| ■ 영문 제목 : Global Rhodium Sputtering Target Market 2024 by Manufacturers, Regions, Type and Application, Forecast to 2030 | |
 | ■ 상품코드 : GIR2407E44848 ■ 조사/발행회사 : Globalinforesearch ■ 발행일 : 2024년 4월 ■ 페이지수 : 약100 ■ 작성언어 : 영어 ■ 보고서 형태 : PDF ■ 납품 방식 : E메일 (주문후 2-3일 소요) ■ 조사대상 지역 : 글로벌 ■ 산업 분야 : 부품/재료 |
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조사회사 Global Info Research의 최신 조사에 따르면, 세계의 로듐 스퍼터링 타겟 시장 규모는 2023년에 XXX백만 달러로 분석되었으며, 검토 기간 동안 xx%의 CAGR로 2030년까지 XXX백만 달러의 재조정된 규모로 성장이 예측됩니다.
Global Info Research 보고서에는 로듐 스퍼터링 타겟 산업 체인 동향 개요, 반도체, 화학 증착, 물리 증착, 기타 응용분야 및 선진 및 개발 도상국의 주요 기업의 시장 현황, 로듐 스퍼터링 타겟의 최첨단 기술, 특허, 최신 용도 및 시장 동향을 분석했습니다.
지역별로는 주요 지역의 로듐 스퍼터링 타겟 시장을 분석합니다. 북미와 유럽은 정부 이니셔티브와 수요자 인식 제고에 힘입어 꾸준한 성장세를 보이고 있습니다. 아시아 태평양, 특히 중국은 탄탄한 내수 수요와 지원 정책, 강력한 제조 기반을 바탕으로 글로벌 로듐 스퍼터링 타겟 시장을 주도하고 있습니다.
[주요 특징]
본 보고서는 로듐 스퍼터링 타겟 시장에 대한 포괄적인 이해를 제공합니다. 본 보고서는 산업에 대한 전체적인 관점과 개별 구성 요소 및 이해 관계자에 대한 자세한 통찰력을 제공합니다. 본 보고서는 로듐 스퍼터링 타겟 산업 내의 시장 역학, 동향, 과제 및 기회를 분석합니다. 또한, 거시적 관점에서 시장을 분석하는 것이 포함됩니다.
시장 규모 및 세분화: 본 보고서는 판매량, 매출 및 종류별 (예 : 회전식, 비회전식)의 시장 점유율을 포함한 전체 시장 규모에 대한 데이터를 수집합니다.
산업 분석: 보고서는 정부 정책 및 규제, 기술 발전, 수요자 선호도, 시장 역학 등 광범위한 산업 동향을 분석합니다. 이 분석은 로듐 스퍼터링 타겟 시장에 영향을 미치는 주요 동인과 과제를 이해하는데 도움이 됩니다.
지역 분석: 본 보고서에는 지역 또는 국가 단위로 로듐 스퍼터링 타겟 시장을 조사하는 것이 포함됩니다. 보고서는 정부 인센티브, 인프라 개발, 경제 상황 및 수요자 행동과 같은 지역 요인을 분석하여 다양한 시장 내의 변화와 기회를 식별합니다.
시장 전망: 보고서는 수집된 데이터와 분석을 통해 로듐 스퍼터링 타겟 시장에 대한 미래 전망 및 예측을 다룹니다. 여기에는 시장 성장률 추정, 시장 수요 예측, 새로운 트렌드 파악 등이 포함될 수 있습니다. 본 보고서에는 로듐 스퍼터링 타겟에 대한 보다 세분화된 접근 방식도 포함됩니다.
기업 분석: 본 보고서는 로듐 스퍼터링 타겟 제조업체, 공급업체 및 기타 관련 업계 플레이어를 다룹니다. 이 분석에는 재무 성과, 시장 포지셔닝, 제품 포트폴리오, 파트너십 및 전략에 대한 조사가 포함됩니다.
