)
– 유럽 (독일, 프랑스, 영국, 이탈리아, 러시아)
– 아시아 (중국, 일본, 한국, 동남아시아, 인도)
– 남미 (브라질, 아르헨티나)
– 중동 및 아프리카 (터키, 이스라엘, 사우디 아라비아, UAE)
■ 주요 업체
– American Elements, Goodfellow, Stanford Advanced Materials, EVOCHEM Advanced Materials, ALB Materials Inc, Able Target, Edge Scientific, Otto Chemie Pvt Ltd, Glentham Life Sciences, Stanford Materials Corporation, Heeger Materials, China Rare Metal Material
[주요 챕터의 개요]
1 장 : 이리듐 스퍼터링 타겟의 정의, 시장 개요를 소개
2 장 : 매출 및 판매량을 기준으로한 글로벌 이리듐 스퍼터링 타겟 시장 규모
3 장 : 이리듐 스퍼터링 타겟 제조업체 경쟁 환경, 가격, 판매량 및 매출 시장 점유율, 최신 동향, M&A 정보 등에 대한 자세한 분석
4 장 : 종류별 시장 분석을 제공 (각 세그먼트의 시장 규모와 성장 잠재력을 다룸)
5 장 : 용도별 시장 분석을 제공 (각 세그먼트의 시장 규모와 성장 잠재력을 다룸)
6 장 : 지역 및 국가별 이리듐 스퍼터링 타겟 판매량. 각 지역 및 주요 국가의 시장 규모와 성장 잠재력에 대한 정량적 분석을 제공. 세계 각국의 시장 개발, 향후 개발 전망, 시장 기회을 소개
7 장 : 주요 업체의 프로필을 제공. 제품 판매, 매출, 가격, 총 마진, 제품 소개, 최근 동향 등 시장 내 주요 업체의 기본 상황을 자세히 소개
8 장 : 지역별 및 국가별 글로벌 이리듐 스퍼터링 타겟 시장규모
9 장 : 시장 역학, 시장의 최신 동향, 시장의 추진 요인 및 제한 요인, 업계내 업체가 직면한 과제 및 리스크, 업계의 관련 정책 분석을 소개
10 장 : 산업의 업 스트림 및 다운 스트림을 포함한 산업 체인 분석
11 장 : 보고서의 주요 요점 및 결론
※납품 보고서의 구성항목 및 내용은 본 페이지에 기재된 내용과 다를 수 있습니다. 보고서 주문 전에 당사에 보고서 샘플을 요청해서 구성항목 및 기재 내용을 반드시 확인하시길 바랍니다. 보고서 샘플에 없는 내용은 납품 드리는 보고서에도 포함되지 않습니다.
■ 보고서 목차1. 조사 및 분석 보고서 소개 2. 글로벌 이리듐 스퍼터링 타겟 전체 시장 규모 3. 기업 환경 4. 종류별 시장 분석 5. 용도별 시장 분석 6. 지역별 시장 분석 7. 제조업체 및 브랜드 프로필 American Elements, Goodfellow, Stanford Advanced Materials, EVOCHEM Advanced Materials, ALB Materials Inc, Able Target, Edge Scientific, Otto Chemie Pvt Ltd, Glentham Life Sciences, Stanford Materials Corporation, Heeger Materials, China Rare Metal Material American Elements Goodfellow Stanford Advanced Materials 8. 글로벌 이리듐 스퍼터링 타겟 생산 능력 분석 9. 