| ■ 영문 제목 : Global Cerium Sputtering Target Market Growth 2024-2030 | |
 | ■ 상품코드 : LPI2407D9886 ■ 조사/발행회사 : LP Information ■ 발행일 : 2024년 5월 ■ 페이지수 : 약100 ■ 작성언어 : 영어 ■ 보고서 형태 : PDF ■ 납품 방식 : E메일 (주문후 2-3일 소요) ■ 조사대상 지역 : 글로벌 ■ 산업 분야 : 부품/재료 |
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LP Information (LPI)사의 최신 조사에 따르면, 글로벌 세륨 스퍼터링 타겟 시장 규모는 2023년에 미화 XXX백만 달러로 산출되었습니다. 다운 스트림 시장의 수요가 증가함에 따라 세륨 스퍼터링 타겟은 조사 대상 기간 동안 XXX%의 CAGR(연평균 성장율)로 2030년까지 미화 XXX백만 달러의 시장규모로 예상됩니다.
본 조사 보고서는 글로벌 세륨 스퍼터링 타겟 시장의 성장 잠재력을 강조합니다. 세륨 스퍼터링 타겟은 향후 시장에서 안정적인 성장을 보일 것으로 예상됩니다. 그러나 제품 차별화, 비용 절감 및 공급망 최적화는 세륨 스퍼터링 타겟의 광범위한 채택을 위해 여전히 중요합니다. 시장 참여자들은 연구 개발에 투자하고, 전략적 파트너십을 구축하고, 진화하는 소비자 선호도에 맞춰 제품을 제공함으로써 세륨 스퍼터링 타겟 시장이 제공하는 막대한 기회를 활용해야 합니다.
[주요 특징]
세륨 스퍼터링 타겟 시장에 대한 보고서는 다양한 측면을 반영하고 업계에 대한 소중한 통찰력을 제공합니다.
시장 규모 및 성장: 본 조사 보고서는 세륨 스퍼터링 타겟 시장의 현재 규모와 성장에 대한 개요를 제공합니다. 여기에는 과거 데이터, 유형별 시장 세분화 (예 : 순도 99%, 순도 99.5%, 순도 99.9%, 순도 99.95%, 순도 99.99%, 순도 99.999%) 및 지역 분류가 포함될 수 있습니다.
시장 동인 및 과제: 본 보고서는 정부 규제, 환경 문제, 기술 발전 및 소비자 선호도 변화와 같은 세륨 스퍼터링 타겟 시장의 성장을 주도하는 요인을 식별하고 분석 할 수 있습니다. 또한 인프라 제한, 범위 불안, 높은 초기 비용 등 업계가 직면한 과제를 강조할 수 있습니다.
경쟁 환경: 본 조사 보고서는 세륨 스퍼터링 타겟 시장 내 경쟁 환경에 대한 분석을 제공합니다. 여기에는 주요 업체의 프로필, 시장 점유율, 전략 및 제공 제품이 포함됩니다. 본 보고서는 또한 신흥 플레이어와 시장에 대한 잠재적 영향을 강조할 수 있습니다.
기술 개발: 본 조사 보고서는 세륨 스퍼터링 타겟 산업의 최신 기술 개발에 대해 자세히 살펴볼 수 있습니다. 여기에는 세륨 스퍼터링 타겟 기술의 발전, 세륨 스퍼터링 타겟 신규 진입자, 세륨 스퍼터링 타겟 신규 투자, 그리고 세륨 스퍼터링 타겟의 미래를 형성하는 기타 혁신이 포함됩니다.
다운스트림 고객 선호도: 본 보고서는 세륨 스퍼터링 타겟 시장의 고객 구매 행동 및 채택 동향을 조명할 수 있습니다. 여기에는 고객의 구매 결정에 영향을 미치는 요인, 세륨 스퍼터링 타겟 제품에 대한 선호도가 포함됩니다.
정부 정책 및 인센티브: 본 조사 보고서는 정부 정책 및 인센티브가 세륨 스퍼터링 타겟 시장에 미치는 영향을 분석합니다. 여기에는 규제 프레임워크, 보조금, 세금 인센티브 및 세륨 스퍼터링 타겟 시장을 촉진하기위한 기타 조치에 대한 평가가 포함될 수 있습니다. 본 보고서는 또한 이러한 정책이 시장 성장을 촉진하는데 미치는 효과도 분석합니다.
환경 영향 및 지속 가능성: 조사 보고서는 세륨 스퍼터링 타겟 시장의 환경 영향 및 지속 가능성 측면을 분석합니다.
