| ■ 영문 제목 : Global EUV Pellicle Market Growth 2024-2030 | |
![]()  | ■ 상품코드 : LPI2407D18832 ■ 조사/발행회사 : LP Information ■ 발행일 : 2024년 5월 ■ 페이지수 : 약100 ■ 작성언어 : 영어 ■ 보고서 형태 : PDF ■ 납품 방식 : E메일 (주문후 2-3일 소요) ■ 조사대상 지역 : 글로벌 ■ 산업 분야 : 부품/재료  | 
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LP Information (LPI)사의 최신 조사에 따르면, 글로벌 EUV 펠리클 시장 규모는 2023년에 미화 XXX백만 달러로 산출되었습니다. 다운 스트림 시장의 수요가 증가함에 따라 EUV 펠리클은 조사 대상 기간 동안 XXX%의 CAGR(연평균 성장율)로 2030년까지 미화 XXX백만 달러의 시장규모로 예상됩니다.
본 조사 보고서는 글로벌 EUV 펠리클 시장의 성장 잠재력을 강조합니다. EUV 펠리클은 향후 시장에서 안정적인 성장을 보일 것으로 예상됩니다. 그러나 제품 차별화, 비용 절감 및 공급망 최적화는 EUV 펠리클의 광범위한 채택을 위해 여전히 중요합니다. 시장 참여자들은 연구 개발에 투자하고, 전략적 파트너십을 구축하고, 진화하는 소비자 선호도에 맞춰 제품을 제공함으로써 EUV 펠리클 시장이 제공하는 막대한 기회를 활용해야 합니다.
[주요 특징]
EUV 펠리클 시장에 대한 보고서는 다양한 측면을 반영하고 업계에 대한 소중한 통찰력을 제공합니다.
시장 규모 및 성장: 본 조사 보고서는 EUV 펠리클 시장의 현재 규모와 성장에 대한 개요를 제공합니다. 여기에는 과거 데이터, 유형별 시장 세분화 (예 : ≥90% 투과율, 85%~90% 투과율, 80%~85% 투과율, ≤80% 투과율) 및 지역 분류가 포함될 수 있습니다.
시장 동인 및 과제: 본 보고서는 정부 규제, 환경 문제, 기술 발전 및 소비자 선호도 변화와 같은 EUV 펠리클 시장의 성장을 주도하는 요인을 식별하고 분석 할 수 있습니다. 또한 인프라 제한, 범위 불안, 높은 초기 비용 등 업계가 직면한 과제를 강조할 수 있습니다.
경쟁 환경: 본 조사 보고서는 EUV 펠리클 시장 내 경쟁 환경에 대한 분석을 제공합니다. 여기에는 주요 업체의 프로필, 시장 점유율, 전략 및 제공 제품이 포함됩니다. 본 보고서는 또한 신흥 플레이어와 시장에 대한 잠재적 영향을 강조할 수 있습니다.
기술 개발: 본 조사 보고서는 EUV 펠리클 산업의 최신 기술 개발에 대해 자세히 살펴볼 수 있습니다. 여기에는 EUV 펠리클 기술의 발전, EUV 펠리클 신규 진입자, EUV 펠리클 신규 투자, 그리고 EUV 펠리클의 미래를 형성하는 기타 혁신이 포함됩니다.
다운스트림 고객 선호도: 본 보고서는 EUV 펠리클 시장의 고객 구매 행동 및 채택 동향을 조명할 수 있습니다. 여기에는 고객의 구매 결정에 영향을 미치는 요인, EUV 펠리클 제품에 대한 선호도가 포함됩니다.
정부 정책 및 인센티브: 본 조사 보고서는 정부 정책 및 인센티브가 EUV 펠리클 시장에 미치는 영향을 분석합니다. 여기에는 규제 프레임워크, 보조금, 세금 인센티브 및 EUV 펠리클 시장을 촉진하기위한 기타 조치에 대한 평가가 포함될 수 있습니다. 본 보고서는 또한 이러한 정책이 시장 성장을 촉진하는데 미치는 효과도 분석합니다.
환경 영향 및 지속 가능성: 조사 보고서는 EUV 펠리클 시장의 환경 영향 및 지속 가능성 측면을 분석합니다.