주요 시장 동향, 기회, 동인 및 제약 요인 10. 이리듐 스퍼터링 타겟 공급망 분석 11. 결론 [그림 목록]- 종류별 이리듐 스퍼터링 타겟 세그먼트, 2023년 - 용도별 이리듐 스퍼터링 타겟 세그먼트, 2023년 - 글로벌 이리듐 스퍼터링 타겟 시장 개요, 2023년 - 글로벌 이리듐 스퍼터링 타겟 시장 규모: 2023년 VS 2030년 - 글로벌 이리듐 스퍼터링 타겟 매출, 2019-2030 - 글로벌 이리듐 스퍼터링 타겟 판매량: 2019-2030 - 이리듐 스퍼터링 타겟 매출 기준 상위 3개 및 5개 업체 시장 점유율, 2023년 - 글로벌 종류별 이리듐 스퍼터링 타겟 매출, 2023년 VS 2030년 - 글로벌 종류별 이리듐 스퍼터링 타겟 매출 시장 점유율 - 글로벌 종류별 이리듐 스퍼터링 타겟 판매량 시장 점유율 - 글로벌 종류별 이리듐 스퍼터링 타겟 가격 - 글로벌 용도별 이리듐 스퍼터링 타겟 매출, 2023년 VS 2030년 - 글로벌 용도별 이리듐 스퍼터링 타겟 매출 시장 점유율 - 글로벌 용도별 이리듐 스퍼터링 타겟 판매량 시장 점유율 - 글로벌 용도별 이리듐 스퍼터링 타겟 가격 - 지역별 이리듐 스퍼터링 타겟 매출, 2023년 VS 2030년 - 지역별 이리듐 스퍼터링 타겟 매출 시장 점유율 - 지역별 이리듐 스퍼터링 타겟 매출 시장 점유율 - 지역별 이리듐 스퍼터링 타겟 판매량 시장 점유율 - 북미 국가별 이리듐 스퍼터링 타겟 매출 시장 점유율 - 북미 국가별 이리듐 스퍼터링 타겟 판매량 시장 점유율 - 미국 이리듐 스퍼터링 타겟 시장규모 - 캐나다 이리듐 스퍼터링 타겟 시장규모 - 멕시코 이리듐 스퍼터링 타겟 시장규모 - 유럽 국가별 이리듐 스퍼터링 타겟 매출 시장 점유율 - 유럽 국가별 이리듐 스퍼터링 타겟 판매량 시장 점유율 - 독일 이리듐 스퍼터링 타겟 시장규모 - 프랑스 이리듐 스퍼터링 타겟 시장규모 - 영국 이리듐 스퍼터링 타겟 시장규모 - 이탈리아 이리듐 스퍼터링 타겟 시장규모 - 러시아 이리듐 스퍼터링 타겟 시장규모 - 아시아 지역별 이리듐 스퍼터링 타겟 매출 시장 점유율 - 아시아 지역별 이리듐 스퍼터링 타겟 판매량 시장 점유율 - 중국 이리듐 스퍼터링 타겟 시장규모 - 일본 이리듐 스퍼터링 타겟 시장규모 - 한국 이리듐 스퍼터링 타겟 시장규모 - 동남아시아 이리듐 스퍼터링 타겟 시장규모 - 인도 이리듐 스퍼터링 타겟 시장규모 - 남미 국가별 이리듐 스퍼터링 타겟 매출 시장 점유율 - 남미 국가별 이리듐 스퍼터링 타겟 판매량 시장 점유율 - 브라질 이리듐 스퍼터링 타겟 시장규모 - 아르헨티나 이리듐 스퍼터링 타겟 시장규모 - 중동 및 아프리카 국가별 이리듐 스퍼터링 타겟 매출 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 국가별 이리듐 스퍼터링 타겟 판매량 시장 점유율 - 터키 이리듐 스퍼터링 타겟 시장규모 - 이스라엘 이리듐 스퍼터링 타겟 시장규모 - 사우디 아라비아 이리듐 스퍼터링 타겟 시장규모 - 아랍에미리트 이리듐 스퍼터링 타겟 시장규모 - 글로벌 이리듐 스퍼터링 타겟 생산 능력 - 지역별 이리듐 스퍼터링 타겟 생산량 비중, 2023년 VS 2030년 - 이리듐 스퍼터링 타겟 산업 가치 사슬 - 마케팅 채널 ※납품 보고서의 구성항목 및 내용은 본 페이지에 기재된 내용과 다를 수 있습니다. 보고서 주문 전에 당사에 보고서 샘플을 요청해서 구성항목 및 기재 내용을 반드시 확인하시길 바랍니다. 보고서 샘플에 없는 내용은 납품 드리는 보고서에도 포함되지 않습니다. |