수요자 분석: 보고서는 로듐 스퍼터링 타겟에 대한 수요자 행동, 선호도 및 태도에 대한 데이터를 다룹니다. 여기에는 설문 조사, 인터뷰 및 응용 분야별 (반도체, 화학 증착, 물리 증착, 기타)의 다양한 수요자 리뷰 및 피드백 분석이 포함될 수 있습니다.
기술 분석: 로듐 스퍼터링 타겟과 관련된 특정 기술을 다루는 보고서입니다. 로듐 스퍼터링 타겟 분야의 현재 상황 및 잠재적 미래 발전 가능성을 평가합니다.
경쟁 환경: 본 보고서는 개별 기업, 공급업체 및 수요업체를 분석하여 로듐 스퍼터링 타겟 시장의 경쟁 환경에 대한 통찰력을 제공합니다. 이 분석은 시장 점유율, 경쟁 우위 및 업계 플레이어 간의 차별화 가능성을 이해하는 데 도움이 됩니다.
시장 검증: 본 보고서에는 설문 조사, 인터뷰 및 포커스 그룹과 같은 주요 조사를 통해 결과 및 예측을 검증하는 작업이 포함됩니다.
[시장 세분화]
로듐 스퍼터링 타겟 시장은 종류 및 용도별로 나뉩니다. 2019-2030년 기간 동안 세그먼트 간의 시장규모에 대한 정확한 계산 및 예측을 볼륨 및 금액 측면에서 제공합니다.
종류별 시장 세그먼트
– 회전식, 비회전식
용도별 시장 세그먼트
– 반도체, 화학 증착, 물리 증착, 기타
주요 대상 기업
– American Elements, Kurt J. Lesker, Goodfellow, Stanford Advanced Materials, MSE Supplies, Changsha Xinkang Advanced Materials Corporation, Edgetech Industries, Stanford Materials Corporation, EVOCHEM Advanced Materials, Maideli Advanced Material, Fushel, XI’AN FUNCTION MATERIAL GROUP, Advanced Engineering Materials
지역 분석은 다음을 포함합니다.
– 북미 (미국, 캐나다, 멕시코)
– 유럽 (독일, 프랑스, 영국, 러시아, 이탈리아)
– 아시아 태평양 (중국, 일본, 한국, 인도, 동남아시아, 호주)
– 남미 (브라질, 아르헨티나, 콜롬비아)
– 중동 및 아프리카 (사우디아라비아, 아랍에미리트, 이집트, 남아프리카공화국)
본 조사 보고서는 아래 항목으로 구성되어 있습니다.
– 로듐 스퍼터링 타겟 제품 범위, 시장 개요, 시장 추정, 주의 사항 및 기준 연도를 설명합니다.
– 2019년부터 2024년까지 로듐 스퍼터링 타겟의 가격, 판매량, 매출 및 세계 시장 점유율과 함께 로듐 스퍼터링 타겟의 주요 제조업체를 프로파일링합니다.
– 로듐 스퍼터링 타겟 경쟁 상황, 판매량, 매출 및 주요 제조업체의 글로벌 시장 점유율이 상세하게 분석 됩니다.
– 로듐 스퍼터링 타겟 상세 데이터는 2019년부터 2030년까지 지역별 판매량, 소비금액 및 성장성을 보여주기 위해 지역 레벨로 표시됩니다.
– 2019년부터 2030년까지 판매량 시장 점유율 및 성장률을 종류별, 용도별로 분류합니다.
– 2017년부터 2023년까지 세계 주요 국가의 판매량, 소비금액 및 시장 점유율과 함께 국가 레벨로 판매 데이터를 분류하고, 2025년부터 2030년까지 판매량 및 매출과 함께 지역, 종류 및 용도별로 로듐 스퍼터링 타겟 시장 예측을 수행합니다.
