| ■ 영문 제목 : EUV Lithography System Machine Market, Global Outlook and Forecast 2024-2030 | |
 | ■ 상품코드 : MONT2406B6546 ■ 조사/발행회사 : Market Monitor Global ■ 발행일 : 2024년 6월 ■ 페이지수 : 약100 ■ 작성언어 : 영어 ■ 보고서 형태 : PDF ■ 납품 방식 : E메일 (주문후 2-3일 소요) ■ 조사대상 지역 : 글로벌 ■ 산업 분야 : 전자&반도체 |
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본 조사 보고서는 현재 동향, 시장 역학 및 미래 전망에 초점을 맞춰, EUV 리소그래피 시스템 장치 시장에 대한 포괄적인 분석을 제공합니다. 본 보고서는 북미, 유럽, 아시아 태평양 및 신흥 시장과 같은 주요 지역을 포함한 전 세계 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장을 대상으로 합니다. 또한 EUV 리소그래피 시스템 장치의 성장을 주도하는 주요 요인, 업계가 직면한 과제 및 시장 참여자를 위한 잠재적 기회도 기재합니다.
글로벌 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장은 최근 몇 년 동안 환경 문제, 정부 인센티브 및 기술 발전의 증가로 인해 급속한 성장을 목격했습니다. EUV 리소그래피 시스템 장치 시장은 첨단 패키징, MEMS 디바이스, LED 디바이스, 기타를 포함한 다양한 이해 관계자에게 기회를 제공합니다. 민간 부문과 정부 간의 협력은 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장에 대한 지원 정책, 연구 개발 노력 및 투자를 가속화 할 수 있습니다. 또한 증가하는 소비자 수요는 시장 확장의 길을 제시합니다.
글로벌 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장은 2023년에 미화 XXX백만 달러로 조사되었으며 2030년까지 미화 XXX백만 달러에 도달할 것으로 예상되며, 예측 기간 동안 XXX%의 CAGR로 성장할 것으로 예상됩니다.
[주요 특징]
EUV 리소그래피 시스템 장치 시장에 대한 조사 보고서에는 포괄적인 통찰력을 제공하고 이해 관계자의 의사 결정을 용이하게하는 몇 가지 주요 항목이 포함되어 있습니다.
요약 : 본 보고서는 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장의 주요 결과, 시장 동향 및 주요 통찰력에 대한 개요를 제공합니다.
시장 개요: 본 보고서는 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장의 정의, 역사적 추이, 현재 시장 규모를 포함한 포괄적인 개요를 제공합니다. 종류(예: 8인치 웨이퍼, 12인치 웨이퍼, 기타), 지역 및 용도별로 시장을 세분화하여 각 세그먼트 내의 주요 동인, 과제 및 기회를 중점적으로 다룹니다.
시장 역학: 본 보고서는 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장의 성장과 발전을 주도하는 시장 역학을 분석합니다. 본 보고서에는 정부 정책 및 규정, 기술 발전, 소비자 동향 및 선호도, 인프라 개발, 업계 협력에 대한 평가가 포함되어 있습니다. 이 분석은 이해 관계자가 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장의 궤적에 영향을 미치는 요인을 이해하는데 도움이됩니다.
경쟁 환경: 본 보고서는 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장내 경쟁 환경에 대한 심층 분석을 제공합니다. 여기에는 주요 시장 플레이어의 프로필, 시장 점유율, 전략, 제품 포트폴리오 및 최근 동향이 포함됩니다.
시장 세분화 및 예측: 본 보고서는 종류, 지역 및 용도와 같은 다양한 매개 변수를 기반으로 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장을 세분화합니다. 정량적 데이터 및 분석을 통해 각 세그먼트의 시장 규모와 성장 예측을 제공합니다. 이를 통해 이해 관계자가 성장 기회를 파악하고 정보에 입각한 투자 결정을 내릴 수 있습니다.
기술 동향: 본 보고서는 주요기술의 발전과 새로운 대체품 등 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장을 형성하는 주요 기술 동향을 강조합니다. 이러한 트렌드가 시장 성장, 채택률, 소비자 선호도에 미치는 영향을 분석합니다.
시장 과제와 기회: 본 보고서는 기술적 병목 현상, 비용 제한, 높은 진입 장벽 등 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장이 직면한 주요 과제를 파악하고 분석합니다. 또한 정부 인센티브, 신흥 시장, 이해관계자 간의 협업 등 시장 성장의 기회에 대해서도 강조합니다.