| ※참고 정보 이리듐 스퍼터링 타겟은 얇은 이리듐 박막을 형성하기 위해 물리 증착(Physical Vapor Deposition, PVD) 기법 중 하나인 스퍼터링(Sputtering) 공정에 사용되는 재료입니다. 스퍼터링은 진공 챔버 내에서 플라즈마를 생성하고, 이 플라즈마에 포함된 이온들이 타겟 물질에 충돌하여 타겟의 원자나 분자를 떼어내어 기판 위에 증착시키는 방식입니다. 이리듐 스퍼터링 타겟은 이러한 스퍼터링 공정을 통해 높은 순도와 균일도를 가진 이리듐 박막을 형성하는 데 필수적인 역할을 합니다. 이리듐은 백금족 금속에 속하는 귀금속으로, 매우 높은 녹는점(2446°C), 끓는점(4428°C)과 탁월한 화학적 안정성, 내식성, 내열성, 그리고 우수한 전기적 및 광학적 특성을 가지고 있습니다. 또한, 경도가 높아 표면의 마모 저항성이 뛰어납니다. 이러한 고유한 특성 덕분에 이리듐은 극한 환경에서도 안정적인 성능을 발휘해야 하는 다양한 첨단 산업 분야에서 중요한 소재로 활용됩니다. 이리듐 스퍼터링 타겟은 이러한 이리듐의 장점을 활용하여 박막 형태로 정밀하게 적용할 수 있게 해주는 핵심 부품이라 할 수 있습니다. 이리듐 스퍼터링 타겟의 주요 특징은 다음과 같습니다. 첫째, **높은 순도**가 매우 중요합니다. 타겟의 순도가 낮으면 증착되는 박막에도 불순물이 포함되어 전기적, 광학적 특성을 저하시킬 수 있습니다. 따라서 반도체, 디스플레이 등 높은 성능을 요구하는 분야에서는 99.95% 이상의 고순도 이리듐 타겟이 요구됩니다. 둘째, **균일한 밀도와 미세 구조**를 가져야 합니다. 이는 스퍼터링 공정 중 균일한 증착률을 보장하고, 생성되는 박막의 품질을 일정하게 유지하는 데 기여합니다. 셋째, **기계적 강도와 내구성**이 요구됩니다. 스퍼터링 과정에서 발생하는 충격과 열에 견딜 수 있어야 하며, 오랜 시간 동안 안정적인 성능을 유지해야 합니다. 마지막으로, **적절한 형상 및 크기**는 스퍼터링 장비와의 호환성과 공정 효율성을 결정하는 중요한 요소입니다. 일반적으로 원반 형태의 디스크(Disk) 형태가 많이 사용되지만, 장비나 공정 조건에 따라 다양한 형태로 제작될 수 있습니다. 이리듐 스퍼터링 타겟은 그 용도에 따라 크게 몇 가지 종류로 구분될 수 있습니다. 가장 일반적인 형태는 **고순도 이리듐 타겟**으로, 앞서 언급한 대로 99.95% 이상의 순도를 가지며 주로 반도체 전극, 상부 금속 배선, 또는 메모리 소자의 전도성 박막 형성에 사용됩니다. 두 번째로는 **이리듐 합금 타겟**이 있습니다. 이리듐 자체의 특성을 유지하면서 특정 성능을 향상시키기 위해 소량의 다른 원소(예: 루테늄, 로듐, 백금 등)를 첨가한 형태입니다. 이러한 합금 타겟은 특정 전기적 저항 특성을 조절하거나, 접착력을 향상시키거나, 열적 안정성을 증대시키는 등의 목적으로 사용될 수 있습니다. 또한, **복합 타겟**이라고 하여 이리듐과 다른 물질이 특정 비율로 혼합된 형태도 있을 수 있습니다. 이는 단일 이리듐 박막이 아닌 복합적인 물성을 가진 박막을 증착할 때 사용됩니다. 