시장 예측 및 미래 전망: 수행된 분석을 기반으로 본 조사 보고서는 세륨 스퍼터링 타겟 산업에 대한 시장 예측 및 전망을 제공합니다. 여기에는 시장 규모, 성장률, 지역 동향, 기술 발전 및 정책 개발에 대한 예측이 포함됩니다.
권장 사항 및 기회: 본 보고서는 업계 이해 관계자, 정책 입안자, 투자자를 위한 권장 사항으로 마무리됩니다. 본 보고서는 시장 참여자들이 새로운 트렌드를 활용하고, 도전 과제를 극복하며, 세륨 스퍼터링 타겟 시장의 성장과 발전에 기여할 수 있는 잠재적 기회를 강조합니다.
[시장 세분화]
세륨 스퍼터링 타겟 시장은 종류 및 용도별로 나뉩니다. 2019-2030년 기간 동안 세그먼트 간의 성장은 종류별 및 용도별로 시장규모에 대한 정확한 계산 및 예측을 수량 및 금액 측면에서 제공합니다.
*** 종류별 세분화 ***
순도 99%, 순도 99.5%, 순도 99.9%, 순도 99.95%, 순도 99.99%, 순도 99.999%
*** 용도별 세분화 ***
반도체, 화학적 기상 증착, 물리적 기상 증착, 기타
본 보고서는 또한 시장을 지역별로 분류합니다:
– 미주 (미국, 캐나다, 멕시코, 브라질)
– 아시아 태평양 (중국, 일본, 한국, 동남아시아, 인도, 호주)
– 유럽 (독일, 프랑스, 영국, 이탈리아, 러시아)
– 중동 및 아프리카 (이집트, 남아프리카 공화국, 이스라엘, 터키, GCC 국가)
아래 프로파일링 대상 기업은 주요 전문가로부터 수집한 정보를 바탕으로 해당 기업의 서비스 범위, 제품 포트폴리오, 시장 점유율을 분석하여 선정되었습니다.
American Elements, Kurt J. Lesker, NANOSHEL, Stanford Advanced Materials, Goodfellow, ALB Materials Inc, QS Advanced Materials, Edgetech Industries, Maideli Advanced Material, Beijing Goodwill Metal Tech
[본 보고서에서 다루는 주요 질문]
– 글로벌 세륨 스퍼터링 타겟 시장의 향후 10년 전망은 어떻게 될까요?
– 전 세계 및 지역별 세륨 스퍼터링 타겟 시장 성장을 주도하는 요인은 무엇입니까?
– 시장과 지역별로 가장 빠르게 성장할 것으로 예상되는 분야는 무엇인가요?
– 최종 시장 규모에 따라 세륨 스퍼터링 타겟 시장 기회는 어떻게 다른가요?
– 세륨 스퍼터링 타겟은 종류, 용도를 어떻게 분류합니까?
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■ 보고서 목차■ 보고서의 범위 ■ 보고서의 요약 ■ 기업별 세계 세륨 스퍼터링 타겟 시장분석 ■ 지역별 세륨 스퍼터링 타겟에 대한 추이 분석 ■ 미주 시장 ■ 아시아 태평양 시장 ■ 유럽 시장 ■ 중동 및 아프리카 시장 ■ 시장 동인, 도전 과제 및 동향 ■ 제조 비용 구조 분석 ■ 마케팅, 유통업체 및 고객 ■ 지역별 세륨 스퍼터링 타겟 시장 예측 ■ 주요 기업 분석 American Elements, Kurt J. Lesker, NANOSHEL, Stanford Advanced Materials, Goodfellow, ALB Materials Inc, QS Advanced Materials, Edgetech Industries, Maideli Advanced Material, Beijing Goodwill Metal Tech – American Elements – Kurt J. Lesker – NANOSHEL ■ 조사 결과 및 결론 [그림 목록]세륨 스퍼터링 타겟 이미지 세륨 스퍼터링 타겟 판매량 성장률 (2019-2030) 글로벌 세륨 스퍼터링 타겟 매출 