규제 및 정책 분석: 본 보고서는 정부 인센티브, 배출 기준, 인프라 개발 계획 등 EUV 리소그래피 시스템 장치에 대한 규제 및 정책 환경을 평가합니다. 이러한 정책이 시장 성장에 미치는 영향을 분석하고 향후 규제 동향에 대한 인사이트를 제공합니다.
권장 사항 및 결론: 본 보고서는 소비자, 정책 입안자, 투자자, 인프라 제공업체 등 이해관계자를 위한 실행 가능한 권고 사항으로 마무리합니다. 이러한 권장 사항은 조사 결과를 바탕으로 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장의 주요 과제와 기회를 해결할 수 있습니다.
참고 데이터 및 부록: 보고서에는 분석 및 조사 결과를 입증하기 위한 보조 데이터, 차트, 그래프가 포함되어 있습니다. 또한 데이터 소스, 설문조사, 상세한 시장 예측과 같은 추가 세부 정보가 담긴 부록도 포함되어 있습니다.
[시장 세분화]
EUV 리소그래피 시스템 장치 시장은 종류별 및 용도별로 세분화됩니다. 2019-2030년 기간 동안 세그먼트 간의 성장은 종류별 및 용도별로 시장규모에 대한 정확한 계산 및 예측을 볼륨 및 금액 측면에서 제공합니다.
■ 종류별 시장 세그먼트
– 8인치 웨이퍼, 12인치 웨이퍼, 기타
■ 용도별 시장 세그먼트
– 첨단 패키징, MEMS 디바이스, LED 디바이스, 기타
■ 지역별 및 국가별 글로벌 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장 점유율, 2023년(%)
– 북미 (미국, 캐나다, 멕시코)
– 유럽 (독일, 프랑스, 영국, 이탈리아, 러시아)
– 아시아 (중국, 일본, 한국, 동남아시아, 인도)
– 남미 (브라질, 아르헨티나)
– 중동 및 아프리카 (터키, 이스라엘, 사우디 아라비아, UAE)
■ 주요 업체
– Canon Inc., Nikon Corporation, ASML Holding NV, Veeco Instruments Inc., SUSS MicroTec SE, Shanghai Micro Electronics Equipment (Group) Co., Ltd., EV Group, JEOL, Ltd., Onto Innovation, Neutronix Quintel Inc.
[주요 챕터의 개요]
1 장 : EUV 리소그래피 시스템 장치의 정의, 시장 개요를 소개
2 장 : 매출 및 판매량을 기준으로한 글로벌 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장 규모
3 장 : EUV 리소그래피 시스템 장치 제조업체 경쟁 환경, 가격, 판매량 및 매출 시장 점유율, 최신 동향, M&A 정보 등에 대한 자세한 분석
4 장 : 종류별 시장 분석을 제공 (각 세그먼트의 시장 규모와 성장 잠재력을 다룸)
5 장 : 용도별 시장 분석을 제공 (각 세그먼트의 시장 규모와 성장 잠재력을 다룸)
6 장 : 지역 및 국가별 EUV 리소그래피 시스템 장치 판매량. 각 지역 및 주요 국가의 시장 규모와 성장 잠재력에 대한 정량적 분석을 제공. 세계 각국의 시장 개발, 향후 개발 전망, 시장 기회을 소개
7 장 : 주요 업체의 프로필을 제공. 제품 판매, 매출, 가격, 총 마진, 제품 소개, 최근 동향 등 시장 내 주요 업체의 기본 상황을 자세히 소개
8 장 : 지역별 및 국가별 글로벌 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장규모
9 장 : 시장 역학, 시장의 최신 동향, 시장의 추진 요인 및 제한 요인, 업계내 업체가 직면한 과제 및 리스크, 업계의 관련 정책 분석을 소개
10 장 : 산업의 업 스트림 및 다운 스트림을 포함한 산업 체인 분석
11 장 : 보고서의 주요 요점 및 결론
※납품 보고서의 구성항목 및 내용은 본 페이지에 기재된 내용과 다를 수 있습니다. 보고서 주문 전에 당사에 보고서 샘플을 요청해서 구성항목 및 기재 내용을 반드시 확인하시길 바랍니다. 보고서 샘플에 없는 내용은 납품 드리는 보고서에도 포함되지 않습니다.
