| ■ 영문 제목 : Horizontal LPCVD Market, Global Outlook and Forecast 2024-2030 | |
 | ■ 상품코드 : MONT2408K3145 ■ 조사/발행회사 : Market Monitor Global ■ 발행일 : 2024년 8월 ■ 페이지수 : 약100 ■ 작성언어 : 영어 ■ 보고서 형태 : PDF ■ 납품 방식 : E메일 (주문후 2-3일 소요) ■ 조사대상 지역 : 글로벌 ■ 산업 분야 : 산업기기 |
| Single User (1명 열람용) | USD3,250 ⇒환산￦4,387,500 | 견적의뢰/주문/질문 |
| Multi User (20명 열람용) | USD4,225 ⇒환산￦5,703,750 | 견적의뢰/주문/질문 |
| Enterprise User (동일기업내 공유가능) | USD4,875 ⇒환산￦6,581,250 | 견적의뢰/구입/질문 |
|
※가격옵션 설명 - 납기는 즉일~2일소요됩니다. 3일이상 소요되는 경우는 별도표기 또는 연락드립니다. - 지불방법은 계좌이체/무통장입금 또는 카드결제입니다. |
본 조사 보고서는 현재 동향, 시장 역학 및 미래 전망에 초점을 맞춰, 수평 LPCVD 시장에 대한 포괄적인 분석을 제공합니다. 본 보고서는 북미, 유럽, 아시아 태평양 및 신흥 시장과 같은 주요 지역을 포함한 전 세계 수평 LPCVD 시장을 대상으로 합니다. 또한 수평 LPCVD의 성장을 주도하는 주요 요인, 업계가 직면한 과제 및 시장 참여자를 위한 잠재적 기회도 기재합니다.
글로벌 수평 LPCVD 시장은 최근 몇 년 동안 환경 문제, 정부 인센티브 및 기술 발전의 증가로 인해 급속한 성장을 목격했습니다. 수평 LPCVD 시장은 IDM, 기타를 포함한 다양한 이해 관계자에게 기회를 제공합니다. 민간 부문과 정부 간의 협력은 수평 LPCVD 시장에 대한 지원 정책, 연구 개발 노력 및 투자를 가속화 할 수 있습니다. 또한 증가하는 소비자 수요는 시장 확장의 길을 제시합니다.
글로벌 수평 LPCVD 시장은 2023년에 미화 XXX백만 달러로 조사되었으며 2030년까지 미화 XXX백만 달러에 도달할 것으로 예상되며, 예측 기간 동안 XXX%의 CAGR로 성장할 것으로 예상됩니다.
[주요 특징]
수평 LPCVD 시장에 대한 조사 보고서에는 포괄적인 통찰력을 제공하고 이해 관계자의 의사 결정을 용이하게하는 몇 가지 주요 항목이 포함되어 있습니다.
요약 : 본 보고서는 수평 LPCVD 시장의 주요 결과, 시장 동향 및 주요 통찰력에 대한 개요를 제공합니다.
시장 개요: 본 보고서는 수평 LPCVD 시장의 정의, 역사적 추이, 현재 시장 규모를 포함한 포괄적인 개요를 제공합니다. 종류(예: 6관, 5관, 4관), 지역 및 용도별로 시장을 세분화하여 각 세그먼트 내의 주요 동인, 과제 및 기회를 중점적으로 다룹니다.
시장 역학: 본 보고서는 수평 LPCVD 시장의 성장과 발전을 주도하는 시장 역학을 분석합니다. 본 보고서에는 정부 정책 및 규정, 기술 발전, 소비자 동향 및 선호도, 인프라 개발, 업계 협력에 대한 평가가 포함되어 있습니다. 이 분석은 이해 관계자가 수평 LPCVD 시장의 궤적에 영향을 미치는 요인을 이해하는데 도움이됩니다.
경쟁 환경: 본 보고서는 수평 LPCVD 시장내 경쟁 환경에 대한 심층 분석을 제공합니다. 여기에는 주요 시장 플레이어의 프로필, 시장 점유율, 전략, 제품 포트폴리오 및 최근 동향이 포함됩니다.
시장 세분화 및 예측: 본 보고서는 종류, 지역 및 용도와 같은 다양한 매개 변수를 기반으로 수평 LPCVD 시장을 세분화합니다. 정량적 데이터 및 분석을 통해 각 세그먼트의 시장 규모와 성장 예측을 제공합니다. 이를 통해 이해 관계자가 성장 기회를 파악하고 정보에 입각한 투자 결정을 내릴 수 있습니다.
