| ■ 영문 제목 : Global UHP Gas for Semiconductor Market 2024 by Manufacturers, Regions, Type and Application, Forecast to 2030 | |
 | ■ 상품코드 : GIR2407E54112 ■ 조사/발행회사 : Globalinforesearch ■ 발행일 : 2024년 7월 ■ 페이지수 : 약100 ■ 작성언어 : 영어 ■ 보고서 형태 : PDF ■ 납품 방식 : E메일 (주문후 2-3일 소요) ■ 조사대상 지역 : 글로벌 ■ 산업 분야 : 부품/재료 |
| Single User (1명 열람용) | USD3,480 ⇒환산￦4,698,000 | 견적의뢰/주문/질문 |
| Multi User (20명 열람용) | USD5,220 ⇒환산￦7,047,000 | 견적의뢰/주문/질문 |
| Corporate User (동일기업내 공유가능) | USD6,960 ⇒환산￦9,396,000 | 견적의뢰/구입/질문 |
|
※가격옵션 설명 - 납기는 즉일~2일소요됩니다. 3일이상 소요되는 경우는 별도표기 또는 연락드립니다. - 지불방법은 계좌이체/무통장입금 또는 카드결제입니다. |
조사회사 Global Info Research의 최신 조사에 따르면, 세계의 반도체용 UHP 가스 시장 규모는 2023년에 XXX백만 달러로 분석되었으며, 검토 기간 동안 xx%의 CAGR로 2030년까지 XXX백만 달러의 재조정된 규모로 성장이 예측됩니다.
Global Info Research 보고서에는 반도체용 UHP 가스 산업 체인 동향 개요, 반도체 소자, 대형 IC, 기타 응용분야 및 선진 및 개발 도상국의 주요 기업의 시장 현황, 반도체용 UHP 가스의 최첨단 기술, 특허, 최신 용도 및 시장 동향을 분석했습니다.
지역별로는 주요 지역의 반도체용 UHP 가스 시장을 분석합니다. 북미와 유럽은 정부 이니셔티브와 수요자 인식 제고에 힘입어 꾸준한 성장세를 보이고 있습니다. 아시아 태평양, 특히 중국은 탄탄한 내수 수요와 지원 정책, 강력한 제조 기반을 바탕으로 글로벌 반도체용 UHP 가스 시장을 주도하고 있습니다.
[주요 특징]
본 보고서는 반도체용 UHP 가스 시장에 대한 포괄적인 이해를 제공합니다. 본 보고서는 산업에 대한 전체적인 관점과 개별 구성 요소 및 이해 관계자에 대한 자세한 통찰력을 제공합니다. 본 보고서는 반도체용 UHP 가스 산업 내의 시장 역학, 동향, 과제 및 기회를 분석합니다. 또한, 거시적 관점에서 시장을 분석하는 것이 포함됩니다.
시장 규모 및 세분화: 본 보고서는 판매량, 매출 및 종류별 (예 : 5N, 6N, 7N, 8N, 9N)의 시장 점유율을 포함한 전체 시장 규모에 대한 데이터를 수집합니다.
산업 분석: 보고서는 정부 정책 및 규제, 기술 발전, 수요자 선호도, 시장 역학 등 광범위한 산업 동향을 분석합니다. 이 분석은 반도체용 UHP 가스 시장에 영향을 미치는 주요 동인과 과제를 이해하는데 도움이 됩니다.
지역 분석: 본 보고서에는 지역 또는 국가 단위로 반도체용 UHP 가스 시장을 조사하는 것이 포함됩니다. 보고서는 정부 인센티브, 인프라 개발, 경제 상황 및 수요자 행동과 같은 지역 요인을 분석하여 다양한 시장 내의 변화와 기회를 식별합니다.
시장 전망: 보고서는 수집된 데이터와 분석을 통해 반도체용 UHP 가스 시장에 대한 미래 전망 및 예측을 다룹니다. 여기에는 시장 성장률 추정, 시장 수요 예측, 새로운 트렌드 파악 등이 포함될 수 있습니다. 본 보고서에는 반도체용 UHP 가스에 대한 보다 세분화된 접근 방식도 포함됩니다.
기업 분석: 본 보고서는 반도체용 UHP 가스 제조업체, 공급업체 및 기타 관련 업계 플레이어를 다룹니다. 이 분석에는 재무 성과, 시장 포지셔닝, 제품 포트폴리오, 파트너십 및 전략에 대한 조사가 포함됩니다.