이리듐 스퍼터링 타겟의 주요 용도는 매우 다양하며, 현대 첨단 기술의 여러 분야에서 핵심적인 역할을 수행합니다. **반도체 산업**에서는 트랜지스터의 전극이나 소스/드레인 영역의 금속화, DRAM이나 NAND 플래시 메모리와 같은 메모리 소자의 전도성 박막, 그리고 고온 공정에 사용되는 내열성 전극 형성에 사용됩니다. 특히, 미세 공정이 요구되는 차세대 반도체 제조에 있어 이리듐의 우수한 전기적 특성과 높은 내열성은 필수적입니다. **디스플레이 산업**에서는 OLED(유기발광다이오드) 소자의 전자 주입층이나 홀 주입층, 또는 투명 전극 등으로 활용되어 소자의 효율과 수명을 향상시키는 데 기여합니다. 이리듐의 낮은 일함수(work function)는 전극으로의 효율적인 전하 주입을 가능하게 하며, 높은 투과율은 디스플레이의 밝기와 선명도를 높이는 데 도움을 줍니다. **촉매 산업**에서는 연료전지나 자동차 배기 가스 정화 장치 등에 사용되는 귀금속 촉매의 지지체 또는 활성층으로 사용될 수 있습니다. 이리듐 기반 촉매는 뛰어난 화학적 활성과 안정성을 보여줍니다. **우주항공 및 방산 산업**에서는 고온 및 부식 환경에 노출되는 부품의 표면 코팅이나, 고성능 센서 등에 사용될 수 있습니다. 이리듐의 극한 환경에서의 안정성은 이러한 분야의 요구 사항을 충족시키는 데 중요한 역할을 합니다. 또한, **의료 산업**에서는 생체 적합성이 뛰어나 임플란트 코팅이나 의료 기기의 전극 재료로도 고려될 수 있습니다. 이리듐 스퍼터링 타겟과 관련된 주요 기술로는 **타겟 제조 기술**이 있습니다. 고순도 이리듐을 얻기 위한 정련 기술, 균일하고 치밀한 타겟을 만들기 위한 분말 야금(Powder Metallurgy) 기술, 그리고 이를 가공하여 원하는 형상과 크기를 만드는 기계 가공 기술 등이 중요합니다. 또한, **스퍼터링 공정 기술** 자체도 매우 중요합니다. DC 스퍼터링, RF 스퍼터링, 마그네트론 스퍼터링(Magnetron Sputtering) 등 다양한 스퍼터링 방식이 있으며, 각 방식은 증착 속도, 플라즈마 밀도, 기판 온도 등에 영향을 미칩니다. 특히 이리듐은 높은 융점을 가지므로, 효율적인 스퍼터링을 위해 높은 파워 밀도와 적절한 플라즈마 환경을 제어하는 기술이 요구됩니다. **박막 특성 분석 기술** 또한 중요합니다. 증착된 이리듐 박막의 두께, 순도, 결정 구조, 표면 거칠기, 전기적 저항, 광학적 투과율 등을 정밀하게 측정하고 평가함으로써 공정 최적화 및 품질 관리를 수행할 수 있습니다. 예를 들어, X선 회절(XRD)을 통해 결정 구조를, 이차 이온 질량 분석법(SIMS)이나 에너지 분산형 X선 분석법(EDX) 등을 통해 순도와 조성비를 분석합니다. 이리듐 스퍼터링 타겟은 그 특유의 우수한 물성과 다양한 첨단 산업 분야에서의 필수적인 역할 때문에 앞으로도 그 중요성이 더욱 증대될 것으로 예상됩니다. 더욱 높은 순도, 더욱 정밀한 미세 구조 제어, 그리고 다양한 합금 및 복합 타겟 개발을 통해 미래 기술 발전에 기여할 것입니다. |
| ※본 조사보고서 [글로벌 이리듐 스퍼터링 타겟 시장예측 2024-2030] (코드 : MONT2407F28397) 판매에 관한 면책사항을 반드시 확인하세요. |
| ※본 조사보고서 [글로벌 이리듐 스퍼터링 타겟 시장예측 2024-2030] 에 대해서 E메일 문의는 여기를 클릭하세요. |