기술 동향: 본 보고서는 주요기술의 발전과 새로운 대체품 등 수평 LPCVD 시장을 형성하는 주요 기술 동향을 강조합니다. 이러한 트렌드가 시장 성장, 채택률, 소비자 선호도에 미치는 영향을 분석합니다.
시장 과제와 기회: 본 보고서는 기술적 병목 현상, 비용 제한, 높은 진입 장벽 등 수평 LPCVD 시장이 직면한 주요 과제를 파악하고 분석합니다. 또한 정부 인센티브, 신흥 시장, 이해관계자 간의 협업 등 시장 성장의 기회에 대해서도 강조합니다.
규제 및 정책 분석: 본 보고서는 정부 인센티브, 배출 기준, 인프라 개발 계획 등 수평 LPCVD에 대한 규제 및 정책 환경을 평가합니다. 이러한 정책이 시장 성장에 미치는 영향을 분석하고 향후 규제 동향에 대한 인사이트를 제공합니다.
권장 사항 및 결론: 본 보고서는 소비자, 정책 입안자, 투자자, 인프라 제공업체 등 이해관계자를 위한 실행 가능한 권고 사항으로 마무리합니다. 이러한 권장 사항은 조사 결과를 바탕으로 수평 LPCVD 시장의 주요 과제와 기회를 해결할 수 있습니다.
참고 데이터 및 부록: 보고서에는 분석 및 조사 결과를 입증하기 위한 보조 데이터, 차트, 그래프가 포함되어 있습니다. 또한 데이터 소스, 설문조사, 상세한 시장 예측과 같은 추가 세부 정보가 담긴 부록도 포함되어 있습니다.
[시장 세분화]
수평 LPCVD 시장은 종류별 및 용도별로 세분화됩니다. 2019-2030년 기간 동안 세그먼트 간의 성장은 종류별 및 용도별로 시장규모에 대한 정확한 계산 및 예측을 볼륨 및 금액 측면에서 제공합니다.
■ 종류별 시장 세그먼트
– 6관, 5관, 4관
■ 용도별 시장 세그먼트
– IDM, 기타
■ 지역별 및 국가별 글로벌 수평 LPCVD 시장 점유율, 2023년(%)
– 북미 (미국, 캐나다, 멕시코)
– 유럽 (독일, 프랑스, 영국, 이탈리아, 러시아)
– 아시아 (중국, 일본, 한국, 동남아시아, 인도)
– 남미 (브라질, 아르헨티나)
– 중동 및 아프리카 (터키, 이스라엘, 사우디 아라비아, UAE)
■ 주요 업체
– SVCS、Centrotherm、Tystar、NAURA、MKS Instruments、Laplace Energy Technology、Expertech、Qingdao Yuhao、Thermco Systems
[주요 챕터의 개요]
1 장 : 수평 LPCVD의 정의, 시장 개요를 소개
2 장 : 매출 및 판매량을 기준으로한 글로벌 수평 LPCVD 시장 규모
3 장 : 수평 LPCVD 제조업체 경쟁 환경, 가격, 판매량 및 매출 시장 점유율, 최신 동향, M&A 정보 등에 대한 자세한 분석
4 장 : 종류별 시장 분석을 제공 (각 세그먼트의 시장 규모와 성장 잠재력을 다룸)
5 장 : 용도별 시장 분석을 제공 (각 세그먼트의 시장 규모와 성장 잠재력을 다룸)
6 장 : 지역 및 국가별 수평 LPCVD 판매량. 각 지역 및 주요 국가의 시장 규모와 성장 잠재력에 대한 정량적 분석을 제공. 세계 각국의 시장 개발, 향후 개발 전망, 시장 기회을 소개
7 장 : 주요 업체의 프로필을 제공. 제품 판매, 매출, 가격, 총 마진, 제품 소개, 최근 동향 등 시장 내 주요 업체의 기본 상황을 자세히 소개
8 장 : 지역별 및 국가별 글로벌 수평 LPCVD 시장규모
9 장 : 시장 역학, 시장의 최신 동향, 시장의 추진 요인 및 제한 요인, 업계내 업체가 직면한 과제 및 리스크, 업계의 관련 정책 분석을 소개
10 장 : 산업의 업 스트림 및 다운 스트림을 포함한 산업 체인 분석
11 장 : 보고서의 주요 요점 및 결론
※납품 보고서의 구성항목 및 내용은 본 페이지에 기재된 내용과 다를 수 있습니다. 보고서 주문 전에 당사에 보고서 샘플을 요청해서 구성항목 및 기재 내용을 반드시 확인하시길 바랍니다. 보고서 샘플에 없는 내용은 납품 드리는 보고서에도 포함되지 않습니다.