– 시장 역학, 성장요인, 저해요인, 동향 및 포터의 다섯 가지 힘 분석.
– 주요 원자재 및 주요 공급 업체, 로듐 스퍼터링 타겟의 산업 체인.
– 로듐 스퍼터링 타겟 판매 채널, 유통 업체, 고객(수요기업), 조사 결과 및 결론을 설명합니다.
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■ 보고서 목차■ 시장 개요 ■ 제조업체 프로필 American Elements Kurt J. Lesker Goodfellow ■ 제조업체간 경쟁 환경 ■ 지역별 소비 분석 ■ 종류별 시장 세분화 ■ 용도별 시장 세분화 ■ 북미 ■ 유럽 ■ 아시아 태평양 ■ 남미 ■ 중동 및 아프리카 ■ 시장 역학 ■ 원자재 및 산업 체인 ■ 유통 채널별 출하량 ■ 조사 결과 [그림 목록]- 로듐 스퍼터링 타겟 이미지 - 종류별 세계의 로듐 스퍼터링 타겟 소비 금액 (2019 & 2023 & 2030) - 2023년 종류별 세계의 로듐 스퍼터링 타겟 소비 금액 시장 점유율 - 용도별 세계의 로듐 스퍼터링 타겟 소비 금액 (2019 & 2023 & 2030) - 2023년 용도별 세계의 로듐 스퍼터링 타겟 소비 금액 시장 점유율 - 세계의 로듐 스퍼터링 타겟 소비 금액 (2019 & 2023 & 2030) - 세계의 로듐 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 예측 (2019-2030) - 세계의 로듐 스퍼터링 타겟 판매량 (2019-2030) - 세계의 로듐 스퍼터링 타겟 평균 가격 (2019-2030) - 2023년 제조업체별 세계의 로듐 스퍼터링 타겟 판매량 시장 점유율 - 2023년 제조업체별 세계의 로듐 스퍼터링 타겟 소비 금액 시장 점유율 - 2023년 상위 3개 로듐 스퍼터링 타겟 제조업체(소비 금액) 시장 점유율 - 2023년 상위 6개 로듐 스퍼터링 타겟 제조업체(소비 금액) 시장 점유율 - 지역별 로듐 스퍼터링 타겟 판매량 시장 점유율 - 지역별 로듐 스퍼터링 타겟 소비 금액 시장 점유율 - 북미 로듐 스퍼터링 타겟 소비 금액 - 유럽 로듐 스퍼터링 타겟 소비 금액 - 아시아 태평양 로듐 스퍼터링 타겟 소비 금액 - 남미 로듐 스퍼터링 타겟 소비 금액 - 중동 및 아프리카 로듐 스퍼터링 타겟 소비 금액 - 세계의 종류별 로듐 스퍼터링 타겟 판매량 시장 점유율 - 세계의 종류별 로듐 스퍼터링 타겟 소비 금액 시장 점유율 - 세계의 종류별 로듐 스퍼터링 타겟 평균 가격 - 세계의 용도별 로듐 스퍼터링 타겟 판매량 시장 점유율 - 세계의 용도별 로듐 스퍼터링 타겟 소비 금액 시장 점유율 - 세계의 용도별 로듐 스퍼터링 타겟 평균 가격 - 북미 로듐 스퍼터링 타겟 종류별 판매량 시장 점유율 - 북미 로듐 스퍼터링 타겟 용도별 판매 수량 시장 점유율 - 북미 로듐 스퍼터링 타겟 국가별 판매 수량 시장 점유율 - 북미 로듐 스퍼터링 타겟 국가별 소비 금액 시장 점유율 - 미국 로듐 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 캐나다 로듐 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 멕시코 로듐 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 유럽 로듐 스퍼터링 타겟 종류별 판매량 시장 점유율 - 유럽 로듐 스퍼터링 타겟 용도별 판매량 시장 점유율 - 유럽 로듐 스퍼터링 타겟 국가별 판매량 시장 점유율 - 유럽 로듐 스퍼터링 타겟 국가별 소비 금액 시장 점유율 - 독일 로듐 