성장률 (2019-2030) 지역별 세륨 스퍼터링 타겟 매출 (2019, 2023 및 2030) 글로벌 종류별 세륨 스퍼터링 타겟 판매량 시장 점유율 2023 글로벌 종류별 세륨 스퍼터링 타겟 매출 시장 점유율 (2019-2024) 글로벌 용도별 세륨 스퍼터링 타겟 판매량 시장 점유율 2023 글로벌 용도별 세륨 스퍼터링 타겟 매출 시장 점유율 기업별 세륨 스퍼터링 타겟 판매량 시장 2023 기업별 글로벌 세륨 스퍼터링 타겟 판매량 시장 점유율 2023 기업별 세륨 스퍼터링 타겟 매출 시장 2023 기업별 글로벌 세륨 스퍼터링 타겟 매출 시장 점유율 2023 지역별 글로벌 세륨 스퍼터링 타겟 판매량 시장 점유율 (2019-2024) 글로벌 세륨 스퍼터링 타겟 매출 시장 점유율 2023 미주 세륨 스퍼터링 타겟 판매량 (2019-2024) 미주 세륨 스퍼터링 타겟 매출 (2019-2024) 아시아 태평양 세륨 스퍼터링 타겟 판매량 (2019-2024) 아시아 태평양 세륨 스퍼터링 타겟 매출 (2019-2024) 유럽 세륨 스퍼터링 타겟 판매량 (2019-2024) 유럽 세륨 스퍼터링 타겟 매출 (2019-2024) 중동 및 아프리카 세륨 스퍼터링 타겟 판매량 (2019-2024) 중동 및 아프리카 세륨 스퍼터링 타겟 매출 (2019-2024) 미국 세륨 스퍼터링 타겟 시장규모 (2019-2024) 캐나다 세륨 스퍼터링 타겟 시장규모 (2019-2024) 멕시코 세륨 스퍼터링 타겟 시장규모 (2019-2024) 브라질 세륨 스퍼터링 타겟 시장규모 (2019-2024) 중국 세륨 스퍼터링 타겟 시장규모 (2019-2024) 일본 세륨 스퍼터링 타겟 시장규모 (2019-2024) 한국 세륨 스퍼터링 타겟 시장규모 (2019-2024) 동남아시아 세륨 스퍼터링 타겟 시장규모 (2019-2024) 인도 세륨 스퍼터링 타겟 시장규모 (2019-2024) 호주 세륨 스퍼터링 타겟 시장규모 (2019-2024) 독일 세륨 스퍼터링 타겟 시장규모 (2019-2024) 프랑스 세륨 스퍼터링 타겟 시장규모 (2019-2024) 영국 세륨 스퍼터링 타겟 시장규모 (2019-2024) 이탈리아 세륨 스퍼터링 타겟 시장규모 (2019-2024) 러시아 세륨 스퍼터링 타겟 시장규모 (2019-2024) 이집트 세륨 스퍼터링 타겟 시장규모 (2019-2024) 남아프리카 세륨 스퍼터링 타겟 시장규모 (2019-2024) 이스라엘 세륨 스퍼터링 타겟 시장규모 (2019-2024) 터키 세륨 스퍼터링 타겟 시장규모 (2019-2024) GCC 국가 세륨 스퍼터링 타겟 시장규모 (2019-2024) 세륨 스퍼터링 타겟의 제조 원가 구조 분석 세륨 스퍼터링 타겟의 제조 공정 분석 세륨 스퍼터링 타겟의 산업 체인 구조 세륨 스퍼터링 타겟의 유통 채널 글로벌 지역별 세륨 스퍼터링 타겟 판매량 시장 전망 (2025-2030) 글로벌 지역별 세륨 스퍼터링 타겟 매출 시장 점유율 예측 (2025-2030) 글로벌 종류별 세륨 스퍼터링 타겟 판매량 시장 점유율 예측 (2025-2030) 글로벌 종류별 세륨 스퍼터링 타겟 매출 시장 점유율 예측 (2025-2030) 글로벌 용도별 세륨 스퍼터링 타겟 판매량 시장 점유율 예측 (2025-2030) 글로벌 용도별 세륨 스퍼터링 타겟 매출 시장 점유율 예측 (2025-2030) ※납품 보고서의 구성항목 및 내용은 본 페이지에 기재된 내용과 다를 수 있습니다. 보고서 주문 전에 당사에 보고서 샘플을 요청해서 구성항목 및 기재 내용을 반드시 확인하시길 바랍니다. 보고서 샘플에 없는 내용은 납품 드리는 보고서에도 포함되지 않습니다. |