■ 보고서 목차1. 조사 및 분석 보고서 소개 2. 글로벌 수평 LPCVD 전체 시장 규모 3. 기업 환경 4. 종류별 시장 분석 5. 용도별 시장 분석 6. 지역별 시장 분석 7. 제조업체 및 브랜드 프로필 SVCS、Centrotherm、Tystar、NAURA、MKS Instruments、Laplace Energy Technology、Expertech、Qingdao Yuhao、Thermco Systems SVCS Centrotherm Tystar 8. 글로벌 수평 LPCVD 생산 능력 분석 9. 주요 시장 동향, 기회, 동인 및 제약 요인 10. 수평 LPCVD 공급망 분석 11. 결론 [그림 목록]- 종류별 수평 LPCVD 세그먼트, 2023년 - 용도별 수평 LPCVD 세그먼트, 2023년 - 글로벌 수평 LPCVD 시장 개요, 2023년 - 글로벌 수평 LPCVD 시장 규모: 2023년 VS 2030년 - 글로벌 수평 LPCVD 매출, 2019-2030 - 글로벌 수평 LPCVD 판매량: 2019-2030 - 수평 LPCVD 매출 기준 상위 3개 및 5개 업체 시장 점유율, 2023년 - 글로벌 종류별 수평 LPCVD 매출, 2023년 VS 2030년 - 글로벌 종류별 수평 LPCVD 매출 시장 점유율 - 글로벌 종류별 수평 LPCVD 판매량 시장 점유율 - 글로벌 종류별 수평 LPCVD 가격 - 글로벌 용도별 수평 LPCVD 매출, 2023년 VS 2030년 - 글로벌 용도별 수평 LPCVD 매출 시장 점유율 - 글로벌 용도별 수평 LPCVD 판매량 시장 점유율 - 글로벌 용도별 수평 LPCVD 가격 - 지역별 수평 LPCVD 매출, 2023년 VS 2030년 - 지역별 수평 LPCVD 매출 시장 점유율 - 지역별 수평 LPCVD 매출 시장 점유율 - 지역별 수평 LPCVD 판매량 시장 점유율 - 북미 국가별 수평 LPCVD 매출 시장 점유율 - 북미 국가별 수평 LPCVD 판매량 시장 점유율 - 미국 수평 LPCVD 시장규모 - 캐나다 수평 LPCVD 시장규모 - 멕시코 수평 LPCVD 시장규모 - 유럽 국가별 수평 LPCVD 매출 시장 점유율 - 유럽 국가별 수평 LPCVD 판매량 시장 점유율 - 독일 수평 LPCVD 시장규모 - 프랑스 수평 LPCVD 시장규모 - 영국 수평 LPCVD 시장규모 - 이탈리아 수평 LPCVD 시장규모 - 러시아 수평 LPCVD 시장규모 - 아시아 지역별 수평 LPCVD 매출 시장 점유율 - 아시아 지역별 수평 LPCVD 판매량 시장 점유율 - 중국 수평 LPCVD 시장규모 - 일본 수평 LPCVD 시장규모 - 한국 수평 LPCVD 시장규모 - 동남아시아 수평 LPCVD 시장규모 - 인도 수평 LPCVD 시장규모 - 남미 국가별 수평 LPCVD 매출 시장 점유율 - 남미 국가별 수평 LPCVD 판매량 시장 점유율 - 브라질 수평 LPCVD 시장규모 - 아르헨티나 수평 LPCVD 시장규모 - 중동 및 아프리카 국가별 수평 LPCVD 매출 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 국가별 수평 LPCVD 판매량 시장 점유율 - 터키 수평 LPCVD 시장규모 - 이스라엘 수평 LPCVD 시장규모 - 사우디 아라비아 수평 LPCVD 시장규모 - 아랍에미리트 수평 LPCVD 시장규모 - 글로벌 수평 LPCVD 생산 능력 - 지역별 수평 LPCVD 생산량 비중, 2023년 VS 2030년 - 수평 LPCVD 산업 가치 사슬 - 마케팅 채널 ※납품 보고서의 구성항목 및 내용은 본 페이지에 기재된 내용과 다를 수 있습니다. 보고서 주문 전에 당사에 보고서 샘플을 요청해서 구성항목 및 기재 내용을 반드시 확인하시길 바랍니다. 보고서 샘플에 없는 내용은 납품 드리는 보고서에도 포함되지 않습니다. |