수요자 분석: 보고서는 반도체용 UHP 가스에 대한 수요자 행동, 선호도 및 태도에 대한 데이터를 다룹니다. 여기에는 설문 조사, 인터뷰 및 응용 분야별 (반도체 소자, 대형 IC, 기타)의 다양한 수요자 리뷰 및 피드백 분석이 포함될 수 있습니다.
기술 분석: 반도체용 UHP 가스과 관련된 특정 기술을 다루는 보고서입니다. 반도체용 UHP 가스 분야의 현재 상황 및 잠재적 미래 발전 가능성을 평가합니다.
경쟁 환경: 본 보고서는 개별 기업, 공급업체 및 수요업체를 분석하여 반도체용 UHP 가스 시장의 경쟁 환경에 대한 통찰력을 제공합니다. 이 분석은 시장 점유율, 경쟁 우위 및 업계 플레이어 간의 차별화 가능성을 이해하는 데 도움이 됩니다.
시장 검증: 본 보고서에는 설문 조사, 인터뷰 및 포커스 그룹과 같은 주요 조사를 통해 결과 및 예측을 검증하는 작업이 포함됩니다.
[시장 세분화]
반도체용 UHP 가스 시장은 종류 및 용도별로 나뉩니다. 2019-2030년 기간 동안 세그먼트 간의 시장규모에 대한 정확한 계산 및 예측을 볼륨 및 금액 측면에서 제공합니다.
종류별 시장 세그먼트
– 5N, 6N, 7N, 8N, 9N
용도별 시장 세그먼트
– 반도체 소자, 대형 IC, 기타
주요 대상 기업
– Air Products, Air Liquide, Linde Group, Jinhong Group, Huate Gas, BOC, Taiyo Nippon Sanso, Messer Group, Hangyang, Yingde Gases
지역 분석은 다음을 포함합니다.
– 북미 (미국, 캐나다, 멕시코)
– 유럽 (독일, 프랑스, 영국, 러시아, 이탈리아)
– 아시아 태평양 (중국, 일본, 한국, 인도, 동남아시아, 호주)
– 남미 (브라질, 아르헨티나, 콜롬비아)
– 중동 및 아프리카 (사우디아라비아, 아랍에미리트, 이집트, 남아프리카공화국)
본 조사 보고서는 아래 항목으로 구성되어 있습니다.
– 반도체용 UHP 가스 제품 범위, 시장 개요, 시장 추정, 주의 사항 및 기준 연도를 설명합니다.
– 2019년부터 2024년까지 반도체용 UHP 가스의 가격, 판매량, 매출 및 세계 시장 점유율과 함께 반도체용 UHP 가스의 주요 제조업체를 프로파일링합니다.
– 반도체용 UHP 가스 경쟁 상황, 판매량, 매출 및 주요 제조업체의 글로벌 시장 점유율이 상세하게 분석 됩니다.
– 반도체용 UHP 가스 상세 데이터는 2019년부터 2030년까지 지역별 판매량, 소비금액 및 성장성을 보여주기 위해 지역 레벨로 표시됩니다.
– 2019년부터 2030년까지 판매량 시장 점유율 및 성장률을 종류별, 용도별로 분류합니다.
– 2017년부터 2023년까지 세계 주요 국가의 판매량, 소비금액 및 시장 점유율과 함께 국가 레벨로 판매 데이터를 분류하고, 2025년부터 2030년까지 판매량 및 매출과 함께 지역, 종류 및 용도별로 반도체용 UHP 가스 시장 예측을 수행합니다.
– 시장 역학, 성장요인, 저해요인, 동향 및 포터의 다섯 가지 힘 분석.
– 주요 원자재 및 주요 공급 업체, 반도체용 UHP 가스의 산업 체인.
– 반도체용 UHP 가스 판매 채널, 유통 업체, 고객(수요기업), 조사 결과 및 결론을 설명합니다.
※납품 보고서의 구성항목 및 내용은 본 페이지에 기재된 내용과 다를 수 있습니다. 보고서 주문 전에 당사에 보고서 샘플을 요청해서 구성항목 및 기재 내용을 반드시 확인하시길 바랍니다. 보고서 샘플에 없는 내용은 납품 드리는 보고서에도 포함되지 않습니다.