시장 예측 및 미래 전망: 수행된 분석을 기반으로 본 조사 보고서는 EUV 펠리클 산업에 대한 시장 예측 및 전망을 제공합니다. 여기에는 시장 규모, 성장률, 지역 동향, 기술 발전 및 정책 개발에 대한 예측이 포함됩니다.
권장 사항 및 기회: 본 보고서는 업계 이해 관계자, 정책 입안자, 투자자를 위한 권장 사항으로 마무리됩니다. 본 보고서는 시장 참여자들이 새로운 트렌드를 활용하고, 도전 과제를 극복하며, EUV 펠리클 시장의 성장과 발전에 기여할 수 있는 잠재적 기회를 강조합니다.
[시장 세분화]
EUV 펠리클 시장은 종류 및 용도별로 나뉩니다. 2019-2030년 기간 동안 세그먼트 간의 성장은 종류별 및 용도별로 시장규모에 대한 정확한 계산 및 예측을 수량 및 금액 측면에서 제공합니다.
*** 종류별 세분화 ***
≥90% 투과율, 85%~90% 투과율, 80%~85% 투과율, ≤80% 투과율
*** 용도별 세분화 ***
반도체, 인쇄 배선 기판, LCD 패널, 기타
본 보고서는 또한 시장을 지역별로 분류합니다:
– 미주 (미국, 캐나다, 멕시코, 브라질)
– 아시아 태평양 (중국, 일본, 한국, 동남아시아, 인도, 호주)
– 유럽 (독일, 프랑스, 영국, 이탈리아, 러시아)
– 중동 및 아프리카 (이집트, 남아프리카 공화국, 이스라엘, 터키, GCC 국가)
아래 프로파일링 대상 기업은 주요 전문가로부터 수집한 정보를 바탕으로 해당 기업의 서비스 범위, 제품 포트폴리오, 시장 점유율을 분석하여 선정되었습니다.
Asahi Kasei, Mitsui Chemicals, Shin-Etsu, Toppan Photomasks Inc., Micro Lithography, Inc., Canatu, Micro Image, PKLT, Asahivalve, NEPCO, Samsung, S-Tech Corp.
[본 보고서에서 다루는 주요 질문]
– 글로벌 EUV 펠리클 시장의 향후 10년 전망은 어떻게 될까요?
– 전 세계 및 지역별 EUV 펠리클 시장 성장을 주도하는 요인은 무엇입니까?
– 시장과 지역별로 가장 빠르게 성장할 것으로 예상되는 분야는 무엇인가요?
– 최종 시장 규모에 따라 EUV 펠리클 시장 기회는 어떻게 다른가요?
– EUV 펠리클은 종류, 용도를 어떻게 분류합니까?
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■ 보고서 목차■ 보고서의 범위 ■ 보고서의 요약 ■ 기업별 세계 EUV 펠리클 시장분석 ■ 지역별 EUV 펠리클에 대한 추이 분석 ■ 미주 시장 ■ 아시아 태평양 시장 ■ 유럽 시장 ■ 중동 및 아프리카 시장 ■ 시장 동인, 도전 과제 및 동향 ■ 제조 비용 구조 분석 ■ 마케팅, 유통업체 및 고객 ■ 지역별 EUV 펠리클 시장 예측 ■ 주요 기업 분석 Asahi Kasei, Mitsui Chemicals, Shin-Etsu, Toppan Photomasks Inc., Micro Lithography, Inc., Canatu, Micro Image, PKLT, Asahivalve, NEPCO, Samsung, S-Tech Corp. – Asahi Kasei – Mitsui Chemicals – Shin-Etsu ■ 조사 결과 및 결론 [그림 목록]EUV 펠리클 이미지 EUV 펠리클 판매량 성장률 (2019-2030) 글로벌 EUV 펠리클 매출 성장률 (2019-2030) 지역별 EUV 펠리클 매출 (2019, 2023 및 2030) 글로벌 종류별 EUV 펠리클 판매량 시장 점유율 2023 글로벌 종류별 EUV 펠리클 매출 시장 