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 프랑스 로듐 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 영국 로듐 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 러시아 로듐 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 이탈리아 로듐 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 아시아 태평양 로듐 스퍼터링 타겟 종류별 판매량 시장 점유율 - 아시아 태평양 로듐 스퍼터링 타겟 용도별 판매량 시장 점유율 - 아시아 태평양 로듐 스퍼터링 타겟 지역별 판매 수량 시장 점유율 - 아시아 태평양 로듐 스퍼터링 타겟 지역별 소비 금액 시장 점유율 - 중국 로듐 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 일본 로듐 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 한국 로듐 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 인도 로듐 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 동남아시아 로듐 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 호주 로듐 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 남미 로듐 스퍼터링 타겟 종류별 판매량 시장 점유율 - 남미 로듐 스퍼터링 타겟 용도별 판매량 시장 점유율 - 남미 로듐 스퍼터링 타겟 국가별 판매 수량 시장 점유율 - 남미 로듐 스퍼터링 타겟 국가별 소비 금액 시장 점유율 - 브라질 로듐 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 아르헨티나 로듐 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 중동 및 아프리카 로듐 스퍼터링 타겟 종류별 판매량 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 로듐 스퍼터링 타겟 용도별 판매량 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 로듐 스퍼터링 타겟 지역별 판매량 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 로듐 스퍼터링 타겟 지역별 소비 금액 시장 점유율 - 터키 로듐 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 이집트 로듐 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 사우디 아라비아 로듐 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 남아프리카 공화국 로듐 스퍼터링 타겟 소비 금액 및 성장률 - 로듐 스퍼터링 타겟 시장 성장 요인 - 로듐 스퍼터링 타겟 시장 제약 요인 - 로듐 스퍼터링 타겟 시장 동향 - 포터의 다섯 가지 힘 분석 - 2023년 로듐 스퍼터링 타겟의 제조 비용 구조 분석 - 로듐 스퍼터링 타겟의 제조 공정 분석 - 로듐 스퍼터링 타겟 산업 체인 - 직접 채널 장단점 - 간접 채널 장단점 - 방법론 - 조사 프로세스 및 데이터 소스 ※납품 보고서의 구성항목 및 내용은 본 페이지에 기재된 내용과 다를 수 있습니다. 보고서 주문 전에 당사에 보고서 샘플을 요청해서 구성항목 및 기재 내용을 반드시 확인하시길 바랍니다. 보고서 샘플에 없는 내용은 납품 드리는 보고서에도 포함되지 않습니다. |