■ 보고서 목차■ 시장 개요 ■ 제조업체 프로필 Air Products Air Liquide Linde Group ■ 제조업체간 경쟁 환경 ■ 지역별 소비 분석 ■ 종류별 시장 세분화 ■ 용도별 시장 세분화 ■ 북미 ■ 유럽 ■ 아시아 태평양 ■ 남미 ■ 중동 및 아프리카 ■ 시장 역학 ■ 원자재 및 산업 체인 ■ 유통 채널별 출하량 ■ 조사 결과 [그림 목록]- 반도체용 UHP 가스 이미지 - 종류별 세계의 반도체용 UHP 가스 소비 금액 (2019 & 2023 & 2030) - 2023년 종류별 세계의 반도체용 UHP 가스 소비 금액 시장 점유율 - 용도별 세계의 반도체용 UHP 가스 소비 금액 (2019 & 2023 & 2030) - 2023년 용도별 세계의 반도체용 UHP 가스 소비 금액 시장 점유율 - 세계의 반도체용 UHP 가스 소비 금액 (2019 & 2023 & 2030) - 세계의 반도체용 UHP 가스 소비 금액 및 예측 (2019-2030) - 세계의 반도체용 UHP 가스 판매량 (2019-2030) - 세계의 반도체용 UHP 가스 평균 가격 (2019-2030) - 2023년 제조업체별 세계의 반도체용 UHP 가스 판매량 시장 점유율 - 2023년 제조업체별 세계의 반도체용 UHP 가스 소비 금액 시장 점유율 - 2023년 상위 3개 반도체용 UHP 가스 제조업체(소비 금액) 시장 점유율 - 2023년 상위 6개 반도체용 UHP 가스 제조업체(소비 금액) 시장 점유율 - 지역별 반도체용 UHP 가스 판매량 시장 점유율 - 지역별 반도체용 UHP 가스 소비 금액 시장 점유율 - 북미 반도체용 UHP 가스 소비 금액 - 유럽 반도체용 UHP 가스 소비 금액 - 아시아 태평양 반도체용 UHP 가스 소비 금액 - 남미 반도체용 UHP 가스 소비 금액 - 중동 및 아프리카 반도체용 UHP 가스 소비 금액 - 세계의 종류별 반도체용 UHP 가스 판매량 시장 점유율 - 세계의 종류별 반도체용 UHP 가스 소비 금액 시장 점유율 - 세계의 종류별 반도체용 UHP 가스 평균 가격 - 세계의 용도별 반도체용 UHP 가스 판매량 시장 점유율 - 세계의 용도별 반도체용 UHP 가스 소비 금액 시장 점유율 - 세계의 용도별 반도체용 UHP 가스 평균 가격 - 북미 반도체용 UHP 가스 종류별 판매량 시장 점유율 - 북미 반도체용 UHP 가스 용도별 판매 수량 시장 점유율 - 북미 반도체용 UHP 가스 국가별 판매 수량 시장 점유율 - 북미 반도체용 UHP 가스 국가별 소비 금액 시장 점유율 - 미국 반도체용 UHP 가스 소비 금액 및 성장률 - 캐나다 반도체용 UHP 가스 소비 금액 및 성장률 - 멕시코 반도체용 UHP 가스 소비 금액 및 성장률 - 유럽 반도체용 UHP 가스 종류별 판매량 시장 점유율 - 유럽 반도체용 UHP 가스 용도별 판매량 시장 점유율 - 유럽 반도체용 UHP 가스 국가별 판매량 시장 점유율 - 유럽 반도체용 UHP 가스 국가별 소비 금액 시장 점유율 - 독일 반도체용 UHP 가스 소비 금액 및 성장률 - 프랑스 반도체용 UHP 가스 소비 금액 및 성장률 - 영국 반도체용 UHP 가스 소비 금액 및 성장률 - 러시아 반도체용 UHP 가스 소비 금액 및 성장률 - 이탈리아 반도체용 UHP 가스 소비 금액 및 성장률 - 아시아 태평양 반도체용 UHP 가스 종류별 판매량 시장 점유율 - 아시아 태평양 반도체용 UHP 가스 용도별 판매량 시장 점유율 - 아시아 태평양 반도체용 UHP 가스 지역별 판매 수량 시장 점유율 - 아시아 태평양 반도체용 UHP 가스 지역별 소비 금액 시장 점유율 - 중국 반도체용 UHP 가스 소비 금액 및 성장률 - 일본 반도체용 UHP 가스 소비 금액 및 성장률 - 한국 반도체용 UHP 가스 소비 금액 