| ※참고 정보 세륨 스퍼터링 타겟은 스퍼터링(sputtering)이라는 물리적 증착(PVD, Physical Vapor Deposition) 기술에 사용되는 재료로, 세륨(Cerium, 원자번호 58) 금속 또는 세륨 화합물을 주성분으로 하는 원반 형태의 재료를 의미합니다. 스퍼터링은 고진공 환경에서 이온화된 불활성 가스(주로 아르곤)를 타겟에 충돌시켜 타겟 표면의 원자나 분자를 떼어내어 기판 위에 박막을 형성하는 기술입니다. 세륨 스퍼터링 타겟은 이러한 과정을 통해 세륨 또는 세륨 기반의 박막을 다양한 기판 위에 정밀하게 증착하는 데 사용됩니다. 세륨은 희토류 원소 중 하나로, 독특한 전자 구조와 화학적 특성을 가지고 있어 다양한 응용 분야에서 주목받고 있습니다. 특히, 세륨은 광학적으로 높은 투과율, 전기적으로는 우수한 전도성, 그리고 화학적으로는 높은 반응성을 나타낼 수 있습니다. 스퍼터링 타겟으로서의 세륨은 고순도 세륨 금속 형태로 사용되거나, 산화 세륨(CeO2), 질화 세륨(CeN) 등 특정 화합물 형태로 제조되어 사용될 수 있습니다. 타겟의 형태는 일반적으로 원반 모양이며, 직경, 두께, 순도, 표면 상태 등이 응용 분야 및 요구되는 박막 특성에 따라 정밀하게 관리됩니다. 세륨 스퍼터링 타겟의 주요 특징으로는 첫째, **높은 순도**를 들 수 있습니다. 스퍼터링을 통해 형성되는 박막의 품질은 타겟의 순도에 크게 좌우됩니다. 불순물이 포함될 경우 박막의 전기적, 광학적 특성이 저하되거나 예상치 못한 결함이 발생할 수 있습니다. 따라서 고성능의 세륨 기반 박막을 얻기 위해서는 99.9% 이상의 고순도 세륨 타겟이 요구됩니다. 둘째, **안정적인 증착 성능**을 제공합니다. 스퍼터링 과정에서 타겟 표면이 균일하게 에칭되어 지속적으로 안정적인 박막 증착률을 유지하는 것이 중요합니다. 이를 위해 타겟의 밀도가 높고 기계적 강성이 우수해야 하며, 표면 결함이 최소화되어야 합니다. 셋째, **다양한 박막 특성 구현 가능성**입니다. 세륨 금속뿐만 아니라 다양한 산소 부분압 또는 질소 분위기에서 스퍼터링을 수행함으로써 산화 세륨, 질화 세륨 등 다양한 조성을 가진 세륨 기반 박막을 형성할 수 있으며, 각 박막은 고유한 특성을 나타냅니다. 세륨 스퍼터링 타겟의 종류는 크게 **세륨 금속 타겟**과 **세륨 화합물 타겟**으로 나눌 수 있습니다. 세륨 금속 타겟은 고순도의 금속 세륨 자체로 만들어진 타겟이며, 주로 세륨의 금속적 특성을 활용하고자 할 때 사용됩니다. 세륨 화합물 타겟으로는 가장 대표적인 것이 **산화 세륨(CeO2) 타겟**입니다. 산화 세륨은 뛰어난 광학적 투명성과 낮은 전기 전도성을 가지며, 높은 경도와 화학적 안정성을 나타냅니다. 이러한 특성 때문에 광학 코팅이나 보호막으로 널리 활용됩니다. 또한, **질화 세륨(CeN) 타겟**도 존재하며, 이는 세륨의 질화물 형태로, 특정 전기적 특성이나 촉매 특성을 가질 수 있습니다. 타겟의 제조 방식에 따라서도 구분될 수 있는데, 분말 야금법을 통해 제조된 타겟과 용융법(금속 용해 후 주조)으로 제조된 타겟 등이 있으며, 제조 방식에 따라 밀도, 결정립 크기, 기계적 강도 등에서 차이가 나타날 수 있습니다. 타겟의 형태 역시 평판형, 회전형 등 다양한 형태로 제조될 수 있으며, 이는 스퍼터링 장비의 구조와 증착 공정의 효율성을 고려하여 선택됩니다. 세륨 스퍼터링 타겟의 용도는 매우 다양합니다. 가장 대표적인 용도 중 하나는 **광학 코팅** 분야입니다. 산화 세륨 박막은 넓은 파장 범위에서 높은 투명성을 가지며, 낮은 굴절률을 조절할 수 있어 antireflection coating(반사 방지 코팅)이나 high-reflection coating(고반사 코팅)에 사용될 수 있습니다. 