점유율 (2019-2024) 글로벌 용도별 EUV 펠리클 판매량 시장 점유율 2023 글로벌 용도별 EUV 펠리클 매출 시장 점유율 기업별 EUV 펠리클 판매량 시장 2023 기업별 글로벌 EUV 펠리클 판매량 시장 점유율 2023 기업별 EUV 펠리클 매출 시장 2023 기업별 글로벌 EUV 펠리클 매출 시장 점유율 2023 지역별 글로벌 EUV 펠리클 판매량 시장 점유율 (2019-2024) 글로벌 EUV 펠리클 매출 시장 점유율 2023 미주 EUV 펠리클 판매량 (2019-2024) 미주 EUV 펠리클 매출 (2019-2024) 아시아 태평양 EUV 펠리클 판매량 (2019-2024) 아시아 태평양 EUV 펠리클 매출 (2019-2024) 유럽 EUV 펠리클 판매량 (2019-2024) 유럽 EUV 펠리클 매출 (2019-2024) 중동 및 아프리카 EUV 펠리클 판매량 (2019-2024) 중동 및 아프리카 EUV 펠리클 매출 (2019-2024) 미국 EUV 펠리클 시장규모 (2019-2024) 캐나다 EUV 펠리클 시장규모 (2019-2024) 멕시코 EUV 펠리클 시장규모 (2019-2024) 브라질 EUV 펠리클 시장규모 (2019-2024) 중국 EUV 펠리클 시장규모 (2019-2024) 일본 EUV 펠리클 시장규모 (2019-2024) 한국 EUV 펠리클 시장규모 (2019-2024) 동남아시아 EUV 펠리클 시장규모 (2019-2024) 인도 EUV 펠리클 시장규모 (2019-2024) 호주 EUV 펠리클 시장규모 (2019-2024) 독일 EUV 펠리클 시장규모 (2019-2024) 프랑스 EUV 펠리클 시장규모 (2019-2024) 영국 EUV 펠리클 시장규모 (2019-2024) 이탈리아 EUV 펠리클 시장규모 (2019-2024) 러시아 EUV 펠리클 시장규모 (2019-2024) 이집트 EUV 펠리클 시장규모 (2019-2024) 남아프리카 EUV 펠리클 시장규모 (2019-2024) 이스라엘 EUV 펠리클 시장규모 (2019-2024) 터키 EUV 펠리클 시장규모 (2019-2024) GCC 국가 EUV 펠리클 시장규모 (2019-2024) EUV 펠리클의 제조 원가 구조 분석 EUV 펠리클의 제조 공정 분석 EUV 펠리클의 산업 체인 구조 EUV 펠리클의 유통 채널 글로벌 지역별 EUV 펠리클 판매량 시장 전망 (2025-2030) 글로벌 지역별 EUV 펠리클 매출 시장 점유율 예측 (2025-2030) 글로벌 종류별 EUV 펠리클 판매량 시장 점유율 예측 (2025-2030) 글로벌 종류별 EUV 펠리클 매출 시장 점유율 예측 (2025-2030) 글로벌 용도별 EUV 펠리클 판매량 시장 점유율 예측 (2025-2030) 글로벌 용도별 EUV 펠리클 매출 시장 점유율 예측 (2025-2030) ※납품 보고서의 구성항목 및 내용은 본 페이지에 기재된 내용과 다를 수 있습니다. 보고서 주문 전에 당사에 보고서 샘플을 요청해서 구성항목 및 기재 내용을 반드시 확인하시길 바랍니다. 보고서 샘플에 없는 내용은 납품 드리는 보고서에도 포함되지 않습니다.  | 