및 성장률 - 인도 반도체용 UHP 가스 소비 금액 및 성장률 - 동남아시아 반도체용 UHP 가스 소비 금액 및 성장률 - 호주 반도체용 UHP 가스 소비 금액 및 성장률 - 남미 반도체용 UHP 가스 종류별 판매량 시장 점유율 - 남미 반도체용 UHP 가스 용도별 판매량 시장 점유율 - 남미 반도체용 UHP 가스 국가별 판매 수량 시장 점유율 - 남미 반도체용 UHP 가스 국가별 소비 금액 시장 점유율 - 브라질 반도체용 UHP 가스 소비 금액 및 성장률 - 아르헨티나 반도체용 UHP 가스 소비 금액 및 성장률 - 중동 및 아프리카 반도체용 UHP 가스 종류별 판매량 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 반도체용 UHP 가스 용도별 판매량 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 반도체용 UHP 가스 지역별 판매량 시장 점유율 - 중동 및 아프리카 반도체용 UHP 가스 지역별 소비 금액 시장 점유율 - 터키 반도체용 UHP 가스 소비 금액 및 성장률 - 이집트 반도체용 UHP 가스 소비 금액 및 성장률 - 사우디 아라비아 반도체용 UHP 가스 소비 금액 및 성장률 - 남아프리카 공화국 반도체용 UHP 가스 소비 금액 및 성장률 - 반도체용 UHP 가스 시장 성장 요인 - 반도체용 UHP 가스 시장 제약 요인 - 반도체용 UHP 가스 시장 동향 - 포터의 다섯 가지 힘 분석 - 2023년 반도체용 UHP 가스의 제조 비용 구조 분석 - 반도체용 UHP 가스의 제조 공정 분석 - 반도체용 UHP 가스 산업 체인 - 직접 채널 장단점 - 간접 채널 장단점 - 방법론 - 조사 프로세스 및 데이터 소스 ※납품 보고서의 구성항목 및 내용은 본 페이지에 기재된 내용과 다를 수 있습니다. 보고서 주문 전에 당사에 보고서 샘플을 요청해서 구성항목 및 기재 내용을 반드시 확인하시길 바랍니다. 보고서 샘플에 없는 내용은 납품 드리는 보고서에도 포함되지 않습니다. |
| ※참고 정보 ## 반도체용 초고순도 가스(UHP Gas for Semiconductor)의 이해 반도체 산업은 현대 기술 문명의 근간을 이루는 핵심 산업으로서, 그 발전은 나노미터 수준의 정밀한 공정을 통해 이루어집니다. 이러한 미세한 공정을 가능하게 하는 필수적인 요소 중 하나가 바로 ‘초고순도 가스(Ultra-High Purity Gas, UHP Gas)’입니다. 초고순도 가스는 이름 그대로 극도로 높은 순도를 가진 기체를 의미하며, 반도체 제조 공정에서 발생하는 불순물이 웨이퍼 표면에 미치는 영향을 최소화하여 소자의 성능과 수율을 결정짓는 매우 중요한 역할을 수행합니다. 초고순도 가스의 정의는 그 중요성만큼이나 엄격하게 관리됩니다. 일반적으로 ppb(parts per billion, 10억 분의 1) 또는 ppt(parts per trillion, 1조 분의 1) 수준 이하의 불순물을 함유하는 가스를 지칭합니다. 이는 일반적인 산업용 가스에 비해 수천 배에서 수만 배 이상 정제된 수준으로, 미세한 금속 이온, 산소, 수분, 탄소 화합물 등 육안으로는 감지할 수도 없는 미량의 불순물조차도 반도체 소자의 전기적 특성을 치명적으로 저하시킬 수 있기 때문에 철저한 관리가 요구됩니다. 예를 들어, 단 하나의 금속 이온 오염만으로도 트랜지스터의 문턱 전압이 변화하거나 누설 전류가 증가하여 반도체 소자가 오작동할 수 있습니다. 따라서 초고순도 가스의 생산, 저장, 운송, 사용에 이르는 모든 과정에서 오염 방지를 위한 최고 수준의 기술과 노력이 동반되어야 합니다. 초고순도 가스가 반도체 공정에서 지니는 특징은 다음과 같습니다. 첫째, **극도의 순도**입니다. 