| ※참고 정보 ## 수평 저압 화학 기상 증착 (Horizontal LPCVD)에 대한 이해 수평 저압 화학 기상 증착(Horizontal Low-Pressure Chemical Vapor Deposition, Horizontal LPCVD)은 반도체 제조 공정에서 박막을 형성하는 데 사용되는 중요한 기술 중 하나입니다. 용광로 내에서 기판이 수평으로 배치되고, 특정 가스 혼합물을 흘려주면서 박막을 형성하는 방식으로, 기존의 수직형 LPCVD와는 다른 배치 방식에서 비롯된 특징들을 지니고 있습니다. **정의 및 기본 원리:** LPCVD는 말 그대로 낮은 압력 환경에서 화학 반응을 통해 기판 표면에 원하는 물질의 박막을 증착시키는 기술입니다. 수평 LPCVD는 이러한 LPCVD 방식 중에서도 기판의 적재 방식에 초점을 맞춘 용어입니다. 원통형의 쿼츠 튜브(quartz tube)로 이루어진 용광로 내부에 기판이 수평으로 층층이 쌓이거나, 레일을 따라 이동하면서 배치됩니다. 용광로 내부로 전구체 가스(precursor gas)와 반응 가스(reactive gas)가 주입되면, 고온의 용광로에서 이 가스들이 화학적으로 반응하여 기판 표면에 고체 형태의 박막을 형성하게 됩니다. 이때 반응은 기판 표면에서 일어나며, 부산물 가스는 용광로 외부로 배출됩니다. LPCVD는 일반적으로 물리 증착(Physical Vapor Deposition, PVD) 방식에 비해 높은 균일성과 치밀한 박막을 얻을 수 있으며, 낮은 압력에서 이루어지기 때문에 공정 중 가스의 확산이 용이하고 높은 생산성을 기대할 수 있다는 장점을 가지고 있습니다. **수평 LPCVD의 주요 특징:** 수평 LPCVD의 가장 두드러지는 특징은 **기판 배치 방식**에 있습니다. 기판을 수평으로 쌓아 올리거나 배치함으로써 다음과 같은 장점들을 얻을 수 있습니다. * **높은 처리량(High Throughput):** 동일한 용광로 부피 안에 더 많은 수의 기판을 적재할 수 있어, 한 번의 공정으로 더 많은 웨이퍼를 처리할 수 있습니다. 이는 반도체 생산 라인의 생산성을 크게 향상시키는 요소입니다. * **균일한 증착 (Uniform Deposition):** 수평으로 배치된 기판들은 용광로 내에서 가스 흐름에 비교적 영향을 덜 받아, 증착되는 박막의 두께와 물성이 웨이퍼 전반에 걸쳐 균일하게 나타나는 경향이 있습니다. 이는 미세 패턴이 집적된 반도체 소자의 성능을 결정짓는 중요한 요소입니다. * **안정적인 공정 제어:** 수평 배치는 기판 간의 상대적인 위치 변화가 적어, 가스 흐름이나 온도 분포를 보다 안정적으로 유지하고 제어하는 데 유리합니다. 이는 공정 재현성을 높이는 데 기여합니다. * **증착 온도 및 압력의 다양성:** 수평 LPCVD는 다양한 종류의 박막을 증착하기 위해 넓은 온도 범위(약 200°C ~ 1000°C)와 압력 범위(수십 mTorr ~ 수백 Torr)에서 운용될 수 있습니다. 이는 증착하고자 하는 물질의 특성과 요구되는 박막의 품질에 따라 최적의 공정 조건을 설정할 수 있게 합니다. * **다양한 전구체 가스 활용:** 수평 LPCVD는 실리콘(Si), 질화 실리콘(SiN), 산화 실리콘(SiO2), 금속(Metal) 등 다양한 종류의 박막을 증착하는 데 사용되는 다양한 전구체 가스와 반응 가스를 활용할 수 있습니다. 이는 특정 전기적, 기계적, 광학적 특성을 갖는 박막을 설계하고 구현하는 데 필수적입니다. 