| ※참고 정보 극자외선(EUV) 리소그래피 기술의 핵심 부품인 EUV 펠리클에 대해 설명드리겠습니다. EUV 펠리클은 반도체 제조 공정에서 빛의 경로를 보호하고, 마스크 손상을 방지하며, 생산 수율을 높이는 데 필수적인 역할을 합니다. **EUV 펠리클의 개념 및 중요성** 극자외선(EUV)은 파장이 13.5 나노미터(nm)로 매우 짧은 파장의 빛을 사용합니다. 이러한 짧은 파장 덕분에 미세한 회로 패턴을 더욱 정밀하게 새길 수 있어 차세대 반도체 생산에 필수적인 기술로 자리 잡고 있습니다. 하지만 EUV 광은 공기 중에 잘 흡수되고, 마스크(또는 레티클) 표면에 직접 닿을 경우 미세 입자나 오염물질에 의해 손상될 위험이 매우 높습니다. EUV 펠리클은 이러한 EUV 광이 지나가는 경로에 설치되어 마스크를 보호하는 얇은 막을 의미합니다. 마치 안경의 렌즈를 보호하는 보호 필름과 같은 역할을 한다고 생각할 수 있습니다. EUV 광은 에너지가 매우 높기 때문에, 마스크 표면의 작은 오염 입자라도 EUV 광에 의해 플라즈마화되면서 마스크 패턴을 손상시키거나 마스크 자체를 파괴할 수 있습니다. 이는 곧 반도체 웨이퍼에 결함이 발생하는 직접적인 원인이 되어 생산 수율을 크게 떨어뜨립니다. EUV 펠리클은 이러한 마스크 오염 및 손상을 근본적으로 차단하여 안정적인 EUV 리소그래피 공정을 가능하게 하는 매우 중요한 역할을 수행합니다. **EUV 펠리클의 주요 특징** EUV 펠리클이 제 역할을 수행하기 위해서는 몇 가지 매우 까다로운 기술적 요구 사항을 충족해야 합니다. 첫째, **광 투과율**입니다. EUV 광은 매우 희귀하고 값비싼 에너지원이므로, 펠리클을 통과하면서 빛이 손실되는 정도를 최소화해야 합니다. 이상적으로는 90% 이상의 높은 광 투과율을 가져야만 공정 효율성을 유지할 수 있습니다. 하지만 13.5nm의 EUV 광은 대부분의 물질에 의해 강하게 흡수되기 때문에 높은 투과율을 얻는 것이 매우 어렵습니다. 따라서 극히 얇고 투명한 소재를 사용해야 하며, 이를 위한 첨단 박막 증착 기술이 요구됩니다. 둘째, **내구성**입니다. EUV 광은 에너지가 높아 펠리클 소재에 지속적으로 조사될 경우 열화되거나 손상될 수 있습니다. 따라서 펠리클은 EUV 광에 대한 뛰어난 내구성을 가져야 하며, 장시간 사용에도 안정적인 성능을 유지해야 합니다. 또한, 펠리클은 진공 환경에서 작동되는 EUV 장비 내에서 사용되므로 고온 및 진공 환경에서의 안정성도 중요합니다. 셋째, **유해 물질 방출 방지**입니다. 펠리클 소재는 EUV 광에 의해 분해되거나 증발하면서 유해 물질을 방출해서는 안 됩니다. 만약 유해 물질이 방출된다면 이는 마스크 오염은 물론, EUV 장비 내부를 오염시켜 성능 저하를 야기할 수 있습니다. 따라서 사용되는 소재는 매우 순수해야 하며, EUV 광 조사 시에도 안정적인 화학적 특성을 유지해야 합니다. 넷째, **결함 발생 억제**입니다. 펠리클 자체에 먼지나 불순물과 같은 결함이 존재하면, 이 결함이 빛을 산란시키거나 그림자를 만들어 웨이퍼에 불필요한 패턴을 형성할 수 있습니다. 이는 수율에 치명적인 영향을 미치기 때문에, 펠리클 제조 과정에서는 극도로 높은 청정도(cleanliness)와 결함 제어 기술이 요구됩니다. **EUV 펠리클의 종류 및 소재** 현재 EUV 펠리클은 다양한 소재와 구조로 연구 및 개발되고 있으며, 크게 두 가지 접근 방식으로 나눌 수 있습니다. * **실리콘 기반 펠리클 (Silicon-based Pellicle):** 초기 EUV 펠리클 연구에서 가장 활발히 사용되었던 소재 중 하나입니다. 실리콘 질화물(SiNx)과 같은 실리콘 기반 화합물을 얇은 막으로 형성하여 사용합니다. 비교적 높은 투과율을 얻을 수 있다는 장점이 있지만, EUV 광에 대한 내구성이 다소 떨어진다는 단점이 있습니다. * **몰리브덴-실리콘 (Mo/Si) 다층막 기반 펠리클:** EUV 광은 공기 중에 흡수되는 특성이 강하므로, 펠리클 자체를 반사 거울과 유사한 구조로 만들어 EUV 광을 반사시켜 마스크로 향하게 하는 방식도 연구되고 있습니다. 