앞서 언급했듯이 ppb 또는 ppt 수준의 순도는 반도체 제조의 핵심 요구사항입니다. 이러한 높은 순도는 전기적 특성의 안정성과 예측 가능성을 보장하며, 회로의 미세화 및 고집적화 추세에 발맞춰 지속적으로 향상되고 있습니다. 둘째, **안정적인 공급 능력**입니다. 반도체 생산 라인은 24시간 끊임없이 가동되어야 하므로, 초고순도 가스의 안정적인 공급은 생산 차질을 방지하는 데 필수적입니다. 이를 위해 가스 제조 및 공급 업체들은 첨단 정제 기술과 더불어 철저한 품질 관리 시스템을 구축하고, 예비 공급 시스템 및 비상 대응 체계를 갖추고 있습니다. 셋째, **엄격한 취급 및 관리**입니다. 초고순도 가스는 특성상 오염에 매우 민감하기 때문에, 가스 자체의 순도뿐만 아니라 가스가 접촉하는 모든 설비(배관, 밸브, 필터 등) 또한 초고순도 재질로 제작되고 특수 처리되어야 합니다. 또한, 가스 실린더나 저장 탱크의 재질 선택, 용접 방식, 내부 표면 처리 등 세밀한 부분까지도 오염원을 제거하기 위한 특별한 공정이 적용됩니다. 반도체 공정에서 사용되는 초고순도 가스의 종류는 매우 다양하며, 각 공정 단계의 요구사항에 따라 특화된 가스가 사용됩니다. 크게 나누어 **공정 가스(Process Gas)**와 **예비 가스(Support Gas)**로 구분할 수 있습니다. **공정 가스**는 반도체 소자의 구조를 형성하거나 특정 기능을 부여하는 직접적인 역할을 수행하는 가스입니다. 증착(Deposition) 공정에서는 실리콘 원자나 전구체(precursor)를 공급하여 얇은 박막을 형성하는 데 사용됩니다. 예를 들어, 저온 화학 기상 증착(Low-Pressure Chemical Vapor Deposition, LPCVD)이나 유도 결합 플라즈마 화학 기상 증착(Inductively Coupled Plasma Chemical Vapor Deposition, ICP-CVD) 공정에서는 실리콘을 포함하는 다양한 가스들이 사용됩니다. **실란(SiH4)**은 실리콘 산화막이나 질화막을 증착하는 데 널리 사용되는 대표적인 가스이며, **디실란(Si2H6)**은 실리콘 박막의 증착 속도를 높이거나 낮은 온도에서 증착이 가능하게 하는 장점이 있습니다. 또한, 게이트 산화막 형성에 사용되는 **산소(O2)**는 반도체급 순도로 정제되어 사용되며, 고유전율(High-k) 물질을 증착하는 데 사용되는 **하프늄(Hf)** 또는 **지르코늄(Zr)** 함유 가스, 트랜지스터의 게이트 전극으로 사용되는 **금속(Metal)** 함유 가스 등도 있습니다. 식각(Etching) 공정에서는 불필요한 부분을 제거하여 회로 패턴을 형성하는 데 사용됩니다. 건식 식각(Dry Etching) 공정에서는 플라즈마를 이용하여 가스를 이온화시킨 후, 이 이온들이 웨이퍼 표면을 물리적, 화학적으로 식각합니다. **염소(Cl2)** 및 **불소(F2)** 계열 가스들은 실리콘, 질화규소 등 다양한 물질을 식각하는 데 사용됩니다. 예를 들어, **사불화탄소(CF4)**, **육불화에탄(C2F6)**, **옥타플루오로부탄(C4F8)**과 같은 플루오린계 가스는 실리콘 산화막이나 질화막 식각에 효과적입니다. 또한, 금속 배선 형성 시 사용되는 **염화수소(HCl)**, **염소(Cl2)**, **브롬화수소(HBr)** 등의 할로겐 계열 가스들도 중요한 역할을 합니다. 이 외에도, 반도체 제조 공정에는 다양한 종류의 초고순도 가스가 사용됩니다. **질소(N2)**는 불활성 분위기를 조성하여 산화나 기타 원치 않는 반응을 방지하는 데 필수적으로 사용됩니다. 