| ※참고 정보 로듐 스퍼터링 타겟은 스퍼터링 공정에서 박막 증착을 위한 원료 물질로 사용되는 고순도 로듐(Rh) 금속을 의미합니다. 스퍼터링은 진공 챔버 내에서 불활성 가스(주로 아르곤)를 플라즈마 상태로 만든 후, 이 플라즈마를 이용하여 타겟 표면에 에너지를 가해 로듐 원자를 떼어내어 기판 위에 증착시키는 물리 기상 증착(PVD) 기술 중 하나입니다. 이렇게 증착된 로듐 박막은 독특한 물리적, 화학적 특성을 지니고 있어 다양한 첨단 산업 분야에서 필수적으로 사용됩니다. 로듐 스퍼터링 타겟의 가장 두드러진 특징은 그 탁월한 내식성과 내마모성입니다. 로듐은 귀금속의 하나로, 매우 안정적인 화학적 성질을 가지고 있어 강산, 강염기 등 다양한 부식성 환경에서도 변질되지 않는 뛰어난 내성을 자랑합니다. 또한, 높은 경도를 가지고 있어 마찰이나 마모에 강하므로, 잦은 접촉이나 마모가 발생하는 부품의 표면 처리에도 적합합니다. 이러한 특성은 특히 혹독한 환경에서 작동하는 전자 부품, 센서, 촉매 등에 적용될 때 그 가치를 발휘합니다. 색상 측면에서도 로듐은 은백색의 아름다운 광택을 가지고 있으며, 시간이 지나도 변색이 거의 일어나지 않아 고급스러운 외관을 유지하는 데 기여합니다. 이러한 심미적 특성은 장식용 코팅이나 고급 부품의 마감 처리에도 활용될 수 있습니다. 전기적 특성 또한 우수한 편으로, 낮은 전기 저항을 가지면서도 안정적인 전도성을 유지하여 고주파 회로나 커넥터 등 정밀한 전기적 성능이 요구되는 분야에서 신뢰성을 높여줍니다. 로듐 스퍼터링 타겟은 그 물리적 형태에 따라 크게 두 가지 종류로 나눌 수 있습니다. 첫 번째는 **평판형(Planar Target)** 타겟입니다. 이는 가장 일반적인 형태로, 평평한 디스크나 사각형 모양을 하고 있으며, 주로 로터리 타겟이나 플랫 타겟 스퍼터링 시스템에 사용됩니다. 다양한 크기와 두께로 제작이 가능하며, 비교적 대량 생산이 용이하다는 장점이 있습니다. 두 번째는 **로터리(Rotary Target)** 타겟입니다. 이는 원통형의 회전하는 타겟으로, 스퍼터링 과정 중에 회전함으로써 타겟 표면의 균일한 소모를 유도하여 박막 증착의 균일성을 향상시키는 데 특화되어 있습니다. 특히 넓은 면적에 균일한 박막을 증착해야 하는 대면적 디스플레이 제조 공정 등에서 유리하게 사용됩니다. 이 외에도 특정 공정 요구사항에 맞춰 다양한 특수 형상의 타겟이 설계 및 제작될 수 있습니다. 로듐 스퍼터링 타겟은 그 독보적인 특성 덕분에 다양한 첨단 산업 분야에서 핵심적인 역할을 수행하고 있습니다. **전자 및 반도체 산업**에서는 전기적 접점의 내식성 및 내마모성 향상을 위해 와이어 본딩 패드, 커넥터, 스위치 등의 표면 코팅에 광범위하게 사용됩니다. 특히 반도체 소자의 미세화 및 고집적화 추세에 따라 더욱 안정적이고 신뢰성 높은 전기적 접촉이 요구되며, 로듐은 이러한 요구를 충족시키는 이상적인 소재로 각광받고 있습니다. 또한, 고온 환경에서도 안정적인 전기 전도성을 유지해야 하는 센서 부품이나 고주파 회로에도 적용됩니다. **광학 산업**에서는 로듐의 높은 반사율과 안정성을 활용하여 고성능 반사 거울, 렌즈 코팅, 광섬유 커넥터 등의 표면 처리에 사용됩니다. 특히 가시광선뿐만 아니라 자외선 및 적외선 영역에서도 높은 반사율을 유지하는 특성이 있어 특정 파장의 빛을 효율적으로 반사해야 하는 정밀 광학 기기에 필수적입니다. 