■ 보고서 목차1. 조사 및 분석 보고서 소개 2. 글로벌 EUV 리소그래피 시스템 장치 전체 시장 규모 3. 기업 환경 4. 종류별 시장 분석 5. 용도별 시장 분석 6. 지역별 시장 분석 7. 제조업체 및 브랜드 프로필 Canon Inc., Nikon Corporation, ASML Holding NV, Veeco Instruments Inc., SUSS MicroTec SE, Shanghai Micro Electronics Equipment (Group) Co., Ltd., EV Group, JEOL, Ltd., Onto Innovation, Neutronix Quintel Inc. Canon Inc. Nikon Corporation ASML Holding NV 8. 글로벌 EUV 리소그래피 시스템 장치 생산 능력 분석 9. 주요 시장 동향, 기회, 동인 및 제약 요인 10. EUV 리소그래피 시스템 장치 공급망 분석 11. 결론 [그림 목록]- 종류별 EUV 리소그래피 시스템 장치 세그먼트, 2023년 - 용도별 EUV 리소그래피 시스템 장치 세그먼트, 2023년 - 글로벌 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장 개요, 2023년 - 글로벌 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장 규모: 2023년 VS 2030년 - 글로벌 EUV 리소그래피 시스템 장치 매출, 2019-2030 - 글로벌 EUV 리소그래피 시스템 장치 판매량: 2019-2030 - EUV 리소그래피 시스템 장치 매출 기준 상위 3개 및 5개 업체 시장 점유율, 2023년 - 글로벌 종류별 EUV 리소그래피 시스템 장치 매출, 2023년 VS 2030년 - 글로벌 종류별 EUV 리소그래피 시스템 장치 매출 시장 점유율 - 글로벌 종류별 EUV 리소그래피 시스템 장치 판매량 시장 점유율 - 글로벌 종류별 EUV 리소그래피 시스템 장치 가격 - 글로벌 용도별 EUV 리소그래피 시스템 장치 매출, 2023년 VS 2030년 - 글로벌 용도별 EUV 리소그래피 시스템 장치 매출 시장 점유율 - 글로벌 용도별 EUV 리소그래피 시스템 장치 판매량 시장 점유율 - 글로벌 용도별 EUV 리소그래피 시스템 장치 가격 - 지역별 EUV 리소그래피 시스템 장치 매출, 2023년 VS 2030년 - 지역별 EUV 리소그래피 시스템 장치 매출 시장 점유율 - 지역별 EUV 리소그래피 시스템 장치 매출 시장 점유율 - 지역별 EUV 리소그래피 시스템 장치 판매량 시장 점유율 - 북미 국가별 EUV 리소그래피 시스템 장치 매출 시장 점유율 - 북미 국가별 EUV 리소그래피 시스템 장치 판매량 시장 점유율 - 미국 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장규모 - 캐나다 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장규모 - 멕시코 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장규모 - 유럽 국가별 EUV 리소그래피 시스템 장치 매출 시장 점유율 - 유럽 국가별 EUV 리소그래피 시스템 장치 판매량 시장 점유율 - 독일 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장규모 - 프랑스 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장규모 - 영국 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장규모 - 이탈리아 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장규모 - 러시아 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장규모 - 아시아 지역별 EUV 리소그래피 시스템 장치 매출 시장 점유율 - 아시아 지역별 EUV 리소그래피 시스템 장치 판매량 시장 점유율 - 중국 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장규모 - 일본 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장규모 - 한국 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장규모 - 동남아시아 