특히, 증착, 열처리, 패키징 등 다양한 공정에서 용접이나 불활성 환경을 조성하는 데 광범위하게 사용됩니다. **아르곤(Ar)** 또한 질소와 유사하게 불활성 가스로 사용되며, 플라즈마 생성 및 공정 환경 제어에 활용됩니다. **수소(H2)**는 환원 분위기를 조성하거나 실리콘 표면의 수소를 제거하는 데 사용되며, 특히 고온 공정에서 중요한 역할을 합니다. **암모니아(NH3)**는 질화막 형성이나 질소 도핑에 사용됩니다. **예비 가스**는 공정 가스를 전달하거나, 장비를 세척하거나, 환경을 제어하는 등 공정 자체에는 직접적으로 참여하지 않지만, 안정적인 공정 수행을 위해 필수적인 가스입니다. 주로 고압의 **질소(N2)**나 **아르곤(Ar)**이 사용되어 배관 내 공기를 치환하거나 purging하는 데 사용됩니다. 또한, **수소(H2)**는 장비 내부를 환원시켜 불순물을 제거하는 데 사용되기도 합니다. 초고순도 가스 관련 기술은 단순히 가스를 정제하는 기술뿐만 아니라, 가스의 **생산(Production)**, **정제(Purification)**, **분석(Analysis)**, **저장(Storage)**, **운송(Transportation)**, 그리고 **사용(Application)**에 이르기까지 전 과정에 걸쳐 매우 복잡하고 정교한 기술들이 집약되어 있습니다. **생산** 단계에서는 천연 가스나 석유화학 공정의 부산물로부터 가스를 추출하거나 합성하는데, 이 과정부터 불순물의 유입을 최소화하는 것이 중요합니다. **정제** 기술은 초고순도 가스 생산의 핵심 기술입니다. 흡착, 증류, 막 분리, 전기화학적 정제 등 다양한 물리화학적 원리를 이용한 정제 공정이 적용됩니다. 예를 들어, 활성탄이나 제올라이트와 같은 흡착제를 사용하여 미량의 불순물을 제거하거나, 극저온에서 가스를 분별 증류하여 순도를 높이는 방식이 사용됩니다. 또한, 금속 불순물을 제거하기 위해 특수한 촉매나 흡착제를 사용하는 기술도 중요합니다. **분석** 기술은 생산된 가스의 순도를 확인하고 불순물을 정확하게 측정하는 데 필수적입니다. 가스 크로마토그래피(Gas Chromatography, GC)와 질량 분석기(Mass Spectrometry, MS)를 결합한 GC-MS는 ppb 또는 ppt 수준의 미량 불순물을 정밀하게 분석하는 데 널리 사용됩니다. 또한, 유도 결합 플라즈마 질량 분석기(Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry, ICP-MS)는 금속 불순물을 극미량까지 분석하는 데 탁월한 성능을 보입니다. 이러한 분석 결과는 가스의 품질을 보증하고 공정 상의 문제를 사전에 예방하는 데 중요한 정보를 제공합니다. **저장 및 운송** 기술 역시 매우 중요합니다. 초고순도 가스는 특수 재질의 실린더나 저장 탱크에 고압으로 저장되며, 이러한 용기는 내부 표면이 매우 매끄럽고 오염 물질이 흡착되지 않도록 특수 처리됩니다. 배관 시스템 또한 스테인리스 스틸과 같은 내식성 및 내화학성이 우수한 재질로 제작되며, 용접 부위는 완벽하게 밀봉되어야 합니다. 또한, 가스 공급 시스템에서는 사용 전 최종 필터링을 통해 미세 입자나 불순물을 제거하는 과정을 거칩니다. 결론적으로, 반도체용 초고순도 가스는 단순한 소모품을 넘어 반도체 제조 공정의 성공을 좌우하는 핵심 요소입니다. 극도의 순도 요구사항을 충족시키기 위한 첨단 생산, 정제, 분석, 취급 기술은 반도체 산업의 지속적인 발전과 함께 끊임없이 진화하고 있으며, 이는 미래 첨단 기술 구현의 초석이 될 것입니다. |
| ※본 조사보고서 [세계의 반도체용 UHP 가스 시장 2024 : 기업, 종류, 용도, 시장예측] (코드 : GIR2407E54112) 판매에 관한 면책사항을 반드시 확인하세요. |
| ※본 조사보고서 [세계의 반도체용 UHP 가스 시장 2024 : 기업, 종류, 용도, 시장예측] 에 대해서 E메일 문의는 여기를 클릭하세요. |