하지만 수평 LPCVD 역시 몇 가지 제약 사항을 가지고 있습니다. * **수직 균일성 문제 가능성:** 기판이 수평으로 쌓이는 경우, 상부 기판으로 갈수록 하부 기판에서 발생하는 반응 부산물이나 불순물이 쌓일 가능성이 상대적으로 높아질 수 있습니다. 이를 완화하기 위해 가스 공급 및 배출 방식을 정교하게 설계해야 합니다. * **기판 로딩 및 언로딩의 번거로움:** 수평으로 다수의 기판을 로딩하고 언로딩하는 과정은 수직형 LPCVD에 비해 상대적으로 더 많은 시간과 노력이 필요할 수 있습니다. 자동화된 로딩 시스템의 중요성이 더욱 부각되는 부분입니다. **수평 LPCVD의 종류:** 수평 LPCVD는 증착하는 박막의 종류와 공정 방식에 따라 다양한 변형이 존재합니다. * **실리콘 박막 증착 (Silicon Film Deposition):** * **다결정 실리콘 (Polycrystalline Silicon, Poly-Si) 증착:** 가장 대표적인 수평 LPCVD 응용 분야입니다. 실란(SiH4) 가스를 전구체로 사용하여 600°C ~ 800°C 범위의 온도에서 증착됩니다. 폴리실리콘은 반도체 소자의 게이트 전극, 메모리 소자의 커패시터 전극, 3차원 구조 형성 등 다양한 용도로 사용됩니다. 수평 LPCVD는 높은 균일성과 치밀한 결정 구조를 갖는 폴리실리콘 박막을 대량으로 생산하는 데 매우 효과적입니다. * **비정질 실리콘 (Amorphous Silicon, a-Si) 증착:** 실란 가스를 낮은 온도에서 증착하여 비정질 상태의 실리콘 박막을 얻는 방식입니다. 주로 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor, TFT) 공정 등에 활용됩니다. 수평 LPCVD는 이러한 a-Si 박막의 균일성을 확보하는 데 기여합니다. * **질화 실리콘 박막 증착 (Silicon Nitride, SiN Film Deposition):** * 실란(SiH4)과 암모니아(NH3) 또는 디실란(Si2H6)과 암모니아(NH3)를 반응시켜 질화 실리콘 박막을 증착합니다. 질화 실리콘은 전기적 절연성이 우수하고 화학적 안정성이 높아, 산화 실리콘과 함께 소자 보호막(passivation layer), 커패시터 절연막, 식각 공정에서의 마스크 등으로 널리 사용됩니다. 수평 LPCVD는 높은 밀도와 낮은 결함 밀도를 갖는 SiN 박막을 안정적으로 증착할 수 있습니다. * **산화 실리콘 박막 증착 (Silicon Dioxide, SiO2 Film Deposition):** * 실란(SiH4)과 산소(O2) 또는 아산화질소(N2O)를 반응시켜 산화 실리콘 박막을 증착합니다. 산화 실리콘은 우수한 절연 특성을 가지며, 다양한 반도체 공정에서 절연막, 소자 분리막 등으로 사용됩니다. LPCVD 방식은 고온에서 증착되어 결정 구조가 형성되지 않는 비정질 산화 실리콘을 형성하며, 높은 밀도와 균일성을 제공합니다. * **금속 박막 증착 (Metal Film Deposition):** * **텅스텐 (Tungsten, W) 증착:** 텅스텐 헥사플루오라이드(WF6) 가스를 사용하여 매우 낮은 저항과 우수한 열적 안정성을 갖는 텅스텐 박막을 증착합니다. 주로 반도체 소자의 배선, 비아(via) 채움 등에 사용됩니다. 