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장규모 - 인도 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장규모 - 남미 국가별 EUV 리소그래피 시스템 장치 매출 시장 점유율 - 남미 국가별 EUV 리소그래피 시스템 장치 판매량 시장 점유율 - 브라질 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장규모 - 아르헨티나 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장규모 - 중동 및 아프리카 국가별 EUV 리소그래피 시스템 장치 매출 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 국가별 EUV 리소그래피 시스템 장치 판매량 시장 점유율 - 터키 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장규모 - 이스라엘 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장규모 - 사우디 아라비아 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장규모 - 아랍에미리트 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장규모 - 글로벌 EUV 리소그래피 시스템 장치 생산 능력 - 지역별 EUV 리소그래피 시스템 장치 생산량 비중, 2023년 VS 2030년 - EUV 리소그래피 시스템 장치 산업 가치 사슬 - 마케팅 채널 ※납품 보고서의 구성항목 및 내용은 본 페이지에 기재된 내용과 다를 수 있습니다. 보고서 주문 전에 당사에 보고서 샘플을 요청해서 구성항목 및 기재 내용을 반드시 확인하시길 바랍니다. 보고서 샘플에 없는 내용은 납품 드리는 보고서에도 포함되지 않습니다. |
| ※참고 정보 극자외선(EUV) 리소그래피 시스템 장치는 반도체 제조 공정에서 집적회로(IC)의 미세 패턴을 웨이퍼에 전사하는 핵심 장비입니다. 기존의 광원으로는 구현하기 어려운 극도로 짧은 파장의 빛을 사용하여, 더 작고 복잡하며 성능이 뛰어난 반도체를 생산할 수 있게 해줍니다. EUV 리소그래피의 개념은 매우 정밀한 광학계를 이용하여 매우 짧은 파장의 빛(보통 13.5 나노미터)을 집적회로 설계에 따라 만들어진 마스크(원래 패턴)에 조사하고, 이 빛을 렌즈를 통해 축소하여 웨이퍼 표면에 코팅된 감광액에 투영하는 방식입니다. 이 과정을 통해 회로의 미세한 구조가 웨이퍼에 새겨지게 됩니다. EUV 리소그래피 시스템 장치의 가장 두드러진 특징은 그 복잡성과 정밀성입니다. 13.5 나노미터의 EUV 광은 기존의 불화아르곤(ArF) 광원보다 파장이 훨씬 짧아, 훨씬 더 미세한 패턴을 형성할 수 있습니다. 예를 들어, 7나노미터 이하의 미세 공정에서는 단일 패터닝으로는 구현이 어렵거나 여러 번의 공정이 필요한 경우가 많은데, EUV 리소그래피는 이러한 한계를 극복하고 한 번의 공정으로도 미세 패턴 구현을 가능하게 합니다. 이는 생산성을 향상시키고 수율을 높이는 데 기여합니다. 또한, EUV 광원은 공기 중 흡수가 매우 심하기 때문에 시스템 전체가 진공 상태로 유지되어야 합니다. 이는 장비의 설계와 운영에 있어서 고도의 기술력을 요구하며, 진공 시스템의 안정성이 장비의 신뢰성과 직결됩니다. 광원 또한 매우 복잡한 기술이 집약된 부분입니다. 현재 주로 사용되는 EUV 광원은 레이저 플라즈마(LPP: Laser-Produced Plasma) 방식인데, 고출력 레이저를 주석 액체 방울에 조사하여 플라즈마를 생성하고 여기서 발생하는 EUV 광을 모아 사용하는 방식입니다. 이 과정에서 발생하는 플라즈마의 안정성, EUV 광의 효율적인 수집 및 전달이 매우 중요한 기술적 과제입니다. EUV 리소그래피 시스템 장치는 그 복잡성과 특수성으로 인해 사실상 ASML이라는 단일 기업이 독점적으로 생산하고 있습니다. 따라서 종류라고 할만한 구분은 많지 않지만, ASML의 제품 라인업을 통해 기술 발전 과정을 엿볼 수 있습니다. 초기 모델부터 현재 최첨단 모델까지, 광원의 출력, 해상도, 처리량(Throughput) 등에서 지속적인 개선이 이루어지고 있습니다. 