의료용 내시경이나 외과 수술용 도구에도 로듐 코팅이 적용되어 멸균 및 재사용 시의 내구성을 높이고 위생적인 측면을 강화합니다. **촉매 산업**에서도 로듐의 중요한 응용 분야를 찾을 수 있습니다. 자동차 배기가스 정화 장치에 사용되는 삼원 촉매의 핵심 성분 중 하나로, 불완전 연소된 탄화수소, 일산화탄소, 질소 산화물 등의 유해 물질을 산화 및 환원시켜 무해한 물질로 전환시키는 역할을 합니다. 로듐은 백금이나 팔라듐과 함께 사용되어 촉매 활성을 극대화하며, 고온 및 부식성 환경에서도 안정적으로 작동하는 중요한 역할을 합니다. 또한, 화학 산업에서는 다양한 유기 합성 반응에서 촉매로 사용되어 반응 효율을 높이고 선택성을 제어하는 데 기여합니다. 로듐 스퍼터링 타겟과 관련된 기술로는 **스퍼터링 공정 자체의 최적화**가 매우 중요합니다. 박막의 두께, 균일성, 밀도, 결정 구조 등은 스퍼터링 압력, 전력, 가스 유량, 기판 온도, 스퍼터링 시간 등 다양한 공정 변수에 의해 결정됩니다. 고품질의 로듐 박막을 얻기 위해서는 이러한 변수들을 정밀하게 제어하는 기술이 필수적입니다. 또한, **타겟 재료의 순도 관리** 역시 중요합니다. 로듐 타겟의 불순물은 박막의 전기적, 기계적, 화학적 특성에 직접적인 영향을 미치므로, 초고순도 로듐 원료를 사용하여 타겟을 제조하는 기술이 요구됩니다. **백 스퍼터링(Back Sputtering)** 기술은 스퍼터링 과정 중에 발생하는 플라즈마의 일부를 타겟의 후면에 조사하여 타겟의 표면을 깨끗하게 유지하고 박막 증착 효율을 높이는 기술입니다. 이는 타겟 표면에 오염물질이 쌓이는 것을 방지하여 일관된 스퍼터링 성능을 유지하는 데 도움이 됩니다. 또한, **마그네트론 스퍼터링(Magnetron Sputtering)**은 타겟 표면 근처에 자기장을 형성하여 전자들의 운동을 제한하고 플라즈마 밀도를 높여 증착 속도를 향상시키는 기술로, 로듐 스퍼터링 타겟 증착 시에 널리 사용됩니다. 최근에는 **저온 증착 기술**의 중요성이 커지고 있습니다. 기존의 스퍼터링 공정은 기판의 온도를 일정 수준 이상으로 유지해야 하는 경우가 많았으나, 플렉서블 디스플레이나 일부 민감한 전자 부품의 경우 저온에서의 박막 증착이 필수적입니다. 이러한 요구에 맞춰 로듐 스퍼터링 공정에서도 기판 온도를 낮추면서도 높은 품질의 박막을 얻을 수 있는 기술 개발이 이루어지고 있습니다. 또한, **이온 소스(Ion Source)**를 활용하여 이온빔을 직접 제어하거나, **반응성 스퍼터링(Reactive Sputtering)**을 통해 로듐 산화물이나 질화물과 같은 화합물 박막을 증착하는 기술도 연구 및 적용되고 있습니다. 로듐 스퍼터링 타겟은 고가의 귀금속이라는 특성상, **타겟의 효율적인 사용 및 재활용** 역시 중요한 고려사항입니다. 타겟의 소모율을 최소화하고, 사용 가능한 로듐을 최대한 회수하여 재활용하는 기술은 경제적 측면뿐만 아니라 환경적 측면에서도 중요성이 강조되고 있습니다. 요약하자면, 로듐 스퍼터링 타겟은 우수한 내식성, 내마모성, 아름다운 광택, 안정적인 전기적 특성을 바탕으로 전자, 광학, 촉매 등 다양한 첨단 산업 분야에서 핵심적인 박막 증착 소재로 활용됩니다. 평판형 및 로터리 타겟 등 다양한 형태로 제작되며, 스퍼터링 공정 기술의 발전과 함께 더욱 효율적이고 고품질의 로듐 박막을 구현하기 위한 연구가 지속적으로 이루어지고 있습니다. |
| ※본 조사보고서 [세계의 로듐 스퍼터링 타겟 시장 2024 : 기업, 종류, 용도, 시장예측] (코드 : GIR2407E44848) 판매에 관한 면책사항을 반드시 확인하세요. |
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