수평 LPCVD는 복잡한 3차원 구조의 비아를 효과적으로 채울 수 있는 능력이 중요합니다. * **티타늄 나이트라이드 (Titanium Nitride, TiN) 증착:** 티타늄 테트라클로라이드(TiCl4)와 암모니아(NH3)를 사용하여 증착되는 TiN 박막은 우수한 전도성, 내마모성, 내열성을 가지며, 텅스텐 증착의 확산 방지막(diffusion barrier)이나 공정 중 오염 방지막으로 활용됩니다. **수평 LPCVD의 용도:** 수평 LPCVD는 반도체 제조의 다양한 단계에서 필수적으로 사용됩니다. * **웨이퍼 표면 처리:** 초기 웨이퍼 표면을 보호하거나 특정 기능을 부여하기 위한 박막 증착에 사용됩니다. * **소자 형성:** 트랜지스터의 게이트 전극, 커패시터의 유전체, 배선 등에 필요한 다양한 물질의 박막을 형성하는 데 핵심적인 역할을 합니다. 특히 폴리실리콘은 MOSFET의 게이트 구조 형성에 중요하게 사용됩니다. * **절연막 및 보호막 형성:** 소자 간의 전기적 간섭을 막거나 외부 환경으로부터 소자를 보호하기 위한 절연막(예: 산화 실리콘, 질화 실리콘) 형성에도 널리 활용됩니다. * **3차원 구조 형성:** 미세화 및 고집적화가 진행됨에 따라 복잡한 3차원 구조를 형성해야 하는데, 수평 LPCVD는 이러한 구조 내부까지 균일하게 박막을 채우는 데 강점을 보입니다. **관련 기술 및 발전 동향:** 수평 LPCVD는 기술의 발전에 따라 더욱 정교하고 효율적인 방식으로 발전하고 있습니다. * **대구경 용광로 (Large-Diameter Furnaces):** 더 넓은 직경의 쿼츠 튜브를 사용하여 한 번에 더 많은 웨이퍼를 수용하고 처리량을 극대화하는 방향으로 발전하고 있습니다. * **자동화 로딩 시스템 (Automated Loading Systems):** 웨이퍼의 로딩 및 언로딩 과정을 자동화하여 작업자의 개입을 최소화하고 공정의 일관성과 안전성을 높이고 있습니다. 로봇 팔 등을 이용한 정밀한 핸들링 기술이 중요합니다. * **실시간 공정 모니터링 (In-situ Process Monitoring):** 증착 과정 중에 박막의 두께, 조성, 결정 구조 등을 실시간으로 측정하고 피드백하여 공정 조건을 실시간으로 최적화하는 기술이 개발되고 있습니다. 이를 통해 불량률을 줄이고 생산 효율을 높일 수 있습니다. * **플라즈마 강화 LPCVD (Plasma-Enhanced LPCVD, PECVD):** 플라즈마를 활용하여 증착 온도를 낮추거나 증착 속도를 높이는 기술과 결합되어 사용되기도 합니다. 하지만 순수 LPCVD 방식과는 구별됩니다. * **새로운 전구체 가스 및 공정 개발:** 특정 박막의 품질을 향상시키거나 새로운 기능을 부여하기 위해 기존의 전구체 가스를 대체하거나 새로운 가스 혼합물을 사용하는 연구가 지속적으로 이루어지고 있습니다. 예를 들어, 금속 유기 화학 기상 증착(Metal-Organic Chemical Vapor Deposition, MOCVD) 기술과의 융합을 통해 더욱 다양한 금속 박막을 증착하는 시도도 있습니다. * **저온 LPCVD (Low-Temperature LPCVD):** 기존 LPCVD가 고온 공정을 요구하는 경우가 많은데, 기판의 열적 스트레스를 줄이거나 특정 물질의 증착을 위해 저온에서 운용 가능한 LPCVD 기술에 대한 연구도 활발히 진행되고 있습니다. 수평 LPCVD는 반도체 기술의 발전과 함께 끊임없이 진화하며, 앞으로도 미세화, 고집적화, 고성능화라는 반도체 산업의 요구를 충족시키는 데 중요한 역할을 수행할 것입니다. 공정의 정밀성, 생산성, 그리고 다양한 박막 증착 능력은 이 기술의 핵심적인 가치로 남아있을 것입니다. |
| ※본 조사보고서 [글로벌 수평 LPCVD 시장예측 2024-2030] (코드 : MONT2408K3145) 판매에 관한 면책사항을 반드시 확인하세요. |
| ※본 조사보고서 [글로벌 수평 LPCVD 시장예측 2024-2030] 에 대해서 E메일 문의는 여기를 클릭하세요. |