예를 들어, NXE:3400B, NXE:3400C, 그리고 최근에는 High-NA(Numerical Aperture)를 적용한 EXE:5000 시리즈 등이 개발 및 도입되고 있습니다. High-NA EUV 시스템은 기존 시스템보다 더 높은 해상도를 제공하여 더욱 미세한 패턴 구현을 가능하게 합니다. EUV 리소그래피 시스템 장치의 주요 용도는 차세대 반도체 집적회로의 생산입니다. 특히, 7나노미터, 5나노미터, 3나노미터 이하의 미세 공정에서 필수적인 기술로 자리 잡고 있습니다. 스마트폰의 고성능 AP(Application Processor), 데이터 센터의 고성능 CPU 및 GPU, 인공지능(AI) 가속기 등 고도의 집적도와 성능을 요구하는 최첨단 반도체 생산에 사용됩니다. 이러한 첨단 반도체는 기존의 불화아르곤(ArF) 리소그래피로는 구현이 매우 어렵거나 복잡하고 비용이 많이 드는 다중 패터닝(Multi-patterning) 공정을 거쳐야 했으나, EUV 리소그래피는 이러한 공정 단계를 단축시켜 생산성을 높이고 비용을 절감하는 효과를 가져옵니다. EUV 리소그래피와 관련된 기술은 매우 광범위하며, 장치 자체의 기술뿐만 아니라 전반적인 반도체 제조 생태계에도 큰 영향을 미칩니다. 주요 관련 기술로는 다음과 같은 것들이 있습니다. 첫째, EUV 광원 기술입니다. 앞서 언급한 LPP 방식은 현재 가장 상용화된 기술이며, 레이저의 출력 및 안정성, 주석 액체 방울의 정밀한 제어, 플라즈마 생성 효율을 높이는 기술 등이 중요합니다. 또한, 미래에는 더욱 높은 출력과 효율을 가진 광원 기술 개발이 지속될 것으로 예상됩니다. 둘째, EUV 광학계 기술입니다. EUV 광은 물질에 의해 쉽게 흡수되기 때문에 일반적인 렌즈를 사용할 수 없습니다. 따라서 다층막 거울(Multilayer Mirror)을 사용하여 빛을 반사시키는 방식을 사용합니다. 몰리브덴(Mo)과 실리콘(Si)의 번갈아 쌓은 박막으로 이루어진 이 거울은 매우 높은 반사율을 가져야 하며, 완벽에 가까운 평탄도와 표면 품질을 요구합니다. 또한, 이러한 거울을 정확하게 배치하고 제어하는 광학계 설계 및 제작 기술이 필수적입니다. 셋째, EUV 마스크(Mask Blank) 및 마스크 제작 기술입니다. EUV 리소그래피에 사용되는 마스크는 기존 마스크와 달리 빛을 흡수하는 대신 반사하는 반사형 마스크입니다. 따라서 고반사율의 마스크 기판과 그 위에 패턴을 형성하는 기술이 중요합니다. 마스크 기판의 평탄도, 반사율, 패턴의 선명도 등이 최종 패턴의 품질에 직접적인 영향을 미칩니다. 마스크 제작에는 전자빔 리소그래피(E-beam Lithography)와 같은 다른 미세 가공 기술이 활용되기도 합니다. 넷째, EUV 감광액(Resist) 기술입니다. EUV 광에 반응하여 웨이퍼에 패턴을 형성하는 감광액의 개발도 매우 중요합니다. EUV 광은 투과성이 낮기 때문에 감광액의 두께가 얇아야 하지만, 얇으면서도 미세한 패턴을 선명하게 구현할 수 있는 고감도, 고해상도 감광액이 요구됩니다. 또한, 패턴의 프로파일(Profile)을 정밀하게 제어하는 기술도 중요합니다. 다섯째, 측정 및 검사 기술입니다. EUV 공정으로 제작된 웨이퍼의 미세 패턴을 정확하게 측정하고 결함을 검사하는 기술 역시 필수적입니다. 기존의 광학 현미경으로는 한계가 있어, 전자빔을 이용한 검사 장비나 새로운 측정 기술 개발이 요구됩니다. 여섯째, 진공 및 환경 제어 기술입니다. EUV 광은 공기 중 산소나 수분에 의해 흡수되므로 시스템 전체를 고진공 상태로 유지하는 것이 필수적입니다. 이를 위한 고성능 진공 펌프, 진공 챔버 설계 및 유지 보수 기술이 중요합니다. 또한, 미세한 먼지나 오염 물질이 패턴 형성에 치명적인 영향을 미칠 수 있으므로, 초청정 환경을 유지하는 기술도 매우 중요합니다. 이러한 복합적인 기술들의 집약체인 EUV 리소그래피 시스템 장치는 반도체 산업의 패러다임을 바꾸고 있으며, 미래 기술 발전의 핵심 동력으로 작용하고 있습니다. 그 개발 및 생산에는 막대한 투자와 최고 수준의 기술력이 요구되기에, 해당 기술을 보유하고 있는 국가와 기업은 전 세계적으로도 극히 제한적입니다. EUV 리소그래피의 발전은 더욱 빠르고 효율적인 컴퓨팅, 혁신적인 AI 기술, 그리고 미래 신산업의 발전을 이끌어갈 중요한 기반이 될 것입니다. |
| ※본 조사보고서 [글로벌 EUV 리소그래피 시스템 장치 시장예측 2024-2030] (코드 : MONT2406B6546) 판매에 관한 면책사항을 반드시 확인하세요. |
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