몰리브덴과 실리콘을 매우 얇게 여러 층으로 쌓아 올리는 다층막 구조를 사용하는데, 이는 EUV 광을 효과적으로 반사시키면서도 투과율을 높이는 데 기여합니다. 하지만 이러한 다층막 구조는 제조가 복잡하고, 펠리클 자체의 두께가 두꺼워져 투과율 확보에 어려움이 있을 수 있습니다. 이 외에도 다양한 소재들이 연구되고 있습니다. 예를 들어, 질화물 계열의 소재나 금속 산화물 등을 활용하여 투과율과 내구성을 동시에 높이려는 시도가 이루어지고 있습니다. 각 소재는 장단점을 가지고 있으며, 현재는 어느 한 가지 소재가 완벽하다고 말하기보다는 공정 요구 사항과 경제성을 고려하여 최적의 소재를 선택하고 개발하는 과정에 있습니다. **EUV 펠리클 관련 기술** EUV 펠리클의 성공적인 개발 및 상용화를 위해서는 다음과 같은 관련 기술들이 매우 중요합니다. * **초박막 증착 기술:** 펠리클의 핵심은 극도로 얇으면서도 균일한 막을 형성하는 것입니다. 이를 위해 원자층 증착(ALD, Atomic Layer Deposition)이나 물리 기상 증착(PVD, Physical Vapor Deposition)과 같은 정밀한 박막 증착 기술이 사용됩니다. 이러한 기술은 나노미터 수준의 두께 제어를 가능하게 하여 펠리클의 광 투과율과 균일성을 확보하는 데 결정적인 역할을 합니다. * **극한 청정도 제어 기술:** EUV 펠리클은 미세한 입자 하나에도 민감하기 때문에 제조 공정 전반에 걸쳐 극도의 청정도 관리가 필수적입니다. 이를 위해 특수 클린룸 환경, 오염 방지용 도구 사용, 공정 중 오염원 제거 기술 등이 총동원됩니다. * **레이저 기반 펠리클 제거 기술 (Laser Pellicle Removal):** 일부 EUV 시스템에서는 특정 공정이나 마스크 교체 시 펠리클을 제거해야 할 필요가 있습니다. 이때 사용되는 레이저 제거 기술은 펠리클을 손상 없이 효율적으로 제거하여 마스크를 보호하는 데 사용됩니다. * **유한 요소 해석(FEA, Finite Element Analysis) 및 시뮬레이션 기술:** 펠리클이 EUV 광에 노출되었을 때 발생하는 열적, 기계적 스트레스 등을 예측하고 분석하는 데 FEA와 같은 시뮬레이션 기술이 활용됩니다. 이를 통해 펠리클 소재의 안정성을 사전에 평가하고 최적의 설계 및 소재를 선택하는 데 도움을 받을 수 있습니다. * **에칭 및 패터닝 기술:** 펠리클을 마스크 프레임에 고정시키기 위한 테두리 부분이나 특정 기능을 위한 패턴을 형성하는 데 정밀한 에칭 및 패터닝 기술이 필요합니다. 이러한 기술은 펠리클의 성능과 호환성을 결정짓는 중요한 요소입니다. **결론** EUV 펠리클은 EUV 리소그래피 기술이 성공적으로 구현되기 위한 필수적인 첨단 부품입니다. 매우 까다로운 기술적 요구 사항을 충족해야 하는 만큼, 펠리클 기술의 발전은 EUV 리소그래피의 수율과 안정성을 향상시키는 데 직접적인 영향을 미칩니다. 앞으로도 더 높은 투과율, 향상된 내구성, 그리고 완벽한 결함 제어를 갖춘 EUV 펠리클을 개발하기 위한 지속적인 연구와 기술 혁신이 이루어질 것으로 기대됩니다. 이러한 펠리클 기술의 발전은 차세대 고성능 반도체 생산의 문을 여는 데 중요한 역할을 할 것입니다.  | 
| ※본 조사보고서 [세계의 EUV 펠리클 시장 2024-2030] (코드 : LPI2407D18832) 판매에 관한 면책사항을 반드시 확인하세요. | 
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