또한, 연마재로도 사용되는 산화 세륨의 특성을 활용하여, 디스플레이 패널이나 렌즈 등의 표면을 연마하는 데 사용되는 플라즈마 에칭 공정에서도 세륨 관련 물질이 활용될 수 있습니다. 두 번째 주요 용도는 **전자 소자** 분야입니다. 산화 세륨은 높은 유전율을 가질 수 있어 강유전체 메모리(FeRAM)나 고유전체 박막 트랜지스터(High-k gate dielectric)의 게이트 절연막 재료로 연구되거나 활용되고 있습니다. 또한, 일부 산화 세륨 기반 물질은 전도성 또는 반도체 특성을 나타낼 수 있어 투명 전극 재료나 기타 전자 부품의 활성층으로의 응용 가능성도 탐색되고 있습니다. 세 번째 용도는 **보호 코팅** 분야입니다. 산화 세륨은 높은 경도와 우수한 내화학성을 가지고 있어 금속 부품이나 기타 재료의 표면에 증착되어 부식 방지, 내마모성 향상 등의 보호 코팅으로 사용될 수 있습니다. 특히, 항공우주, 자동차 부품 등 극한 환경에 노출되는 부품의 수명을 연장하는 데 기여할 수 있습니다. 네 번째는 **촉매** 분야입니다. 세륨은 산화-환원 반응에서 중요한 역할을 하는 것으로 알려져 있으며, 특히 산화 세륨은 촉매 담체나 자체 촉매로서 자동차 배기가스 정화 장치나 화학 반응 공정에서 활용됩니다. 스퍼터링을 통해 형성된 세륨 또는 산화 세륨 나노 구조 박막은 넓은 비표면적과 높은 활성점을 가지므로 고효율 촉매로의 응용이 기대됩니다. 다섯 번째로는 **에너지 관련 분야**에서의 응용입니다. 태양전지 효율 향상을 위한 투명 전극이나 전하 수송층으로의 가능성이 연구되고 있으며, 연료전지의 전해질 또는 전극 재료로서의 응용 또한 탐색되고 있습니다. 세륨 스퍼터링 타겟과 관련된 주요 기술로는 **스퍼터링 장비 및 공정 기술**이 있습니다. DC 스퍼터링, RF 스퍼터링, 마그네트론 스퍼터링 등 다양한 스퍼터링 소스 및 장비 구성이 사용됩니다. 박막의 조성, 결정 구조, 표면 거칠기 등을 정밀하게 제어하기 위해 스퍼터링 파워, 가스 압력, 증착 온도, 기판 바이어스 전압 등 공정 변수를 최적화하는 기술이 중요합니다. 특히, 반응성 스퍼터링(reactive sputtering)은 금속 타겟을 산소 또는 질소 분위기에서 스퍼터링하여 산화물 또는 질화물 박막을 형성하는 기술로, 산화 세륨이나 질화 세륨 박막 제조에 필수적입니다. 또한, **타겟 제조 및 가공 기술**도 중요합니다. 고순도 세륨 분말의 제조, 분말의 압축 및 소결을 통한 타겟 성형, 그리고 정밀한 기계 가공을 통해 원하는 형상과 표면 품질을 갖춘 타겟을 생산하는 기술이 요구됩니다. 타겟의 밀도, 균질성, 기계적 강도는 스퍼터링 성능에 직접적인 영향을 미치므로 매우 중요합니다. 더불어, **박막 분석 및 특성 평가 기술**도 필수적입니다. 스퍼터링된 박막의 두께, 조성, 결정 구조, 표면 형상, 전기적, 광학적 특성 등을 측정하고 분석함으로써 공정 조건을 최적화하고 제품의 품질을 보증합니다. 이를 위해 X선 회절(XRD), 주사 전자 현미경(SEM), 원자간 힘 현미경(AFM), 분광 광도계 등 다양한 분석 장비가 활용됩니다. 나아가, **고순도 세륨 원료 확보 및 정제 기술**도 세륨 스퍼터링 타겟의 근간을 이룹니다. 희토류 원소의 채굴 및 분리 정제는 복잡하고 기술 집약적인 과정이며, 고순도의 세륨 금속을 안정적으로 확보하는 것이 타겟 제조의 전제 조건이 됩니다. |
| ※본 조사보고서 [세계의 세륨 스퍼터링 타겟 시장 2024-2030] (코드 : LPI2407D9886) 판매에 관한 면책사항을 반드시 확인하세요. |
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